CN115268047A - 用于样本的多模式检查的系统和方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于样本的多模式检查的系统和方法。所述系统包括：辐射源、物镜、明场检测模块、暗场检测模块、以及光学器件。当所述系统以第一模式操作时，所述光学器件被配置为引导输入束通过第一开口朝向所述物镜的第一区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分。当所述系统在第二模式中操作时，所述光学器件被配置为引导所述输入束通过第二开口朝向所述物镜的第二区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分。所述物镜的所述第一区域与所述物镜的所述第二区域不同。

Description

用于样本的多模式检查的系统和方法
本申请是申请日为2019年08月13日、申请号为201910742697.2、发明名称为“用于样本的多模式检查的系统和方法”的发明专利申请的分案申请。
相关申请的交叉引用
本申请要求主张于2018年8月14日提交的第16/103,535号美国申请的权益，该申请的内容以引用的方式全文并入本文。
技术领域
本公开内容涉及用于样本的多模式检查的系统和方法。
背景技术
暗场检查包括照射样本和收集散射辐射，而明场检查包括照射样本和收集反射辐射。
这些不同的检查技术可以提供关于不同类型的缺陷的不同信息。
暗场检查和明场检查的不同变化可能涉及以不同角度照射样本，还提供关于不同类型的缺陷的不同信息。
使用完全不同的暗场光学器件和明场光学器件可能成本太高且非常复杂。
越来越需要提供一种可节约成本的、并可应用暗场检查和明场检查两者的各种变化的系统。
发明内容
可以提供一种用于样本的多模式检查的系统，所述系统可以包括：(i)辐射源，所述辐射源可以被配置为提供输入束；(ii)物镜；(iii)明场检测模块；(iv)暗场检测模块；以及(v)光学器件，当在第一模式中时，所述光学器件可以被构造为和配置为引导所述输入束朝向所述物镜的特定区域。所述物镜可以被配置为：(a)以第一角度将被引导朝向所述物镜的第一区域的所述输入束聚焦到所述样本上；(b)通过所述物镜收集可从物体反射的反射束；(c)通过所述物镜收集从所述样本散射的一个或多个散射束，以及(d)引导所述反射束和所述一个或多个散射束朝向所述光学器件。当在所述第一模式中时，所述光学器件可以被配置为引导所述反射束朝向所述明场检测模块并引导所述散射束朝向所述暗场检测模块。当在第二模式中时，所述光学器件可以被构造为和配置为引导所述输入束朝向所述物镜的另一个区域；所述物镜的所述另一个区域与所述物镜的所述特定区域不同。所述物镜可以被配置为：(a)以第二角度将被引导朝向所述物镜的所述另一个区域的所述输入束聚焦到所述样本上；(b)收集可从所述物体反射的所述反射束；(c)收集从所述样本散射的所述一个或多个散射束，以及(d)引导所述反射束和所述一个或多个散射束朝向所述光学器件。当在所述第二模式中时，所述光学器件被配置为引导所述反射束朝向所述明场检测模块并引导所述散射束朝向所述暗场检测模块。所述第一角度与所述第二角度不同。所述第一角度和所述第二角度中的每个可以是垂直的或非垂直的。
所述物镜的所述特定区域和所述物镜的所述另一个区域可以位于所述物镜的任何位置。所述特定区域和所述另一个区域的示例可以在图20中示出。
可以提供用于样本的多模式检查的系统，该系统可以包括：可以被配置为提供输入束的辐射源、物镜、亮场检测模块、暗场检测模块和光学器件。当系统以第一模式操作时，光学器件可以被配置为将输入束引导通过第一开口朝向物镜的第一区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分。当系统在第二模式中操作时，光学器件可以被配置为将输入束引导通过第二开口朝向物镜的第二区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分；其中物镜的第一区域与物镜的第二区域不同。物镜可以配置为：(a)以第一角度将被引导朝向物镜的第一区域的输入束聚焦到样本上；(b)以第二角度将被引导朝向物镜的第二区域的输入束聚焦到样本上；其中第一角度与第二角度不同；(c)收集可能从物体反射的反射束；(d)收集从物体散射的一个或多个散射束；(e)引导反射束和一个或多个散射束朝向光学器件。光学器件可以被配置为引导反射束朝向明场检测模块，并引导一个或多个散射束朝向暗场检测模块。
第一角度可以垂直于样本，第二角度可以是倾斜角度。
当系统以第一模式操作时，物镜可以配置为在物镜的第一区域收集反射束，并在物镜的与物镜的第一区域不同的一个或多个区域收集一个或多个散射束。
当系统在第二模式中操作时，物镜可以被配置为在物镜的第一区域处收集一个或多个反射束的散射束，并且在物镜的与物镜的第一区域不同区域处收集反射束。
该系统可包括望远镜，其中物镜可位于样本和望远镜之间。
望远镜可包括多个透镜；其中至少两个透镜可以是非球面透镜。
该系统可以包括机械操作器，该机械操作器可以被配置为在第一模式和第二模式之间改变光学器件的至少一个光学部件的位置。机械操作器可以包括马达和齿轮或任何其它已知的机械部件，并且可以配置为执行任何运动，包括沿任何轴线的任何线性或旋转运动。
