CN115181950A - 靶材调节机构及其控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种靶材调节机构，包括中空的阳极筒以及安装于所述阳极筒一端的基座，所述基座上设有第一通孔，所述第一通孔内滑动安装有阴极杆，所述阴极杆的一端位于阳极筒的内侧且安装有所述靶材，所述阴极杆的另一端位于阳极筒的外侧，所述阴极杆与所述基座滑动密封连接，所述阴极杆位于阳极筒外侧的另一端上还连接有流体驱动件，所述流体驱动件通过流体驱动以带动所述阴极杆移动。本发明通过在基座上设置流体驱动件以带动靶材沿着阴极杆的轴向运动，从而调节靶材在阳极筒中的位置，确保最佳烧蚀位点，实现靶材烧蚀的时时稳定，同时，避免了手动调节阴极杆，调节效率更高。

Description

靶材调节机构及其控制方法

技术领域

本发明涉及电弧镀膜设备领域，尤其涉及一种靶材调节机构及其控制方法。

背景技术

在当前设备上，阴极杆及其靶材位置固定，磁场位型由电磁场决定，一般对于某一工艺而言，其参数基本固定，这些硬件缺乏灵活性，在生产过程中，容易造成不良的影响：另外，现有弯管磁过滤技术应用于生产中，由于弯管外部电、磁场等基本参数可调范围有限，靶材烧蚀不能长时间稳定，特别是对于石墨靶材，经常发生灭弧，趋稳时间长；在固定外部线圈条件下，其磁力线位型固定，存在一定的磁场范围保障弧源稳定烧蚀，随着烧蚀时间增长，靶材高度越来越小，导致弧斑在靶面上的控制变弱，利用率不足50％，且换靶及维护次数及时间较长；弧源阴极烧蚀经常发生跑弧与引弧针发生短路，导致生产中断且易造成机械件烧融化，维修成本大大增加。

发明内容

本发明的目的在于提供一种靶材调节机构及其控制方法，以解决靶材烧蚀不稳定、利用率不高的问题。

为了实现上述目的，第一方面，本发明提供的一种靶材调节机构，包括中空的阳极筒以及安装于所述阳极筒一端的基座，所述基座上设有第一通孔，所述第一通孔内滑动安装有阴极杆，所述阴极杆的一端位于阳极筒的内侧且安装有所述靶材，所述阴极杆的另一端位于阳极筒的外侧，所述阴极杆与所述基座滑动密封连接，所述阴极杆位于阳极筒外侧的另一端上还连接有流体驱动件，所述流体驱动件通过流体驱动以带动所述阴极杆移动。

优选地，所述流体驱动件为气动装置，所述气动装置包括围绕阴极杆设置的外壳，所述阴极杆穿设于所述外壳中，所述外壳内设有移动板，所述移动板的中部开设第二通孔，所述阴极杆穿设于所述第二通孔中并与所述移动板密封固定连接，所述移动板的周壁与所述外壳的内壁密封连接以与外壳的底壁形成第一空腔；所述气动装置还包括进气通道和出气通道，所述进气通道和出气通道均与所述第一空腔连通，所述进气通道和出气通道上还设有阀门以控制进气通道进气或出气通道出气。

优选地，所述阀门为电磁阀，所述电磁阀电性连接控制器，所述控制器用于控制电磁阀以控制进气通道或出气通道的气量。

优选地，所述外壳内还设有位于所述移动板上方的调压板，所述调压板的中部开设第三通孔，所述阴极杆穿设于所述第三通孔中并与所述调压板密封滑动连接，所述调压板的周壁与所述外壳密封连接，所述调压板与所述移动板之间形成第二空腔，所述第二空腔内预填充有压缩气体，所述外壳的顶壁上设有调节螺栓，所述调节螺栓抵压于所述调压板上，所述调节螺栓用于调节所述调压板的位置并固定所述调压板。

优选地，所述外壳的侧壁上还设有进气口和出气口，所述进气通道和出气通道分别通过进气口和出气口与所述第一空腔连通，所述外壳的内壁上还设置有朝向阴极杆延伸的限位凸起，所述限位凸起位于进气口和出气口的上方且位于所述移动板的下方。

优选地，所述气动装置还包括密封件，所述密封件的上部与所述移动板连接，所述密封件的下部延伸进基座的第一通孔中，所述密封件位于第一通孔中的长度大于移动板的最大移动行程，所述阴极杆穿设于所述密封件中以使得所述基座与所述阴极杆形成滑动密封连接。

