CN115256208B - 一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，装置包括：容器，用于进行抛光反应，内部具有的容纳腔室中盛有抛光液，抛光液中混合有磁针；网笼，设有多个，内部用于放置至少一个钴铬钼合金义齿，网笼和钴铬钼合金义齿均浸入在抛光液中，网笼的顶部通过连接杆与容器连接；第一装置，具有产生旋转磁场的功能，用于实现磁针的转动，旋转的磁针搅动抛光液，实现钴铬钼合金义齿的抛光；冷却装置，置于容器的外部，用于减缓抛光过程中抛光液的升温速度。本发明可运用到复杂曲面的零件抛光中，克服了传统应力去除材料的缺点；能实现钴铬钼合金义齿的大批量精密抛光，能同时抛光同种曲面类型的零件，也能同时抛光不同曲面类型的零件。

Description

一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺
技术领域
本发明涉及精密加工技术领域，具体而言，尤其涉及一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺。
背景技术
钴铬钼合金因其较高的耐蚀性(抗酸、抗碱、抗氧化)、摩擦性和生物相容性，在生物医学领域得到广泛应用，常被用作植入体材料，尤其是作为人工义齿的首选材料。但是人工义齿作为植入人体内的外来物，不仅要安全可靠，物理和化学稳定性好，还必须要具有良好的耐磨损和耐疲劳性能。与此同时，义齿表面应光滑，表面粗糙度Ra不能超过0.1μm，以达到高的生物相容性，并能促进口腔细胞的增殖和粘附。但是钴铬钼合金可加工性差，很难达到所期望的精度要求。传统接触式的抛光方法在加工钴铬钼合金义齿时容易产生较大的残余应力，义齿表面容易留下明显的刻划痕迹，工件表面严重黏附，影响钴铬钼合金表面形貌的完整性。而且，因为钴铬钼合金义齿工件通常是小尺寸的复杂曲面零件，传统式的磨抛设备难以匹配加工需要，行业内通常是采取手工磨抛的办法，一次只能磨抛一个工价，费时、费力，无法批量化磨抛，存在着效率低下的问题。在行业内，复杂曲面的钴铬钼合金义齿件可批量化的抛光工艺也鲜有报道。因此，设计一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，达到高质量磨抛效果，可实现批量化加工，对整个义齿加工行业的发展将具有重要意义。
发明内容
根据上述提出的传统式的磨抛设备难以匹配加工需要，行业内通常是采取手工磨抛的办法，一次只能磨抛一个工价，费时、费力，无法批量化磨抛，存在着效率低下的问题；在行业内，复杂曲面的钴铬钼合金义齿件可批量化的抛光工艺也鲜有报道的技术问题，而提供一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺。本发明主要采用化学机械抛光原理，将其运用到复杂曲面的零件抛光中，克服了传统应力去除材料的缺点，通过耦合磁场，能实现钴铬钼合金义齿的大批量精密抛光，能同时抛光同种曲面类型的零件，也能同时抛光不同曲面类型的零件，从而解决义齿加工行业面临的困境，如：复杂曲面的义齿零件抛光难度大，传统方法抛光精度低，抛光效率低下，需要大量人工参与耗时、耗力，不能批量抛光等，无形中增加了企业的制造成本等问题。
本发明采用的技术手段如下：
一种钴铬钼合金义齿抛光装置，包括：
容器，用于进行抛光反应，内部具有的容纳腔室中盛有抛光液，抛光液中混合有磁针；
网笼，设有多个，内部用于放置至少一个钴铬钼合金义齿，网笼和钴铬钼合金义齿均浸入在抛光液中，网笼的顶部与容器的顶部连接；
第一装置，位于整个抛光装置的底部并连接在容器的下方，具有产生旋转磁场的功能，用于实现磁针的转动，旋转的磁针搅动抛光液，实现钴铬钼合金义齿的抛光；
冷却装置，安装在第一装置上并置于容器的外部，用于减缓抛光过程中抛光液的升温速度，进行降温来保持抛光的恒温环境。