第一开口可以形成在第一掩模中。第二开口可以形成在第二掩模中。机械操作器可以被配置为在第一模式和第二模式之间改变第一掩模和第二掩模的位置。
光学器件可包括至少两个可移动的反射镜，其在第一模式和第二模式之间是可移动的。
光学器件可包括一对棱镜和可位于这一对棱镜之间的阻挡元件。
光学器件可包括用于控制输入束的偏振的偏振控制单元。
该系统可以包括在暗场检测模块之前的偏振器。偏振器可包括第一区段和第二区段。第一区段可包括平行金属区段的第一栅格。第二区段可包括平行金属区段的第二栅格。第一栅格可以朝向第二栅格取向。
该系统中，光学器件可包括路径补偿单元，用于补偿第一模式和第二模式之间的光程差。
可以提供一种用于通过系统对样本进行多模式检查的方法，该方法可以包括：通过系统的辐射源提供输入束；当系统以第一模式操作时，通过系统的光学器件引导输入束通过第一开口朝向物镜的第一区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分；当系统以第一模式操作时，通过系统的物镜，以第一角度将被引导朝向物镜的第一区域的输入束聚焦到样本；当系统在第二模式中操作时，通过光学器件引导输入束通过第二开口朝向物镜的第二区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分，；其中物镜的第一区域与物镜的第二区域不同；聚焦，当系统在第二模式中操作时，通过物镜以第二角度将被引导朝向朝向物镜的第二区域的输入束聚焦到样本；其中第一角度与第二角度不同；当系统以第一模式操作时和当系统在第二模式中操作时，通过物镜收集可以从物体反射的反射束；当系统以第一模式操作时和当系统在第二模式中操作时，通过物镜收集可以从物体散射的一个或多个散射束；引导反射束和一个或多个散射束朝向光学器件；通过光学器件引导反射束朝向明场检测模块；以及通过光学器件引导一个或多个散射束朝向暗场检测模块。
附图说明
在本说明书的结论部分中特别地指出并明确地要求保护被视为本发明的主题。然而，就组织和操作方法来说，本发明及其目标、特征和优点可以在阅读所附附图时参考以下详细描述进行最佳地理解，在附图中：
图1示出了系统和样本的示例；
图2示出了系统和样本的示例；
图3示出了系统和样本的示例；
图4示出了系统和样本的示例；
图5示出了系统和样本的示例；
图6示出了系统和样本的示例；
图7示出了系统和样本的示例；
图8示出了系统和样本的示例；
图9示出了系统的一些光学部件的示例；
图10示出了系统的一些光学部件的示例；
图11示出了系统的一些光学部件的示例；
图12示出了系统的一些光学部件的示例；
图13示出了系统的一些光学部件的示例；
图14示出了系统的一些光学部件的示例；
图15示出了系统的一些光学部件的示例；
图16示出了系统的一些光学部件的示例；
图17示出了系统的一些光学部件的示例；
图18示出了系统和样本的示例；
图19示出了偏振器的示例；
图20示出了物镜孔径和该物镜的各个区域的各种示例；以及
图21示出了一种方法。
具体实施方式
在以下详细描述中，阐述许多特定细节，以便提供对本发明的透彻理解。然而，本领域的技术人员应当理解，本发明可以在没有这些具体细节的情况下实践。在其它情况下，所熟知的方法、过程和部件未被详细地描述，以免不必要地模糊本发明。在本说明书的结论部分中特别地指出并明确地要求保护被视为本发明的主题。然而，就组织和操作方法来说，本发明及其目标、特征和优点可以在阅读附图时参考以下详细描述来最佳地理解。
应当了解，为了简洁和清楚的说明，附图中所示的元件不一定按比例绘制。例如，为了清楚起见，一些元件的尺寸可以相对于其它元件被夸大。另外，在适当时，在附图中，附图标记可以重复以指示对应或相似的元件。
由于本发明的所示的实施方式大部分可以使用本领域的技术人员已知的电子部件和电路来实现，因此为了本发明的基本概念的理解和了解并为了避免本发明的教导内容的混乱或歧义，除了进行必要解释之外，不对细节多作解释。
在本说明书中对方法的任何引用都应当比照适用于能够执行该方法的系统。
在本说明书中对系统的任何引用都应当比照适用于可由该系统执行的方法。
可以提供用于以多个模式检查样本的系统和方法。该系统可以具有可以至少两种模式操作的光学器件，这两种模式因辐射束的照射角度而彼此不同。
在两种模式中，系统可以执行暗场检查和明场检查。基于照射角度的不同，(a)当在第一模式中操作时，系统应用明场检查的第一变体和暗场检查的第一变体，并且(b)当在第二模式中操作时，系统应用明场检查的第二变体和暗场检查的第二变体。
系统包括在两种模式下使用的光学器件和物镜，但是当系统在不同模式下操作时，光学器件以不同的方式配置。
光学器件改变系统的照射路径和收集路径，而基本上不阻挡输入束，因此，与在照射路径上阻挡输入束的大部分的系统相比，表现出更高的能量效率和更好的灵敏度。
当在第一模式中操作时，系统可以使输入束通过第一孔径。第一孔径可以形成在第一掩模中。第一掩模可以是分束器。掩模可以是具有一个或多个孔径的镜。当在第二模式中操作时，系统可以使输入束通过第二孔径。第二孔径可以形成在第二掩模中。第二掩模可以是分束器。第二掩模可以与第一掩模不同。
第二孔径和第一孔径位于相对于物镜的不同位置。
在不同模式下操作系统可能需要改变光学系统的配置，但是可能不需要系统的其它部分的位移，系统的其它部分例如但不限于辐射源、望远镜、物镜、控制单元、明场检测模块和暗场检测模块。此外，辐射源可以在两种模式中将输入束引导到相同位置处。