优选地，所述靶材调节机构还包括真空磁流体密封装置，所述真空磁流体密封装置包括密封座体以及凸设于所述密封座体上的磁流体密封部，所述磁流体密封部包括中空的密封壳体以及安装于所述密封壳体内部的永磁体、极靴和磁流体，所述永磁体为至少一个，所述永磁体和极靴均安装在所述密封壳体的内侧壁上，所述永磁体在阴极杆的轴向方向上的两侧分别设有所述极靴，所述极靴朝向阴极杆的一侧设有磁液槽，所述磁液槽上设有磁流体，所述永磁体、极靴的中部设有密封通孔，所述阴极杆穿设于所述密封通孔中，所述磁流体密封部设于所述密封座体的下部，所述密封座体安装于基座朝向外侧的一侧上，所述磁流体密封部嵌设于所述基座内并向下延伸进阳极筒的内部。

优选地，所述流体驱动件为气动装置为一气缸，所述气缸包括一活塞杆，所述活塞杆连接所述阴极杆以带动所述阴极杆移动。

第二方面，本发明还提供一种靶材调节机构的控制方法，包括第一方面的靶材调节机构，所述控制方法包括如下步骤：确定所述流体驱动件中通入流体的流量与靶材位置的关系式；根据所述关系式调节通入流体驱动件的流量以调节靶材的位置。

优选地，所述靶材调节机构还包括控制器，所述控制方法还包括：将流量与靶材位置的关系式预设于所述控制器中；将靶材位置与烧蚀时间的关系式也预设于所述控制器中；通过所述控制器实时控制通入流体驱动件的流量以控制所述靶材的位置。

与现有技术相比，本发明通过在基座上设置流体驱动件以带动靶材沿着阴极杆的轴向运动，从而调节靶材在阳极筒中的位置，确保最佳烧蚀位点，实现靶材烧蚀的时时稳定，避免了手动调节阴极杆，调节效率更高；另外，通过灵活调节阴极靶材位置，避免弧斑出现异常烧蚀、阴极异常放电，元器件烧损，从而提高涂层设备安全性，涂层的品质有保障；通过使靶材最大程度地运行在最佳磁场位型中，改变磁力线穿透靶面的角度，原靶材利用率约为50％，现可提升至80％，大大提高了靶材的利用率。

附图说明

图1是本发明实施例一靶材调节机构的结构示意图。

图2是本发明实施例一安装有靶材和气动装置的阴极杆的结构示意图。

图3是本发明实施例一气动装置的结构示意图。

图4是本发明实施例二靶材调节机构的结构示意图。

图5是本发明实施例二真空磁流体密封装置的结构示意图。

图6是图5中A处的放大图。

图7是本发明实施例三靶材调节机构的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现的效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。

实施例一

如图1至图3所示，本发明提供的一种靶材调节机构，包括中空的阳极筒1以及安装于所述阳极筒1一端的基座2，所述基座2上设有第一通孔，所述第一通孔内滑动安装有阴极杆3，所述阴极杆3的一端位于阳极筒1的内侧且安装有所述靶材4，所述阴极杆3的另一端位于阳极筒1的外侧，所述阴极杆3与所述基座2滑动密封连接，所述阴极杆3位于阳极筒1外侧的另一端上还连接有流体驱动件5，所述流体驱动件5通过流体驱动以带动所述阴极杆3移动。

具体的，如图1至图2所示，所述阳极筒1可以为弯管结构，也可以为直管结构，所述阳极筒1内抽真空并充入惰性气体，所述阴极杆3通过流体驱动件5驱动以沿着自身的轴向前后移动，从而改变靶材4在阳极筒1中的位置，进而改变阳极筒1中电磁场磁力线穿过靶材4的角度以达到最佳的磁场位型。

本实施例通过在基座2上设置流体驱动件5，使得靶材4可以沿着阴极杆3的轴向运动，以调节靶材4在阳极筒1中的位置，确保最佳烧蚀位点，实现靶材4烧蚀的时时稳定；另外，通过灵活调节阴极靶材4位置，避免弧斑出现异常烧蚀、阴极异常放电，元器件烧损，从而提高涂层设备安全性，涂层的品质有保障；通过使靶材4最大程度地运行在最佳磁场位型中，改变磁力线穿透靶面的角度，原靶材4利用率约为50％，现可提升至80％，大大提高了靶材4的利用率。