进一步地，所述容器为圆筒状的抛光筒，顶部设有筒盖，网笼通过连接杆与筒盖连接；所述网笼为由钢线构成的球体网状结构，用于限制钴铬钼合金义齿的活动范围，达到局部固定作用；磁针的长度小于钢线之间的间隙。
进一步地，所述冷却装置包括水冷槽、水冷泵和导管，水冷槽安装在第一装置的顶部，包括外槽、内槽和若干连通孔，内槽设置在外槽内部，若干连通孔开设在内槽壁的四周，外槽和内槽中均加入水冷液，并通过连通孔相连通；
所述容器放置在内槽中央，内槽的尺寸大于容器的外壁尺寸，包围在容器的外部，内槽中的水冷液与容器外壁接触，来减缓抛光过程中抛光液的升温速度；水泵通过导管与外槽内部连接，用于循环外槽中的水冷液，内槽和外槽的水冷液通过连通孔互换达到冷却降温的效果，间接控制抛光液的温度。
进一步地，所述抛光液由混合的磨粒和反应剂组成，旋转的磁针用于搅动磨粒，不断撞击网笼中钴铬钼合金义齿的表面，基于网笼的限制作用，磁针和磨粒的碰撞不会使钴铬钼合金义齿发生较大的位移，钴铬钼合金义齿与磁针和磨粒之间相对速度较大，得到充分的接触，钴铬钼合金义齿被软化的表层材料在磁针和磨粒不断的刻划、磨削、刮擦中被去除，实现抛光效果。
进一步地，整个所述网笼和钴铬钼合金义齿完全浸入于抛光液中。
进一步地，所述第一装置为磁力抛光机，磁力抛光机连接有控制开关。
本发明还提供了一种钴铬钼合金义齿抛光工艺，利用上述钴铬钼合金义齿抛光装置对钴铬钼合金义齿进行抛光，包括如下步骤：
步骤一：将水冷槽放置在磁力抛光机上，并往水冷槽中注入一定量的水冷液；
步骤二：配置第一种抛光液，将第一种抛光液和磁针一并加入至抛光筒中；
步骤三：将一定数量的钴铬钼合金义齿放入各个网笼，网笼均通过连接杆与筒盖连接，将筒盖盖在抛光筒顶部，且网笼完全没入第一种抛光液中；启动控制开关，加工一定时间后，第一种抛光液温度过高时，水冷泵开始工作，通过导管循环冷却加入的水冷液，对第一种抛光液进行降温，保证第一种抛光液与钴铬钼合金义齿工件持续反应，适当的抛光时间后，即可完成钴铬钼合金义齿的粗抛；
步骤四：取出网笼，用去离子水涮洗钴铬钼合金义齿上残留的第一种抛光液；配置第二种抛光液，将配置成的第二种抛光液替换掉步骤三中粗抛后的抛光筒中的液体，再将刷洗后的钴铬钼合金义齿以及网笼重新放入抛光筒中，完全浸入至第二种抛光液中，再次启动，加工一定时间后，完成钴铬钼合金义齿的精抛。
进一步地，所述步骤二中，第一种抛光液和磁针的体积比为1：1。
进一步地，所述第一种抛光液的物质组分为：磨粒和反应剂，所述磨粒为500目的碳化硅，所述反应剂的物质组分为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为磷酸，氧化剂为K2FeO4，pH调节剂与氧化剂的配比为5：1与8：1。
进一步地，所述步骤四中，第二种抛光液的物质组分为磨粒和反应剂，所述磨粒为2.5um粒径的氧化铝，所述反应剂为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为偏磷酸，氧化剂为H2O2，pH调节剂与氧化剂的配比为2.5：1与3：1之间。
较现有技术相比，本发明具有以下优点：
1、本发明提供的钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，采用化学机械抛光原理，将其运用到复杂曲面的零件抛光中，克服了传统应力去除材料的缺点；通过耦合磁场，能实现钴铬钼合金义齿的大批量精密抛光；能同时抛光同种曲面类型的零件，也能同时抛光不同曲面类型的零件。
2、本发明提供的钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，增加了水冷装置，抛光过程中可以控制抛光液温度在稳定的范围内，避免抛光液温度过高造成抛光液中部分反应物质分解，导致抛光效率以及抛光效果的降低。