照射物镜的不同区域将使物镜以不同的角度照射样本，以允许系统应用不同的明场检查和暗场检查。
图1-19示出了：(a)第一操作模式，在该第一操作模式期间，物镜的中心区域被照射，并且样本以垂直角度被照射，以及(b)第二操作模式，在该第二操作模式期间，物镜的非中心区域被照射，并且样本以倾斜角度被照射。
应当注意，这些仅是照射的非限制性示例，并且不同的操作模式可以照射物镜的任何不同的区域，并且因此可以以几乎任何角度照射样本。应当注意，不同的操作模式也可以改变收集散射束和/或收集反射束的方式。
图1和2是当在第一模式中操作时系统11的示例。图1示出了照射路径，而图2示出了收集路径。
系统11包括：(a)辐射源20，辐射源20被配置为提供输入束30，(b)物镜70，(c)亮场检测模块，该亮场检测模块包括亮场透镜62和亮场检测器52，(d)暗场检测模块，该暗场检测模块包括暗场透镜64和暗场检测器54，(e)望远镜80，(f)偏振控制单元111，(g)第一掩模90，(h)图像处理器40，(i)光学器件100，以及控制器(未示出)。
图像处理器40被配置为处理来自亮场检测模块和暗场检测模块的检测信号。该处理可以包括应用任何检查算法，诸如裸片与裸片比较、裸片与参考比较、单元与单元比较等。
系统11还可以包括诸如存储单元、用于支撑和移动样本的机械模块等的部件(未示出)。
当系统11在第一模式中操作时，光学器件100可以被配置为接收输入束30，引导输入束30通过第一掩模90的第一开口，使得整个输入束(或几乎所有输入束)通过第一开口，而不阻挡输入束的大部分，从而减少能量损失并提高系统的灵敏度。
应当注意，在通过第一开口之前，输入束的偏振可以由偏振控制单元111设置。
输入束30通过望远镜80的中心区域，通过物镜70的中心区域，并且最后以垂直角度由物镜的中心区域聚焦在样本8上。
反射束33从样本8反射，由物镜70的中心区域收集，被引导朝向望远镜80的中心区域，通过望远镜80的中心区域，通过第一掩模90的第一开口，通过偏振控制单元111，并且由光学器件100引导朝向明场透镜62，明场透镜62将反射束聚焦到亮场检测器52上。
散射束32从样本8散射，由物镜70的非中心区域收集，被引导朝向望远镜80的非中心区域，通过望远镜80的非中心区域，由第一掩模90的背面反射区域朝向暗场透镜64反射，并且由暗场透镜聚焦到暗场检测器54上。
图3和4是当在第二模式中操作时系统11的示例。图3示出了照射路径，而图4示出了收集路径。
当系统11在第二模式中操作时，光学器件100可以被配置为接收输入束30，引导输入束30通过形成在第二掩模92中的第二开口，使得整个输入束(或几乎全部输入束)通过第二开口，而不阻挡输入束的大部分，从而减少能量损失并提高系统的灵敏度。
应当注意，在通过第二开口之前，可以通过偏振控制单元111设置输入束的偏振。
输入束30通过望远镜80的非中心区域，通过物镜70的非中心区域，并且最后以倾斜角度由物镜的非中心区域聚焦在样本8上。
反射束36从样本8反射，由物镜70的另一个非中心区域收集，被引导朝向望远镜80的另一个非中心区域，通过望远镜的另一个非中心区域，通过形成在第二掩模92中的第三开口，通过偏振控制单元111，并且由光学器件100引导朝向明场透镜62，明场透镜62将反射束聚焦到明场检测器52上。
散射束35从样本8散射，由物镜70的中心区域收集，被引导朝向望远镜80的中心区域，通过望远镜80的中心区域，由第三掩模94的背面反射区域朝向暗场透镜64反射，并且由暗场透镜聚焦到暗场检测器54上。
中心区域、非中心区域和另一个非中心区域可以不重叠或可以部分重叠。
图5和6是当在第二模式中操作时系统12的示例。图5示出了照射路径，而图6示出了收集路径。
在图5和6中，光学器件100包括上反射器99、第三掩模94、第一棱镜22、第二棱镜26、阻挡元件24和下反射器96。
上反射器99引导输入束30通过第三掩模94的开口，使得整个输入束(或几乎所有输入束)通过第一开口，而不阻挡输入束的大部分，从而减少能量损失并提高系统的灵敏度。
第一棱镜22被配置为接收通过孔径的输入束，并且使输入束30偏离阻挡元件24的中心，并且远离望远镜80的中心区域。然后，输入束30通过望远镜80的非中心区域，通过物镜70的非中心区域，并且最后以倾斜角度由物镜的非中心区域聚焦在样本8上。
反射束36从样本8反射，由物镜70的另一个非中心区域收集，被引导朝向望远镜80的另一个非中心区域，通过望远镜的另一个非中心区域，由第二棱镜26朝向阻挡元件24的中心偏转，并且由第三掩模94的背面反射区域朝向明场透镜62反射，明场透镜62将反射束聚焦到明场检测器52上。
第二棱镜26被配置为偏转反射束，使得反射束可以由第三掩模94的背面反射区域朝向明场透镜62的相同区域反射，该区域当系统在第一模式中操作时接收反射光。
当在第一模式中操作时，第一棱镜22、阻挡元件24、第二棱镜26和下反射器从输入束的路径移动。
散射束35从样本8散射，由物镜70的中心区域收集，被引导朝向望远镜80的中心区域，通过望远镜80的中心区域，由下反射器96朝向暗场透镜64反射，并且由暗场透镜聚焦到暗场检测器54上。
图7和8示出了系统13，该系统13与系统11的不同之处在于没有望远镜。