本发明实施例中，如图1至图3所示，所述流体驱动件5为气动装置，所述气动装置包括围绕阴极杆3设置的外壳51，所述阴极杆3穿设于所述外壳51中，所述外壳51内设有移动板52，所述移动板52的中部开设第二通孔，所述阴极杆3穿设于所述第二通孔中并与所述移动板52密封固定连接，所述移动板52的周壁与所述外壳51的内壁密封连接以与外壳51的底壁形成第一空腔53；所述气动装置还包括进气通道6和出气通道7，所述进气通道6和出气通道7均与所述第一空腔53连通，所述进气通道6和出气通道7上还设有阀门8以控制进气通道6进气或出气通道7出气，通过向气动装置内通入压缩气体来推动移动板52运动，从而带动靶材4运动，避免手动移动阴极杆3，操作更方便。

具体的，所述移动板52与所述阴极杆3焊接固定，当然也可以通过其它方式连接，只要能够保持所述移动板52与所述阴极杆3之间密封且固定连接即可，所述外壳51的底壁与所述阴极杆3密封滑动连接，例如，所述外壳51的底壁与所述阴极杆3之间设置密封性能较好的密封圈。

需要说明的是，在另一些其他实施例中，所述流体驱动件5也可以为液压装置，通过通入液体来带动阴极杆运动，具体的结构可以参照图1的结构，只要将压缩空气替换成液体即可，具体的结构在此不再赘述。

本发明实施例中，如图2所示，所述阀门8为电磁阀，所述电磁阀电性连接控制器9，所述控制器9用于控制电磁阀以控制进气通道6或出气通道7的气量。通过自动化控制进气通道6或出气通道7的气量进而控制靶材4的位置，可以使得靶材4的位置控制更精确。

当然，在一些其它实施例中，所述阀门8也可以为手动阀门8，操作人员可根据经验手动控制阀门8的开、关。

本发明实施例中，如图2至3所示，所述外壳51内还设有位于所述移动板52的上方的调压板54，所述调压板54的中部开设第三通孔，所述阴极杆3穿设于所述第三通孔中并与所述调压板54密封滑动连接，所述调压板54的周壁与所述外壳51密封连接，所述调压板54与所述移动板52之间形成第二空腔55，所述第二空腔55内预填充有一定量的压缩气体，所述外壳51的顶壁上设有调节螺栓56，所述调节螺栓56抵压于所述调压板54上，所述调节螺栓56用于调节所述调压板54的位置并固定所述调压板54，通过旋转抵压在调压板54上的调节螺栓56，可以调节调压板54的位置以调节移动板52的量程变化，例如，调压板54上移后可以增大阴极杆3的移动量程，调压板54下移后可以减小阴极杆3的量程。

本发明实施例中，如图3所示，所述外壳51的侧壁上还设有进气口571和出气口572，所述进气通道6和出气通道7分别通过进气口571和出气口572与所述第一空腔53连通，所述外壳51的内壁上还设置有朝向阴极杆3延伸的限位凸起58，所述限位凸起58位于进气口571和出气口572的上方且位于所述移动板52的下方。所述限位凸起58用于保持进气口571和出气口572位于移动板52的下方从而限定移动板52的位置以避免阻挡进气口571和出气口572的位置，当然，在另一些其它实施例中，所述进气口571和出气口572还可以设于所述外壳51的底壁上，此时，可以不需要限位凸起58。

本发明实施例中，所述气动装置还包括密封件59，所述密封件59的上部与所述移动板52连接，所述密封件59的下部延伸进基座2的第一通孔中，所述密封件59位于第一通孔中的长度大于移动板52的最大移动行程，所述阴极杆3穿设于所述密封件59中以使得所述基座2与所述阴极杆3形成滑动密封连接。

具体的，所述密封件59为柱状，所述密封件59的上部与移动板52固定连接，所述密封件59随移动板52一起运动，所述密封件59位于第一通孔中的长度大于移动板52的最大移动行程，以使得密封件59在上移后仍然与基座2连接以保持阴极杆3与基座2的滑动密封，结构非常简单。

