CN115275074A - 掩膜版组件、oled显示屏制备工艺及oled显示屏 - Google Patents

Abstract

本公开是关于一种掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏。该掩膜版组件用于放置在OLED显示屏的基板上，以在基板上形成功能层，功能层具有呈预设图形的镂空区域；掩膜版组件包括第一遮挡单元和第二遮挡单元。第一遮挡单元包括第一遮挡部和与第一遮挡部相连的第二遮挡部，第二遮挡部的遮挡面积小于第一遮挡部的遮挡面积。第二遮挡单元包括第三遮挡部和第四遮挡部，第四遮挡部的遮挡面积小于第三遮挡部的遮挡面积。第一遮挡部和第三遮挡部在基板上的遮挡区域互不重合，且拼接成的遮挡区域覆盖基板。第二遮挡部和第四遮挡部在基板上的遮挡区域拼接呈预设图形。

Description

掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏

技术领域

本公开涉及OLED显示屏技术领域，特别涉及一种掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏广泛应用于手机、平板电脑等电子设备中。为了满足电子设备高屏占比的技术需求，现有技术提供了一种具有屏内开孔的OLED显示屏。该显示屏中开孔处用于对应电子设备中的光学器件设置，以在满足光学器件工作的前提下提高显示屏的屏占比。

但是，相关技术中在制备具有屏内开孔的OLED显示屏时，存在工艺难度大、成本高的缺陷，具有进一步改进的空间。

发明内容

本公开提供了一种掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏，以解决相关技术中的技术缺陷。

第一方面，本公开实施例提供了一种掩膜版组件，所述掩膜版组件用于放置在OLED显示屏的基板上，以在所述基板上形成功能层，所述功能层具有呈预设图形的镂空区域；

所述掩膜版组件包括第一遮挡单元和第二遮挡单元；

所述第一遮挡单元包括第一遮挡部和与第一遮挡部相连的第二遮挡部，所述第二遮挡部的遮挡面积小于所述第一遮挡部的遮挡面积；

所述第二遮挡单元包括第三遮挡部和第四遮挡部，所述第四遮挡部的遮挡面积小于所述第三遮挡部的遮挡面积；

所述第一遮挡部和所述第三遮挡部在所述基板上的遮挡区域互不重合，且拼接成的遮挡区域覆盖所述基板；

所述第二遮挡部和所述第四遮挡部在所述基板上的遮挡区域拼接呈所述预设图形。

在至少一个实施例中，所述第一遮挡部和所述第三遮挡部用于遮挡所述基板的一半。

在至少一个实施例中，所述第二遮挡部和所述第四遮挡部为所述预设图形的一半。

在至少一个实施例中，所述掩膜版组件包括相互独立的第一掩膜版单体和第二掩膜版单体；

所述第一掩膜版单体包括所述第一遮挡单元，所述第二掩膜版单体包括所述第二遮挡单元。

在至少一个实施例中，所述掩膜版组件包括一个所述掩膜版单体，所述掩膜版单体包括所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元。

在至少一个实施例中，在所述掩膜版单体中，所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元沿预设方向间隔分布。

第二方面，本公开实施例提供了一种OLED显示屏制备工艺，所述工艺采用上述第一方面提供的掩膜版组件；所述工艺包括：

制备OLED显示屏的基板；

将所述掩膜版组件覆盖在所述基板上，在所述基板未被第一遮挡单元或第二遮挡单元遮挡的部分形成第一子功能层；

调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元遮挡的部分形成第二子功能层，所述第二子功能层与所述第一子功能层相接成功能层；所述功能层选自：空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、以及阴极层中的至少一种。

在至少一个实施例中，所述掩膜版组件包括第一掩膜版单体和第二掩膜版单体；所述调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，包括：

将所述第一掩膜版单体和所述第二掩膜版单体中未使用的一个遮挡所述基板上的第一子功能层。

在至少一个实施例中，所述掩膜版组件包括一个掩膜版单体，所述调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，包括：

调整所述掩膜版单体在所述基板上的覆盖位置，将所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元遮挡所述第一子功能层。