图9和10示出了当系统在第一模式中操作时的光学器件100、偏振控制单元111和第一掩模。图9示出了照射路径，而图10示出了收集路径。
光学器件100包括第一分束器102、第二分束器106、第一反射器108、第二反射器110和第三反射器104。
偏振控制单元111包括半波长延迟器112和四分之一波长延迟器114。
在图9和10中，第一反射器108和第二反射器110定位在第一位置处。
输入束30通过第一分束器102，由第一反射器108朝向第二反射器110反射，由第二反射器110朝向偏振控制单元111反射，通过偏振控制单元111，并且通过第一掩模90的第一孔径91，而基本上不阻挡输入束的任何部分。
在图10中，散射束32由第一掩模90的背面反射区域朝向暗场检测模块(未示出)反射。
反射束32通过第一开口，通过偏振控制单元111，由第二反射器110朝向第一反射器108反射，由第一反射器108朝向第一分束器102反射，由第一分束器102朝向第三反射器104反射，由第三反射器104朝向第二分束器106反射，并且被分成朝向亮场检测模块(未示出)传播的主信号和发送到自动聚焦模块(未示出)的次级信号。
图11和12示出了当系统在第二模式中操作时光学器件100、偏振控制单元111和第一掩模。图11示出了照射路径，而图12示出了收集路径。
光学器件100包括第一分束器102、第二分束器105、第一反射器108、第二反射器110和第三反射器104。
偏振控制单元111包括半波长延迟器112和四分之一波长延迟器114。
在图11和12中，第一反射器108和第二反射器110定位在不同于第一位置的第二位置处。
输入束30通过第一分束器102，由第一反射器108朝向第二反射器110反射，由第二反射器110朝向偏振控制单元111反射，通过偏振控制单元111，并且通过形成在第二掩模92中的第二孔径93，而基本上不阻挡输入束的任何部分。
在图12中，散射束32由第二掩模92的背面反射区域朝向暗场检测模块(未示出)反射。
反射束36通过形成在第二掩模92中的第三开口95，通过偏振控制单元111，由第二反射器110朝向第一反射器108反射，由第一反射器108朝向第一分束器102反射，由第一分束器102朝向第三反射器104反射，由第三反射器104朝向第二分束器106反射，并且被分成朝向亮场检测模块(未示出)传播的主信号和发送到自动对焦模块(未示出)的次级信号。
图13-16与图9-12的不同之处在于具有没有第二分束器106的光学器件100。在这些光学器件100中，第三反射器104将反射束朝向明场检测模块(未示出)反射。
第一反射器108和第二反射器110是可移动的反射镜。
图17示出了用于在第一位置与第二位置之间改变第一反射器108的位置的第一机械操作器107。第二机械操作器109用于在第一位置和第二位置之间改变第二反射器110的位置。
偏振散射束可以包括系统对各种缺陷的敏感性。在暗场检测模块之前引入偏振器可以提高系统的灵敏度。偏振器可以是静态的或可以在反射束的路径中、在反射束的路径外被移动，可以当在反射束的路径中时被移动(例如，旋转)，以改变到达暗场检测模块的反射束的偏振分量。
图18示出了系统11的示例，系统11包括定位在第一掩模90与暗场透镜64之间的偏振器200。偏振器可以包括在任何附图中示出的任何其它系统中。偏振器200可以接收由物镜收集的所有散射光。偏振器200可以定位在暗场检测模块与第一掩模之间。
偏振器基于金属区段的栅格而是紧凑的，系统可以简单的方式在具有不同取向的金属区段的栅格的偏振器之间进行替换，偏振器比偏振分束器更紧凑并且对AOI不敏感(相对于立方体状偏振器)。
图19示出了偏振器200的示例。偏振器200包括框架210、用于偏振散射束的第一区段的第一区段220，以及用于偏振散射束的第一区段的第二区段230。
第一区段220可以包括平行金属区段的第一栅格。第二区段230可以包括平行金属区段的第二栅格。
金属区段可以具有亚微米尺寸，尤其是小于辐射的波长。
第一栅格面向第二栅格。
图19示出了两个偏振器，它们因栅格的取向而彼此不同。在左边的偏振器中，第一栅格以正四十五度取向，而第二栅格以负四十五度取向。在右边的偏振器中，第一栅格以正三十度取向，而第二栅格以负三十度取向。可以提供其它取向。
应当注意，上述系统中的任一个可以在样本与系统的各个部分(物镜、望远镜、光学器件、掩模等)之间引入倾斜。该倾斜将改变物镜的将接收散射束和/或反射束的区域。
该系统可以包括路径补偿单元，以补偿因在不同模式下工作而产生的路径差异。例如，路径补偿单元可以包括玻璃块或玻璃光学元件，或具有与空气的透射率不同的透射率的任何光学元件。可以提供任何其它路径补偿单元。
图20示出了物镜孔径70'和物镜的各个区域的各种示例。
各个区域包括作为物镜孔径的中心区域的第一区域71，以及包括以下区域的各种非中心区域：第二区域72、第三区域73、第四区域74、第五区域75、第六区域76、第七区域731和第八区域732。
物镜可以具有与图20中所示的那些在形状和/或尺寸和/或位置上不同的区域。这些部分可以位于物镜孔径内的任何位置，这些部分可以是椭圆形的，或具有任何其它形状等等。
参考图1-2，当系统在第一模式中操作时，第一区域71被照射，反射束通过第一区域71收集，并且一个或多个散射束通过第三区域73收集或通过第七区域731和第八区域731收集。