3、本发明提供的钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，设计的网笼式夹具合理里控制了抛光件自由度，实现一种固定效果，提高了磁针、磨粒与工件的相对速度，增加接触频率，使磁针、磨粒与抛光件之间得到充分的接触、碰撞提高抛光效率及其效果。
综上，应用本发明的技术方案能够解决传统式的磨抛设备难以匹配加工需要，行业内通常是采取手工磨抛的办法，一次只能磨抛一个工价，费时、费力，无法批量化磨抛，存在着效率低下的问题；在行业内，复杂曲面的钴铬钼合金义齿件可批量化的抛光工艺也鲜有报道的问题。
基于上述理由本发明可在义齿加工等领域广泛推广。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明装置的三维总装示意图。
图2为本发明中网笼的结构示意图。
图3为本发明中抛光液的机理示意图。
图4为本发明中水冷槽的结构示意图。
图中：1、网笼；2、抛光液；3、水冷槽；4、抛光筒；5、筒盖；6、连接杆；7、水冷液；8、磁力抛光机；9、控制开关；10、水冷泵；11、导管；1-1、钴铬钼合金义齿；1-2、钢线；2-1、磁针；2-2、磨粒；2-3、反应剂；3-1、外槽；3-2、内槽；3-3、连通孔。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本发明的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。同时，应当清楚，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员己知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任向具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
在本发明的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制：方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其位器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
如图所示，本发明提供了一种钴铬钼合金义齿抛光装置及其抛光工艺，涉及精密加工领域，具体为能够实现钴铬钼合金义齿批量化的抛光、表面可达到微米尺度的效果，能够满足义齿行业需求。
所述钴铬钼合金义齿抛光装置，包括：
容器，用于进行抛光反应，内部具有的容纳腔室中盛有抛光液2，抛光液2中混合有磁针2-1；
网笼1，设有多个，内部用于放置至少一个钴铬钼合金义齿1-1，网笼1和钴铬钼合金义齿1-1均浸入在抛光液2中，网笼1的顶部与容器的顶部通过连接杆6连接；
第一装置，位于整个抛光装置的底部并连接在容器的下方，具有产生旋转磁场的功能，用于实现磁针2-1的转动，旋转的磁针2-1搅动抛光液2，实现钴铬钼合金义齿1-1的抛光；
冷却装置，安装在第一装置上并置于容器的外部，用于减缓抛光过程中抛光液2的升温速度，进行降温来保持抛光的恒温环境。
作为优选的实施方式，所述容器为圆筒状的抛光筒4，顶部设有筒盖5，网笼1通过连接杆6与筒盖5连接；所述网笼1为由钢线1-2构成的球体网状结构，用于限制钴铬钼合金义齿1-1的活动范围，达到局部固定作用；磁针2-1的长度小于钢线1-2之间的间隙。
作为优选的实施方式，所述冷却装置包括水冷槽3、水冷泵10和导管11，水冷槽3安装在第一装置的顶部，包括外槽3-1、内槽3-2和若干连通孔3-3，内槽3-2设置在外槽3-1内部，若干连通孔3-3开设在内槽3-2壁的四周，外槽3-1和内槽3-2中均加入水冷液7，并通过连通孔3-3相连通；