在至少一个实施例中，在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元覆盖的部分形成功能层，包括：

在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元覆盖的部分蒸镀上所述功能层。

第三方面，本公开实施例提供了一种OLED显示屏，所述OLED显示屏采用上述第二方面提供的OLED显示屏制备工艺制备；所述OLED显示屏包括：

基板；

阳极层，设置在所述基板上，并具有第一镂空区域；

有机发光层，设置在所述阳极层远离所述基板的一侧；以及

阴极层，设置在所述有机发光层远离所述阳极层的一侧，并具有第二镂空区域，所述第二镂空区域对应所述第一镂空区域设置。

本公开所提供的掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏至少具有以下有益效果：

采用本公开实施例提供的掩膜版组件，能够在OLED显示屏的基板上形成具有镂空区域的功能层。该掩膜版组件使用便捷，组件便于制造、成本较低，无需在OLED显示屏制备工艺中增加大型设备，保障了整体制备工艺的成本和可操作性。并且，采用该掩膜版组件的遮挡性能，无需通过额外工序去除功能层，进而避免形成固体颗粒，保障所制备OLED显示屏的良品率。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是根据一示例性实施例示出的的OLED显示屏的剖面示意图；

图2-1和图2-2是根据一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图；

图3-1和图3-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图；

图4-1和图4-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图；

图5-1和图5-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图；

图6是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图；

图7是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程图；

图8-1和图8-2是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程中不同状态示意图；

图9-1和图9-2是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程中不同状态示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施例并不代表与本公开相一致的所有实施例。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。除非另作定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。除非另行指出，“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的组件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的组件或者物件及其等同，并不排除其他组件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

在本公开说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

相关技术中，具有盲孔的OLED显示屏采用激光烧蚀等方式去除OLED中功能层上的预设区域部分，以形成盲孔。但是采用这样方式，需要在显示屏生产线上额外配置激光镭射设备，并且存在工艺参数调节难度大的缺陷。并且，采用激光烧蚀去除功能层上预设区域时，存在颗粒碎屑，这些颗粒碎屑会附着在功能层上，影响功能层的正常运作，进而影响OLED显示屏的显示效果。

基于上述情况，本公开实施例提供了一种掩膜版组件、OLED显示屏制备工艺及OLED显示屏。其中，掩膜版组件用于OLED制备工艺。

首先，介绍采用本公开实施例提供的掩膜版组件制备的OLED显示屏的结构。图1是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏的剖面示意图。如图1所示，OLED显示屏200包括：基板210、阳极层220、有机发光层230以及阴极层240。其中，阳极层220具有第一镂空区域221，阴极层240具有第二镂空区域241，第一镂空区域221和第二镂空区域241对应设置，以形成OLED显示屏的盲孔。其中，OLED显示屏对应盲孔之外的区域，用于显示图像。OLED显示屏对应盲孔的区域无法进行显示，用于光学器件配合，使得光学器件接收OLED显示屏外部的光线。

此外，可选地，在阳极层220和有机发光层230之间设置有空穴注入层和/或空穴传输层，在阴极340和有机发光层230之间设置有电子注入层和/或电子传输层。在公开实施例中，OLED显示屏的功能层包括：空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、以及阴极层中的至少一种。

本公开实施例提供的掩膜版组件用于OLED制备工艺。具体地，该掩膜版组件用于放置在OLED显示屏的基板上，以在基板210上形成具有镂空区域的功能层。其中，功能层的镂空区域呈预设图形，例如圆形、椭圆形、方形等。

图2-1和图2-2是根据一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图。如图2-1和图2-2所示，掩膜版组件100包括第一遮挡单元110a和第二遮挡单元110b。其中，第一遮挡单元110a包括第一遮挡部111a和与第一遮挡部110a相连的第二遮挡部112a，第二遮挡部112a的遮挡面积小于第一遮挡部111a的遮挡面积。第二遮挡单元110b包括第三遮挡部111b和与第三遮挡部111b相连的第四遮挡部112b，第四遮挡部112b的遮挡面积小于第三遮挡部111b的遮挡面积。

其中，第一遮挡部111a和第三遮挡部111b用于遮挡OLED显示屏中基板210的部分区域，二者在基板210上的遮挡区域互不重合，且第一遮挡部111a和第三遮挡部111b的遮挡范围在拼接后覆盖一个显示屏的基板210(附图中以虚线示出了基板210的边界位置)。第二遮挡部112a和第四遮挡部112b的遮挡区域拼接后形成预设图形。

下面结合具体示例阐述掩膜版组件100的结构。

如图2-1所示，在第一遮挡单元110a中，第一遮挡部111a用于覆盖在基板210的左侧，第二遮挡部112a朝向基板210的右侧凸出。如图2-2所示，在第二遮挡单元110b中，第三遮挡部111b用于覆盖在基板210的右侧，第四遮挡部112b朝向基板210的左侧凸出。

此时，第一遮挡部111a和第三遮挡部111b的遮挡区域互不重合。并且，第一遮挡部111a和第三遮挡部111b的遮挡区域相拼接后覆盖基板210。第二遮挡部112a和第四遮挡部112b的遮挡区域也互不重合。并且，第二遮挡部112a和第四遮挡部112b的遮挡区域拼接成圆形(也即预设图形)。