参考图3-4，当系统在第一模式中操作时，第二区域72被照射，反射束通过第四区域74收集，并且散射束可由第一区域71收集。
这些区域中的任一个都可以用于照射物体、收集反射束或收集散射束。
例如，可以使用第五区域75，例如用于在样本不垂直于物镜的光轴时收集反射的辐射。
图21示出了方法300的示例。
方法300可以包括步骤304、308、312、316、320、328、332、336、340、360、364和368。
步骤304可以包括从多个模式中选择模式。选择可以由人执行，可以在没有人为干预的情况下执行，可以根据配方(recipe)执行等。多种模式可以包括第一模式和第二模式。可能存在比第一模式和第二模式更多的模式。
当步骤304包括选择在第一模式中工作时，在步骤304之后可以是步骤308，即将系统设置为在第一模式中操作。
当步骤304包括选择在第二模式中工作时，在步骤304之后可以是步骤328，即将系统设置为在第二模式中操作。
在步骤308和步骤328中，上述设置可以包括选择将参与照射样本和收集来自样本的辐射的光学元件、选择所需的偏振，选择一个或多个光学部件的位置、选择掩模等。
在步骤308之后可以是步骤312，由系统的辐射源提供输入束。
在步骤312之后可以是步骤316，由系统的光学器件引导输入束通过第一开口朝向物镜的第一区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分。
在步骤316之后可以是步骤320，第一角度由系统的物镜以将被引导朝向物镜的第一区域的输入束聚焦到样本上。
在步骤320之后可以是步骤360。
返回参考步骤328，在步骤328之后可以是步骤332，由系统的辐射源提供输入束。
在步骤332之后可以是步骤336，即由光学器件引导输入束通过第二开口朝向物镜的第二区域，而基本上不阻挡输入束的任何部分。物镜的第一区域与物镜的第二区域不同。
在步骤336之后可以是步骤340，以第二角度由物镜将被引导朝向物镜的第二区域的输入束聚焦到样本上。第一角度与第二角度不同。第一角度和第二角度之间的差异可以超过5度、10度、15度、20度、30度甚至更多度。
在步骤340之后可以是步骤360。
在步骤360可以包括通过物镜收集从物体反射的反射束。步骤360还可以包括通过物镜收集从物体散射的一个或多个散射束。
在步骤360之后可以是步骤364，引导反射束和一个或多个散射束朝向光学器件。
在步骤364之后可以是步骤368，(a)由光学器件引导反射束朝向明场检测模块；(b)由光学器件引导一个或多个散射束朝向暗场检测模块。
在步骤368之后可以是步骤372，(a)由亮场检测模块生成检测信号；(b)由暗场检测模块生成检测信号。
在步骤372之后可以是步骤376，处理由亮场检测模块生成的检测信号和/或处理由暗场检测装置生成的检测信号，以获得关于样本的信息。
步骤376的处理可以包括处理附加信息(诸如参考信息)，处理计算机辅助设计信息，处理从另一个样本的估计接收的检测信号等。处理可以包括应用任何检查工艺、任何计量工艺、任何审查工艺等。
步骤376可以由系统或不属于该系统的另一个计算机执行。
在前述说明书中，已经参考本发明的实施方式的具体示例来描述了本发明。然而，将清楚，可以在不脱离如随附权利要求书中记载的本发明的更广泛的精神和范围的情况下来在其中做出各种修改和改变。
此外，说明书和权利要求书中的术语“前部”、“背部”、“顶部”、“底部”、“在……上方”，“在……下方”等等(若有的话)是用于描述性目的，而不一定用于描述永久的相对位置。应当理解，如此使用的术语在适当情况下能够互换，使得本文所述的本发明的实施方式例如能够在除本文所示或以其它方式所述的那些之外的其它取向上操作。
本文讨论的连接可以是适于从或向相应节点、单元或装置传输信号(例如，经由中间装置)的任何类型的连接。因此，除非另有暗示或说明，否则连接可以是例如直接连接或间接连接。连接可以参考单个连接、多个连接、单向连接或双向连接来示出或描述。然而，不同的实施方式可以改变连接的实现方式。例如，可以使用单独的单向连接而不是双向连接，反之亦然。另外，多个连接可以用单个连接替换，该单个连接串行地或以时间复用的方式传输多个信号。同样，可以将承载多个信号的单个连接分割成承载这些信号的子集的各种不同的连接。因此，存在用于传输信号的许多选项。
实现相同的功能性的部件的任何布置被有效地“关联”，使得实现期望的功能性。因此，在本文中经组合以实现特定的功能性的任何两个部件可以被视为是彼此“关联”，使得实现期望的功能性，不管架构或中间部件如何。同样，如此关联的任何两个部件也可以被视为是彼此“可操作地连接”或“可操作地耦接”，以实现期望的功能性。
此外，本领域的技术人员将认识到，在上述操作之间的边界仅是说明性的。多个操作可以被组合成单个操作，单个操作可以被分布在额外操作中，并且操作可以在时间上至少部分地重叠的方式执行。此外，替代实施方式可以包括特定操作的多个实例，并且操作次序可以在各种其它实施方式中进行更改。
同样，例如，在一个实施方式中，所示的示例可以被实现为位于单个集成电路上或同一装置内的电路。或者，示例可以被实现为以合适的方式彼此互连的任何数量的单独的集成电路或单独的装置。
然而，其它修改、变化和替代也是可能的。因此，本说明书和附图被视为是说明性意义，而不是限制性意义。