本发明实施例中，如图1至图2所示，所述阴极杆3位于阳极筒1内的一端的端部设有靶材座31，所述靶材座31上安装有靶材4，所述靶材座31上还设有冷却腔道311，所述阴极杆3位于阳极筒1外侧的另一端上设有进液口32和出液口33，所述阴极杆3的内部设有进液腔道和出液腔道，所述进液口32、进液腔道、出液腔道、出液口33以及冷却腔道311连通。从进液口32导入冷却液，所述冷却液流经进液腔道、冷却腔道311、出液腔道、并从出液口33导出从而对阴极杆3和靶材4进行冷却，延长阴极杆3和靶材4的使用寿命。所述阳极筒1的侧壁上内置有冷却流道13以用于给阳极筒1实时降温，延长阳极筒1的寿命。

本发明实施例中，如图1所示，所述阳极筒1的外侧壁上还围设有稳弧线圈11和聚焦线圈12，所述聚焦线圈12设于稳弧线圈11的外侧。所述稳弧线圈11用于控制靶材4烧蚀的稳定，所述聚焦线圈12促使带点粒子41居中收缩聚焦，使得带电粒子41沿着阳极筒1中心轴线运动，所述基座2上还安装有引弧组件10，引弧组件10击中靶材1的侧壁产生弧斑，在稳弧线圈11磁场作用下，弧斑迅速旋转向靶材表面运动，带电粒子41在聚焦线圈12的作用下轨迹向阳极筒1的中心轴线收拢聚焦。

实施例二

本实施例与上述实施例的区别在于，所述靶材调节机构还包括真空磁流体密封装置14，如图4至图6所示，所述真空磁流体密封装置14包括密封座体141以及凸设于所述密封座体141上的磁流体密封部142，所述磁流体密封部142包括中空的密封壳体143以及安装于所述密封壳体143内部的永磁体144、极靴145和磁流体，所述永磁体144为至少一个，所述永磁体144和极靴145均安装在所述密封壳体143的内侧壁上，所述永磁体144在阴极杆3的轴向方向上的两侧分别设有所述极靴145，所述极靴145朝向阴极杆3的一侧设有磁液槽146，所述磁液槽146上设有磁流体，所述永磁体144、极靴145的中部设有密封通孔147，所述阴极杆3穿设于所述密封通孔147中，所述磁流体密封部142设于所述密封座体141的下部，所述密封座体141安装于基座2朝向外侧的一侧上，磁流体密封部142嵌设于所述基座2内并向下延伸进阳极筒1的内部。通过将磁流体密封部142设于基座2内可以有效降低磁流体密封部142件所占用的基座2外部的空间，增强密封性能，同时可以直接使用阳极筒1内的磁场，实现真空磁流体密封装置14的密封功能。

实施例三

本实施例与实施例二的区别在于所述流体驱动件5的结构，如图7所示，本实施例中的流体驱动件5为气缸15，所述气缸15包括一活塞杆151，所述活塞杆151通过连杆152连接所述阴极杆3以带动所述阴极杆3移动。

上述实施例公开了靶材的调节机构，下面图1至图7对本发明提供的一种靶材调节机构的控制方法进行具体说明。

一种靶材调节机构的控制方法，包括上述实施例中的靶材调节机构，所述控制方法包括如下步骤：

S1、确定所述流体驱动件5中通入流体的流量与靶材4位置的关系式；

S2、根据所述关系式调节通入流体驱动件5的流量以调节靶材的位置。

通入预设流量的流体以带动所述阴极杆3朝向所述基座2运动或放出预设流量的流体以带动所述阴极杆3远离所述基座2运动。

具体的，步骤S1中，可以通过测试不同的进入流体驱动件5的流量和排出流体驱动件5的流量的比例，得到不同的靶材4位置，形成流量或者压力与靶材4的关系式，当然也可以通过数学推导的方式推算出关系式。