采用该掩膜版组件时，利用第一遮挡单元110a的遮挡作用，在基板210的左侧未被遮挡的区域形成功能层(例如阴极层、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、或电子传输层)。利用第二遮挡单元110b的遮挡作用，在基板210的右侧未被遮挡的区域形成功能层。以此方式，通过两次镀层工艺在基板210上形成功能层，该功能层的边缘覆盖基板210，并具有通孔结构。

在本公开实施例中，不限制掩膜版组件100的具体实现方式。除了图2-1和图2-2所示的遮挡单元结构之外，本公开实施例还提供了以下几种可选方式作为示例。

图3-1和图3-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图。如图3-1所示，第一遮挡单元110a中第一遮挡部111a遮挡基板210的上部，第二遮挡部112a朝向基板210的下方凸出。如图3-2所示，第二遮挡单元110b中第三遮挡部111b遮挡基板210的下部，第四遮挡部112b朝向基板210的上方凸出。采用该掩膜版组件可在显示屏的中部形成盲孔。

图4-1和图4-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图。如图4-1所示，以基板210的对角线为划分，第一遮挡单元110a中第一遮挡部111a遮挡基板210的左侧，第二遮挡部112a朝向右侧凸出。如图4-2所示，第二遮挡单元110b中第三遮挡部111b遮挡基板210的右侧，第四遮挡部112b朝向左侧凸出。采用该掩膜版组件可在显示屏的边角部分形成盲孔。

采用本公开实施例提供的掩膜版组件，在制备OLED显示屏时，通过有效遮挡形成具有通孔的功能层，进而制备具有盲孔的OLED显示屏。该掩膜版组件便于使用，制造成本低，且在使用过程中不会产生颗粒杂质，保障所制备OLED显示屏的显示效果。

可选地，第一遮挡部111a和第三遮挡部111b用于遮挡基板210的一半。据此，在OLED制备工艺中，采用第一遮挡单元110，在基板的一半区域形成功能层；采用第二遮挡单元110b，在基板的另一半区域形成功能层。这样的方式，使得两次形成的功能层的边缘相接，使得整体功能层的厚度均匀分布，进而保障OLED显示屏的显示效果。

并且，第二遮挡部112a和第四遮挡部112吧、的形状为预设图形的一半。预设图形与OLED显示屏中盲孔的径向截面形状相同，通常盲孔的径向截面是圆形，则第二遮挡部112a和第四遮挡部112b为半圆形。采用这样的方式，对于任一种遮挡单元来说，第二遮挡部112a与第一遮挡部111a的连接部分长度较长，第四遮挡部112b与第三遮挡部111a的连接部分长度较长，据此提升第一遮挡单元110a和第二遮挡单元110b的结构稳定性。

在一个实施例中，继续参见图2-1和图2-2，掩膜版组件100包括相互独立的第一掩膜版单体100a和第二掩膜版单体100b。其中，第一掩膜版单体100a包括第一遮挡单元110a，第二掩膜版单体100b包括第二遮挡单元110b。此时，如图2-1和图2-2所示的情况，一个掩膜版单体包括一个遮挡单元。

除了这样的情况，可选地，第一掩膜版单体100a包括至少两个第一遮挡单元110a，第二掩膜版单体100b包括至少两个第二遮挡单元110b。图5-1和图5-2是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图。如图5-1和图5-2所示，第一掩膜版单体100a包括由第一遮挡单元110a形成的阵列，第二掩膜版单体100b包括由第二遮挡单元110b形成的阵列。采用这样的方式，使得一次加工可以制备多个OLED显示屏，提高OLED显示屏的制备效率。

在这样的情况下，掩膜版单体还包括支撑框120。以图5-1为例，第一掩膜版单体100a包括支撑框120。支撑框120包括外边缘121和内边缘122。外边缘121围合成框，内边缘122设置在框内，并与外表边缘121相连。第一遮挡单元110a设置在框内，并与外边缘121和内边缘122相连。通过支撑框120将多个第一遮挡单元110a连接为一体，并且采用支撑框120便于在OLED显示屏制备过程中对掩膜版单体进行定位。

在一个实施例中，图6是根据另一示例性实施例示出的掩膜版组件的结构示意图。如图6所示，掩膜版组件包括一个掩膜版单体100c，掩膜版单体100c包括两种遮挡单元。也即，掩膜版单体100c包括第一遮挡单元110a和第二遮挡单元110b。