在权利要求中，放在括号之间的任何参考符号不应被解释为限制权利要求。单词“包括”不排除在权利要求中列出的那些之外的其它元件或步骤的存在。此外，如本文所用的术语“一个(a)”或“一种(an)”被限定为一个或多于一个。另外，在权利要求中使用介绍性短语(诸如“至少一个”和“一个或多个”)不应被解释为暗示用不定冠词“一个”或“一种”将另一个权利要求元件引入将含有此类引入权利要求元件的任何特定权利要求限制为仅含有一个此类元件的发明，即使在同一权利要求包括介绍性短语“一个或多个”或“至少一个”和不定冠词(诸如“一个”或“一种”)是也是如此。定冠词的使用同样如此。除非另有说明，否则诸如“第一“和”第二“的术语用于任意地区分此类术语所描述的元件。因此，这些术语不一定旨在指示此类元件的时间或其它优先次序。某些措施在互不相同的权利要求中叙述这一事实并不表示无法有利地使用这些措施的组合。
虽然本文示出和描述了本发明的某些特征，但是本领域的普通技术人员现将想到许多修改、替换、改变和等效物。因此，应当理解，随附权利要求书旨在覆盖落入本发明的真实精神内的所有此类修改和改变。

Claims (12)

1.一种用于样本的多模式检查的系统，包括：
辐射源，所述辐射源被配置为提供输入束；
物镜；
明场检测模块；
暗场检测模块；
机械操作器；以及
光学器件；
其中当所述系统以第一模式操作时，所述光学器件被配置为引导所述输入束通过第一开口朝向所述物镜的第一区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分；
其中当系统在第二模式中操作时，所述光学器件被配置为引导所述输入束通过第二开口朝向所述物镜的第二区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分；其中所述物镜的所述第一区域与所述物镜的所述第二区域不同；
其中所述第一开口形成在第一掩模中，且所述第二开口形成在第二掩模中，并且其中所述机械操作器被配置为在所述第一模式与所述第二模式之间改变所述第一掩模和所述第二掩模的位置；
其中所述物镜被配置为：
(a)以第一角度将被引导朝向所述物镜的所述第一区域的所述输入束聚焦到所述样本上；
(b)以第二角度将被引导朝向所述物镜的所述第二区域的所述输入束聚焦到所述样本上；其中所述第一角度与所述第二角度不同；
(c)收集从所述样本反射的反射束；
(d)收集从所述样本散射的一个或多个散射束；
(e)朝向所述光学器件引导所述反射束和所述一个或多个散射束；并且
其中所述光学器件被配置为引导所述反射束朝向所述明场检测模块，并引导所述一个或多个散射束朝向所述暗场检测模块。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一角度垂直于所述样本，并且所述第二角度是倾斜角度。
3.根据权利要求1所述的系统，其中当所述系统以所述第一模式操作时，所述物镜被配置为在所述物镜的所述第一区域处收集所述反射束，并在所述物镜的与所述物镜的所述第一区域不同的一个或多个区域处收集所述一个或多个散射束。
4.根据权利要求1所述的系统，其中当所述系统以所述第二模式操作时，所述物镜被配置为在所述物镜的所述第一区域处收集所述一个或多个散射束的散射束，并在所述物镜的与所述物镜的所述第一区域不同的区域处收集所述反射束。
5.根据权利要求1所述的系统，进一步包括望远镜，其中所述物镜定位在所述样本与所述望远镜之间。
6.根据权利要求5所述的系统，其中所述望远镜包括多个透镜；其中所述多个透镜的至少两个透镜是非球面透镜。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学器件包括一对棱镜和定位在所述一对棱镜之间的阻挡元件。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学器件包括偏振控制单元，以控制所述输入束的偏振。
9.根据权利要求1所述的系统，进一步包括偏振器，所述偏振器位于所述暗场检测模块之前；其中所述偏振器包括第一区段和第二区段；其中所述第一区段包括平行金属区段的第一栅格；其中所述第二区段包括平行金属区段的第二栅格；并且其中所述第一栅格朝向所述第二栅格取向。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学器件包括路径补偿单元，以用于补偿所述第一模式与所述第二模式之间的光程差。
11.一种用于样本的多模式检查的系统，包括：
一个辐射源，所述一个辐射源被配置为提供输入束；
物镜；
明场检测模块；
暗场检测模块；
机械操作器；以及
光学器件，当在第一模式中时，所述光学器件被配置为引导所述输入束通过第一开口朝向所述物镜的特定区域；
其中所述物镜被配置为：(a)以第一角度将被引导朝向所述物镜的所述特定区域的所述输入束聚焦到所述样本上；(b)收集从物体反射的反射束；(c)收集从所述样本散射的一个或多个散射束，以及(d)朝向所述光学器件引导所述反射束和所述一个或多个散射束；
其中当在所述第一模式中时，所述光学器件被配置为引导所述反射束朝向所述明场检测模块，并引导所述一个或多个散射束朝向所述暗场检测模块；
其中当在第二模式中时，所述光学器件被配置为引导所述输入束通过第二开口朝向所述物镜的另一个区域；所述物镜的所述另一个区域与所述物镜的所述特定区域不同；