所述容器放置在内槽3-2中央，内槽3-2的尺寸大于容器的外壁尺寸，包围在容器的外部，内槽3-2中的水冷液7与容器外壁接触，来减缓抛光过程中抛光液2的升温速度；水泵通过导管11与外槽3-1内部连接，用于循环外槽3-1中的水冷液7，内槽3-2和外槽3-1的水冷液7通过连通孔3-3互换达到冷却降温的效果，间接控制抛光液2的温度。
作为优选的实施方式，所述抛光液2由混合的磨粒2-2和反应剂2-3组成，旋转的磁针2-1用于搅动磨粒2-2，不断撞击网笼1中钴铬钼合金义齿1-1的表面，基于网笼1的限制作用，磁针2-1和磨粒2-2的碰撞不会使钴铬钼合金义齿1-1发生较大的位移，钴铬钼合金义齿1-1与磁针2-1和磨粒2-2之间相对速度较大，得到充分的接触，钴铬钼合金义齿1-1被软化的表层材料在磁针2-1和磨粒2-2不断的刻划、磨削、刮擦中被去除，实现抛光效果。
作为优选的实施方式，整个所述网笼1和钴铬钼合金义齿1-1完全浸入于抛光液2中。
作为优选的实施方式，所述第一装置为磁力抛光机8，磁力抛光机8连接有控制开关9。
本发明还提供了一种钴铬钼合金义齿抛光工艺，利用上述钴铬钼合金义齿抛光装置对钴铬钼合金义齿1-1进行抛光，包括如下步骤：
步骤一：将水冷槽3放置在磁力抛光机8上，并往水冷槽3中注入一定量的水冷液7；
步骤二：配置第一种抛光液2，将第一种抛光液2和磁针2-1一并加入至抛光筒4中；
步骤三：将一定数量的钴铬钼合金义齿1-1放入各个网笼1，网笼1均通过连接杆6与筒盖5连接，将筒盖5盖在抛光筒4顶部，且网笼1完全没入第一种抛光液2中；启动控制开关9，加工一定时间后，第一种抛光液2温度过高时，水冷泵10开始工作，通过导管11循环冷却加入的水冷液7，对第一种抛光液2进行降温，保证第一种抛光液2与钴铬钼合金义齿1-1工件持续反应，适当的抛光时间后，即可完成钴铬钼合金义齿1-1的粗抛；
步骤四：取出网笼1，用去离子水涮洗钴铬钼合金义齿1-1上残留的第一种抛光液2；配置第二种抛光液2，将配置成的第二种抛光液2替换掉步骤三中粗抛后的抛光筒4中的液体，再将刷洗后的钴铬钼合金义齿1-1以及网笼1重新放入抛光筒4中，完全浸入至第二种抛光液2中，再次启动，加工一定时间后，完成钴铬钼合金义齿1-1的精抛。
作为优选的实施方式，所述步骤二中，第一种抛光液2和磁针2-1的体积比为1：1。
作为优选的实施方式，所述第一种抛光液2的物质组分为：磨粒2-2和反应剂2-3，所述磨粒2-2为500目的碳化硅，所述反应剂2-3的物质组分为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为磷酸，氧化剂为K2FeO4，pH调节剂与氧化剂的配比为5：1与8：1。
作为优选的实施方式，所述步骤四中，第二种抛光液2的物质组分为磨粒2-2和反应剂2-3，所述磨粒2-2为2.5um粒径的氧化铝，所述反应剂2-3为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为偏磷酸，氧化剂为H2O2，pH调节剂与氧化剂的配比为2.5：1与3：1。
实施例1
如图1-4所示，一种钴铬钼合金义齿抛光装置，包括6个网笼1、抛光液2、水冷槽3、抛光筒4、筒盖5、连接杆6、水冷液7、磁力抛光机8、控制开关9、水冷泵10、导管11、钴铬钼合金义齿1-1以及磁针2-1，网笼1由钢线1-2构成，抛光液2由磨粒2-2和反应剂2-3组成，水冷槽3包括外槽3-1、内槽3-2和连通孔3-3。
其中，磁力抛光机8位于整个抛光装置的底部，主要提供可旋转的磁场，是磁针转动的动力来源，磁力抛光机8上面放置加入适量水冷液7的水冷槽3，外槽3-1与内槽3-2通过连通孔3-3使水冷液成为一体，其内槽3-2长度略大于反应筒(抛光筒4)，能够较好地固定反应筒，防止其大幅晃动，水冷液7(冷却液)可以减缓抛光过程中抛光液2的升温速度，实现一种降温的效果。水冷泵10通过导管11可以循环冷却外槽3-1中水冷液7(水冷泵10和导管11可以设置两组，分布在水冷槽3的两侧)，内外槽的水冷液通过连通孔3-3互换共同得到冷却降温的效果，能够间接控制抛光液的温度。