使用该掩膜版单体100c时，通过一次蒸镀，在基板上形成第一子功能层。之后调整掩膜版单体100c的位置，使得遮挡单元遮挡住第一子功能层。再通过一次蒸镀，在基板上形成第二子功能层，第二子功能层与第一子功能层拼接形成功能层。

以一个OLED显示屏的基板为例，通过第一次蒸镀在基板上未被第一遮挡单元110a覆盖的区域形成第一子功能层。通过调整掩膜版单体100c的位置，使得第二遮挡单元110b覆盖在第一子功能层的上方，此时第二遮挡单元110b使得未蒸镀上功能层的基板部分暴露出来。进而，通过第二次蒸镀，在基本未被第二遮挡单元110b覆盖的区域形成第二子功能层。第二子功能层与第一子功能层的边缘相接，以形成具有镂空区域的功能层。

示例地，在掩膜版单体100c中，第一遮挡单元110a和第二遮挡单元110b沿预设方向间隔分布。此时，沿预设方向移动掩膜版单体100c即可将掩膜版单体100c调整到合适位置，以进行第二次蒸镀工艺。

综上所述，采用本公开实施例提供的掩膜版组件，能够在OLED显示屏的基板上形成具有镂空区域的功能层。该掩膜版组件使用便捷，组件便于制造、成本较低，无需在OLED显示屏制备工艺中增加大型设备，保障了整体制备工艺的成本和可操作性。并且，采用该掩膜版组件的遮挡性能，无需通过额外工序去除功能层，进而避免形成固体颗粒，保障所制备OLED显示屏的良品率。

基于上述提供的掩膜版组件，本公开实施例提供了一种OLED显示屏制备工艺。图7是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程图。

如图7所示，该工艺包括：

步骤S701、制备OLED显示屏的基板。

步骤S702、将掩膜版组件覆盖在基板上，在基板未被第一遮挡单元或第二遮挡单元遮挡的部分形成第一子功能层。

步骤S703、调整述第一遮挡单元或第二遮挡单元在基板上的遮挡位置，在基板未被第一遮挡单元或第二遮挡单元遮挡的部分形成第二子功能层，第二子功能层与第一子功能层相接成功能层。

在步骤S701中，可选地，采用光刻蚀技术制备OLED显示屏的基板。其中，该基板对应至少一个OLED显示屏屏体。

在步骤S702和步骤S703中采用蒸镀工艺在基板未被遮挡单元覆盖的部分上形成功能层。并且，在掩膜版组件中两个遮挡单元的作用下，步骤S702中形成的第一子功能层与步骤S703中形成的第一子功能层相接形成功能层。其中，功能层选自：空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、以及阴极层中的至少一种。

采用本公开实施例提供的OLED制备工艺，通过两次成型工艺在基板上形成具有镂空区域的功能层。下面结合具体附图阐述本公开实施例提供的OLED显示屏制备流程。

图8-1和图8-2是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程中不同状态示意图。图9-1和图9-2是根据一示例性实施例示出的OLED显示屏制备工艺流程中不同状态示意图。上述附图中以一个OLED显示屏的基板为例，以图2-1和图2-2所示的遮挡单元结构为例。

如图8-1所示，第一次蒸镀时，采用第一遮挡单元110a遮挡在基板210上。通过材料蒸发源300将功能层材料蒸发至基板210上。第一次蒸镀在基板210未被第一遮挡单元110a遮挡的部分上形成第一子功能层250a。结合图9-1，此时，在基板210的右侧形成第一子功能层250a。

如图8-2所示，第二次蒸镀时，采用第二遮挡单元110b遮挡在基板210上。通过材料蒸发源300将功能层材料蒸发至基板210上。通过第二次蒸镀在基板210未被第二遮挡单元110a遮挡的部分上形成第二子功能层250b。结合图9-2，第二遮挡单元110b中第三遮挡部与第一遮挡单元110a中的第一遮挡部的遮挡区域拼接后的遮挡区域覆盖基板210，使得在基板210的左侧区域形成第二子功能层250b。并且，第二遮挡单元110b中第四遮挡部，与第一遮挡单元110a中第二遮挡部的遮挡区域相拼接成预设图形，因此经过两次蒸镀功能层上形成具有预设图形的镂空区域250c。

综上所述，采用本公开实施例提供的OLED显示屏制备工艺，通过掩膜版模组形成具有镂空区域的功能层，进而制备具有盲孔的OLED显示屏。整体工艺易于实施，无需增加大型加工设备，有效控制加工工艺的成本。并且，在功能层上形成镂空区域的过程中不会产生固体颗粒，有效保障所制备OLED的良品率。