其中所述第一开口形成在第一掩模中，且所述第二开口形成在第二掩模中，并且其中所述机械操作器被配置为在所述第一模式与所述第二模式之间改变所述第一掩模和所述第二掩模的位置；
其中所述物镜被配置为：(a)以第二角度将被引导朝向所述物镜的所述另一个区域的所述输入束聚焦到所述样本上；(b)收集从所述样本反射的所述反射束；(c)收集从所述样本散射的所述一个或多个散射束，以及(d)朝向所述光学器件引导所述反射束和所述一个或多个散射束；
其中当在所述第二模式中时，所述光学器件被配置为引导所述反射束朝向所述明场检测模块，并引导所述一个或多个散射束朝向所述暗场检测模块。
12.一种用于通过系统对样本进行多模式检查的方法，所述方法包括：
通过所述系统的一个辐射源提供输入束；
当所述系统以第一模式操作时，通过所述系统的光学器件引导所述输入束第一开口朝向物镜的第一区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分；
当所述系统以所述第一模式操作时，通过所述系统的物镜以第一角度将被引导朝向所述物镜的所述第一区域的所述输入束聚焦到所述样本上；
当所述系统在第二模式中操作时，通过所述光学器件引导所述输入束通过第二开口朝向所述物镜的第二区域，而基本上不阻挡所述输入束的任何部分；其中所述物镜的所述第一区域与所述物镜的所述第二区域不同，并且其中所述第一开口形成在第一掩模中，且所述第二开口形成在第二掩模中，并且机械操作器被配置为在所述第一模式与所述第二模式之间改变所述第一掩模和所述第二掩模的位置；
当所述系统以所述第二模式操作时，通过所述系统的所述物镜以第二角度将被引导朝向所述物镜的所述第二区域的所述输入束聚焦到所述样本上；其中所述第一角度与所述第二角度不同；
当所述系统以所述第一模式操作时和当所述系统以所述第二模式操作时，通过所述系统的所述物镜收集从所述样本反射的反射束；
当所述系统以所述第一模式操作时和当所述系统以所述第二模式操作时，通过所述物镜收集从所述样本散射的一个或多个散射束；
引导所述反射束和一个或多个散射束朝向所述光学器件；
通过所述光学器件引导所述反射束朝向明场检测模块；以及
通过所述光学器件引导所述一个或多个散射束朝向暗场检测模块。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11580650B2 (en) 2019-10-01 2023-02-14 KLA Corp. Multi-imaging mode image alignment
US11105740B2 (en) * 2019-10-22 2021-08-31 Applied Materials Israel Ltd. Optical inspection
CN114396888B (zh) * 2021-12-30 2023-11-14 北京无线电计量测试研究所 一种可同时实现明场与暗场成像的共聚焦显微装置

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1943510A (en) * 1931-10-15 1934-01-16 Zeiss Carl Fa Device for light-field and darkfield illumination of microscopic objects
DE2542075A1 (de) * 1975-09-20 1977-07-21 Leitz Ernst Gmbh Auflicht-beleuchtungseinrichtung fuer hell- und dunkelfeldbeleuchtung
US4441124A (en) * 1981-11-05 1984-04-03 Western Electric Company, Inc. Technique for inspecting semiconductor wafers for particulate contamination
US4585315A (en) * 1984-11-13 1986-04-29 International Business Machines Corporation Brightfield/darkfield microscope illuminator
DE3442218A1 (de) * 1984-11-19 1986-05-28 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Auflichtbeleuchtungsapparat fuer mikroskope
DE3714830A1 (de) * 1987-05-05 1988-11-17 Leitz Ernst Gmbh Kombinierte hellfeld-dunkelfeld- auflichtbeleuchtungseinrichtung
DE69525007T2 (de) * 1994-09-30 2002-09-26 Scalar Corp Beleuchtungsvorrichtung für ein Betrachtungs- oder Bildaufnahmegerät
JP4030815B2 (ja) * 2001-07-10 2008-01-09 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション 同時のまたは連続的な多重の斜視的な試料欠陥検査のためのシステムおよび方法