抛光筒4放置水冷槽3中央，用来盛有抛光液2和磁针2-1，同时作为抛光反应的容器。网笼1中放置有一定数量的需要抛光的义齿工件(钴铬钼合金义齿1-1)，通过连接杆6与抛光筒4上方的筒盖5连接(连接杆6竖向设置，6个网笼1可沿抛光筒4中心线进行周向均匀布置)，具有固定网笼1的效果，同时网笼1的结构特点限制了钴铬钼合金义齿1-1的活动范围，达到一种局部固定的效果。整个网笼1被完全浸入于抛光液2中，使抛光义齿件产生化学反应，改变义齿表层的塑性、硬度、致密性等，实现软化义齿表层材料的效果。
抛光作业时，磁力抛光机产生一个旋转的磁场，旋转的磁场会使抛光筒中混在抛光液里的小磁针转动，具备较大的动能，进而搅动抛光液旋转。浸入抛光液中的网笼盛有一定数量的钴铬钼合金义齿件，又因其完全浸入抛光液中，将会与抛光液发生一些列化学反应，会使钴铬钼合金义齿表层材料软化，小磁针的长度小于网笼的钢线之间的间隙，旋转的小磁针包括其搅动的磨粒将会不断的撞击网笼中义齿工件的表面，因为网笼的限制作用，小磁针和磨粒的碰撞不会使义齿发生较大的位移，义齿与小磁针和磨粒之间相对速度较大，也会得到充分的接触，义齿被软化的表层材料会因小磁针和磨粒不断的刻划、磨削、刮擦等被去除，达到抛光效果。而且，水泵、导管、水冷槽和水冷液的存在一定程度上保持抛光的恒温环境，一旦温度过高，水冷泵将自动给与水冷液循环降温，抛光可以长时间进行。
实施例2
在实施例1的基础上，本发明还提供了一种钴铬钼合金义齿抛光工艺，整个抛光工艺过程如下：
步骤一：将水冷槽3放置在磁力抛光机8上，并往水冷槽3中注入一定量的水冷液7，大量的实验表明，生活用水即可作为本抛光工艺所需的水冷液7。
步骤二：以500目的碳化硅为磨粒，磷酸为pH调节剂，K2FeO4为氧化剂以及适量的缓蚀剂配置抛光液2(pH调节剂和氧化剂的配比为6：1)，并加入小磁针2-1，抛光液2和小磁针2-1的体积比为1：1，一并加入抛光筒4中。
步骤三：将一定数量的钴铬钼合金义齿1-1放入网笼1，网笼1通过连接杆6连接筒盖5，给抛光筒4盖上筒盖5，且网笼1会完全没入抛光液2中。启动控制开关9，加工一定的时间后，抛光液温度过高时，水冷泵10开始工作，通过导管11循环冷却加入的水冷液7(冷却液)，间接地给予抛光液降温，保证抛光液与工件持续反应，适当的抛光时间后，即可完成粗抛的作用。
步骤四：配置新的抛光液2，以2.5um粒径的氧化铝为磨粒替代500目碳化硅，pH调节剂用偏磷酸，氧化剂则采用H2O2(pH调节剂和氧化剂的配比为2.5：1)，配置成新的抛光液替换抛光筒4中旧的液体，取出网笼1，用去离子水涮洗钴铬钼合金义齿1-1抛光液残留，再重新放入，再次启动，合适的时间后，可达到精抛的效果。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (2)

1.一种钴铬钼合金义齿抛光工艺，利用钴铬钼合金义齿抛光装置对钴铬钼合金义齿(1-1)进行抛光，其特征在于，所述钴铬钼合金义齿抛光装置包括：容器、网笼(1)、第一装置和冷却装置；
所述容器用于进行抛光反应，内部具有的容纳腔室中盛有抛光液(2)，抛光液(2)中混合有磁针(2-1)；所述容器为圆筒状的抛光筒(4)，顶部设有筒盖(5)，网笼(1)通过连接杆(6)与筒盖(5)连接；所述网笼(1)为由钢线(1-2)构成的球体网状结构，用于限制钴铬钼合金义齿(1-1)的活动范围，达到局部固定作用；磁针(2-1)的长度小于钢线(1-2)之间的间隙；
所述网笼(1)设有多个，内部用于放置至少一个钴铬钼合金义齿(1-1)，网笼(1)和钴铬钼合金义齿(1-1)均浸入在抛光液(2)中，网笼(1)的顶部与容器的顶部连接；
所述第一装置位于整个抛光装置的底部并连接在容器的下方，具有产生旋转磁场的功能，用于实现磁针(2-1)的转动，旋转的磁针(2-1)搅动抛光液(2)，实现钴铬钼合金义齿(1-1)的抛光；所述第一装置为磁力抛光机(8)，磁力抛光机(8)连接有控制开关(9)；