在一个实施例中，当掩膜版组件包括如图5-1和图5-2所示的第一掩膜版单体和第二掩膜版单体时，步骤S703具体包括：将第一掩膜版单体和第二掩膜版单体中未使用的一个遮挡基板上的第一子功能层。例如，步骤S702中采用第一掩膜版单体，则在步骤S703中采用第二掩膜版单体。

在一个实施例中，当掩膜版组件包括如图6所示的掩膜版单体时，步骤S703包括：调整掩膜版单体在基板上的覆盖位置，将第一遮挡单元和第二遮挡单元遮挡第一子功能层。换言之，通过调整掩膜版单体的位置，使得基板上未形成功能层的部分暴露出来。并且，暴露出来部分的形状与第二遮挡单元的形状相适配。进而，通过第二次蒸镀在基板上形成具有镂空区域的功能层。

可选地，在掩膜版单体中不同遮挡单元沿预设方向间隔分布的情况下，步骤S704包括：沿预设方向移动掩膜版单体。例如，遮挡单元沿掩膜版单体的长度方向间隔分布，则步骤S704中沿掩膜版单体的长度方向移动掩膜版单体，使得遮挡单元设置到位。

综上所述，本公开实施例提供的OLED显示屏制备工艺，降低了整体工艺的难度，更易操作。该工艺无需增加大型加工设备，有效控制工艺成本。此外，采用该工艺所制备的OLED显示屏，解决了颗粒杂质的影响，有效提高显示屏的显示效果。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

Claims (11)

1.一种掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件用于放置在OLED显示屏的基板上，以在所述基板上形成功能层，所述功能层具有呈预设图形的镂空区域；

所述掩膜版组件包括第一遮挡单元和第二遮挡单元；

所述第一遮挡单元包括第一遮挡部和与第一遮挡部相连的第二遮挡部，所述第二遮挡部的遮挡面积小于所述第一遮挡部的遮挡面积；

所述第二遮挡单元包括第三遮挡部和第四遮挡部，所述第四遮挡部的遮挡面积小于所述第三遮挡部的遮挡面积；

所述第一遮挡部和所述第三遮挡部在所述基板上的遮挡区域互不重合，且拼接成的遮挡区域覆盖所述基板；

所述第二遮挡部和所述第四遮挡部在所述基板上的遮挡区域拼接呈所述预设图形。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第一遮挡部和所述第三遮挡部用于遮挡所述基板的一半。

3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第二遮挡部和所述第四遮挡部为所述预设图形的一半。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括相互独立的第一掩膜版单体和第二掩膜版单体；

所述第一掩膜版单体包括所述第一遮挡单元，所述第二掩膜版单体包括所述第二遮挡单元。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括一个所述掩膜版单体，所述掩膜版单体包括所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元。

6.根据权利要求5所述的掩膜版组件，其特征在于，在所述掩膜版单体中，所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元沿预设方向间隔分布。

7.一种OLED显示屏制备工艺，其特征在于，所述工艺采用权利要求1～6中任一项所述的掩膜版组件；所述工艺包括：

制备OLED显示屏的基板；

将所述掩膜版组件覆盖在所述基板上，在所述基板未被第一遮挡单元或第二遮挡单元遮挡的部分形成第一子功能层；

调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元遮挡的部分形成第二子功能层，所述第二子功能层与所述第一子功能层相接成功能层；所述功能层选自：空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、以及阴极层中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的工艺，其特征在于，所述掩膜版组件包括第一掩膜版单体和第二掩膜版单体；所述调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，包括：

将所述第一掩膜版单体和所述第二掩膜版单体中未使用的一个遮挡所述基板上的第一子功能层。

9.根据权利要求7所述的工艺，其特征在于，所述掩膜版组件包括一个掩膜版单体，所述调整所述第一遮挡单元或第二遮挡单元在所述基板上的遮挡位置，包括：

调整所述掩膜版单体在所述基板上的覆盖位置，将所述第一遮挡单元和所述第二遮挡单元遮挡所述第一子功能层。

10.根据权利要求7～9中任一项所述的工艺，其特征在于，在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元覆盖的部分形成功能层，包括：

在所述基板未被所述第一遮挡单元或所述第二遮挡单元覆盖的部分蒸镀上所述功能层。

11.一种OLED显示屏，其特征在于，所述OLED显示屏采用权利要求7～10中任一项所述的OLED显示屏制备工艺制备；所述OLED显示屏包括：

基板；

阳极层，设置在所述基板上，并具有第一镂空区域；

有机发光层，设置在所述阳极层远离所述基板的一侧；以及

阴极层，设置在所述有机发光层远离所述阳极层的一侧，并具有第二镂空区域，所述第二镂空区域对应所述第一镂空区域设置。

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