JP2003149169A (ja) * 2001-11-16 2003-05-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウエハ欠陥検査装置
US7049586B2 (en) * 2002-02-21 2006-05-23 Applied Material Israel, Ltd. Multi beam scanning with bright/dark field imaging
US6882417B2 (en) * 2002-03-21 2005-04-19 Applied Materials, Inc. Method and system for detecting defects
US6809808B2 (en) * 2002-03-22 2004-10-26 Applied Materials, Inc. Wafer defect detection system with traveling lens multi-beam scanner
DE10239548A1 (de) * 2002-08-23 2004-03-04 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Inspektion eines Objekts
US7259869B2 (en) * 2004-06-29 2007-08-21 Kla-Tencor Technologies Corporation System and method for performing bright field and dark field optical inspection
US7616323B2 (en) * 2005-01-20 2009-11-10 Zygo Corporation Interferometer with multiple modes of operation for determining characteristics of an object surface
JP4723362B2 (ja) * 2005-11-29 2011-07-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 光学式検査装置及びその方法
US7782452B2 (en) * 2007-08-31 2010-08-24 Kla-Tencor Technologies Corp. Systems and method for simultaneously inspecting a specimen with two distinct channels
JP6010042B2 (ja) 2010-12-16 2016-10-19 ケーエルエー−テンカー コーポレイション ウェーハ検査
US20130148115A1 (en) * 2011-12-12 2013-06-13 Yoav Berlatzky Optical system and method for inspection of patterned samples
KR102117133B1 (ko) * 2012-03-07 2020-05-29 케이엘에이 코포레이션 조명 동공 구성을 선택하기 위한 웨이퍼 및 레티클 검사 시스템 및 방법
US9354212B2 (en) * 2014-01-07 2016-05-31 Applied Materials Israel Ltd. Inspection having a segmented pupil
US9772297B2 (en) * 2014-02-12 2017-09-26 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for combined brightfield, darkfield, and photothermal inspection
EP4030201A1 (en) * 2014-10-14 2022-07-20 Nanotronics Imaging, Inc. An imaging apparatus and a process for imaging a surface of a specimen
CN204439923U (zh) * 2015-03-05 2015-07-01 北京大学 一种暗场显微镜
FR3045156B1 (fr) * 2015-12-11 2017-12-22 Soitec Silicon On Insulator Procede de detection de defauts et dispositif associe
US10422984B2 (en) * 2017-05-12 2019-09-24 Applied Materials, Inc. Flexible mode scanning optical microscopy and inspection system

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