所述冷却装置安装在第一装置上并置于容器的外部，用于减缓抛光过程中抛光液(2)的升温速度，进行降温来保持抛光的恒温环境；所述冷却装置包括水冷槽(3)、水冷泵(10)和导管(11)，水冷槽(3)安装在第一装置的顶部，包括外槽(3-1)、内槽(3-2)和若干连通孔(3-3)，内槽(3-2)设置在外槽(3-1)内部，若干连通孔(3-3)开设在内槽(3-2)壁的四周，外槽(3-1)和内槽(3-2)中均加入水冷液(7)，并通过连通孔(3-3)相连通；所述容器放置在内槽(3-2)中央，内槽(3-2)的尺寸大于容器的外壁尺寸，包围在容器的外部，内槽(3-2)中的水冷液(7)与容器外壁接触，来减缓抛光过程中抛光液(2)的升温速度；水泵通过导管(11)与外槽(3-1)内部连接，用于循环外槽(3-1)中的水冷液(7)，内槽(3-2)和外槽(3-1)的水冷液(7)通过连通孔(3-3)互换达到冷却降温的效果，间接控制抛光液(2)的温度；
所述抛光液(2)由混合的磨粒(2-2)和反应剂(2-3)组成，旋转的磁针(2-1)用于搅动磨粒(2-2)，不断撞击网笼(1)中钴铬钼合金义齿(1-1)的表面，基于网笼(1)的限制作用，磁针(2-1)和磨粒(2-2)的碰撞不会使钴铬钼合金义齿(1-1)发生较大的位移，钴铬钼合金义齿(1-1)与磁针(2-1)和磨粒(2-2)之间相对速度较大，得到充分的接触，钴铬钼合金义齿(1-1)被软化的表层材料在磁针(2-1)和磨粒(2-2)不断的刻划、磨削、刮擦中被去除，实现抛光效果；
所述抛光液(2)包括第一种抛光液(2)和第二种抛光液(2)；
所述第一种抛光液(2)的物质组分为：磨粒(2-2)和反应剂(2-3)，所述磨粒(2-2)为500目的碳化硅，所述反应剂(2-3)的物质组分为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为磷酸，氧化剂为K2FeO4，pH调节剂与氧化剂的配比为5：1与8：1之间；
所述第二种抛光液(2)的物质组分为磨粒(2-2)和反应剂(2-3)，所述磨粒(2-2)为2.5um粒径的氧化铝，所述反应剂(2-3)为pH调节剂、氧化剂和缓蚀剂，所述pH调节剂为偏磷酸，氧化剂为H2O2，pH调节剂与氧化剂的配比为2.5：1与3：1之间；
所述钴铬钼合金义齿抛光工艺包括如下步骤：
步骤一：将水冷槽(3)放置在磁力抛光机(8)上，并往水冷槽(3)中注入一定量的水冷液(7)；
步骤二：配置第一种抛光液(2)，将第一种抛光液(2)和磁针(2-1)一并加入至抛光筒(4)中；
步骤三：将一定数量的钴铬钼合金义齿(1-1)放入各个网笼(1)，网笼(1)均通过连接杆(6)与筒盖(5)连接，将筒盖(5)盖在抛光筒(4)顶部，且网笼(1)完全没入第一种抛光液(2)中；启动控制开关(9)，加工一定时间后，第一种抛光液(2)温度过高时，水冷泵(10)开始工作，通过导管(11)循环冷却加入的水冷液(7)，对第一种抛光液(2)进行降温，保证第一种抛光液(2)与钴铬钼合金义齿(1-1)工件持续反应，适当的抛光时间后，即可完成钴铬钼合金义齿(1-1)的粗抛；
步骤四：取出网笼(1)，用去离子水涮洗钴铬钼合金义齿(1-1)上残留的第一种抛光液(2)；配置第二种抛光液(2)，将配置成的第二种抛光液(2)替换掉步骤三中粗抛后的抛光筒(4)中的液体，再将刷洗后的钴铬钼合金义齿(1-1)以及网笼(1)重新放入抛光筒(4)中，完全浸入至第二种抛光液(2)中，再次启动，加工一定时间后，完成钴铬钼合金义齿(1-1)的精抛。
2.根据权利要求1所述的钴铬钼合金义齿抛光工艺，其特征在于，所述步骤二中，第一种抛光液(2)和磁针(2-1)的体积比为1：1。
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