本发明实施例中，所述靶材调节机构还包括控制器9，所述控制器9为PLC控制器，所述控制方法还包括：

S12、将流量与靶材4位置的关系式预设于所述控制器9中；

S13、将靶材4位置与烧蚀时间的关系式也预设于所述控制器9中；

S21、通过所述控制器9实时控制通入流体驱动件5的流量以控制所述靶材4的位置。

下面结合图2至图3对本发明流量与靶材4位置关系式的数学推导进行说明。

如图2至图3所示，所述流体驱动件5为气动装置，包括移动板52、调压板54和PLC控制器，所述移动板52与外壳51的底壁形成第一空腔53，所述移动板52和调压板54之间形成第二空腔55。理想气体的状态方程为：PV＝nRT，其中P为压强，V为体积，n为气体摩尔质量，R为一个常数，T为温度，假设该气动装置中的温度不变，则在密闭的空间中，PV/T＝定值。靶材4位置固定时，第一空腔53和第二空腔55中的压强相同，当靶材4朝向基座移动距离L后，所述第一空腔53和第二空腔55中的压强仍保持相同，第二空腔55是密闭空间，受到压缩导致压强升高，忽略气体温度的变化，即T不变，则V减少，P增大，而第一空腔53由于气体的充入，整体的气压也同步升高，最终第一空腔53和第二空腔55的气压平衡。第一空腔53充入气体使得第一空腔53的体积变化(ΔV)，压强P增大，即ΔV＝Qt，其中，Q为气体的流量参数，由PLC控制流量计记录，t为时间，可由PLC控制器软件记录，当靶材4位置上升L时，阴极杆3同步上升高度为L，第一空腔53的体积变化为ΔV＝Lπ(R₁ ²-r²)，其中R₁为壳体的半径，r为阴极杆3的半径，因此，L＝Qt/π(R₁ ²-r²)，即靶材4变化的高度可以由气体的流量和通入气体的时间确定，一般情况下，工艺设定Q为某一固定值，则L＝Nt，其中，N＝Q/π(R₁ ²-r²)，为常数，因此，靶材4的高度变化可以只由通气时间确定，t应控制在升压到压强最小平衡值的时间，最小平衡值由调节螺母的位置和预充入第一空腔55中的气体的体积V₀和压强P₀确定。假设初始状态下，螺母旋入气动装置的深度为d，可控调压板32高度为a，可移动板31高度为b，气动装置的腔室有效高度为e，初始状态下，控制充入气体气量流速为Q₀，气压为P₀，ρ为气体密度：P₀*V₀＝n₁RT，n₁＝m/M，其中，m为气体质量，M为气体摩尔质量，同时，m＝ρQ₀t₀，V₀＝(e-a-b-d)π(R₁ ²-r²)，因此，P₀＝Q₀t₀C/(K-d)，其中，K＝e-a-b，C＝ρRT/Mπ(R₁ ²-r²)，对应固定结构设计而言，e，a，b，R，T，R₁，r，ρ，M，Q₀均为固定数值，因此，K和C均为常数，因此，最小平衡值由调节螺母的位置d和预充入第一空腔55中的气体的时间t₀确定。

在本发明靶材调节机构工作过程中，基座2需安装阳极筒1的一端，阳极筒1内部抽真空并充入惰性气体，靶材4安装于阴极杆3上，靶材座31和阳极筒1分别通入固定温度的冷却液；引弧组件电性连接引弧电路，靶材座31和阳极筒1电性连接引弧电路，稳弧线圈11和聚焦线圈12绕设于阳极筒1的外壁且分别电性连接稳弧电路和聚焦电路；引弧组件击中靶材4的侧壁产生弧斑，在稳弧线圈11磁场作用下，弧斑迅速旋转向靶材4表面运动，带电粒子41在聚焦电磁力的作用下轨迹向阳极筒1的中心轴线收拢聚焦；本实施例靶材4为石墨靶材4，正常烧蚀时间为20小时，每次烧蚀0.5小时，每次烧蚀高度为0.6-0.7mm；在实际操作中，可以通过PLC控制器中预设的程序实时控制阴极杆3的位置，例如烧蚀3小时后，使阴极杆3向阳极筒11的内部移动的距离为2mm，重新回到最佳烧蚀位置。

当然，也可以通过PLC控制器设定程式，使得气压实现周期性的往复位置变化或者成某种波形变化，实现靶面的微区扫描烧蚀，避免靶面异常烧蚀，大颗粒爆炸而喷灰停机。

本发明实施例靶材调节机构的控制方法通过收集或数学推导气动装置的气量或气压与靶材位置的关系式，编成工控电脑程式，由PLC控制器自动实时控制，使得靶材结构上下运动，靶材始终处于最佳烧蚀位点，进而获得最佳烧蚀的状态，实现时时稳定，解决靶材引弧不稳，频发灭弧，靶材利用率低、弧源机械安全性等问题。

以上所揭露的仅为本发明的较佳实例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属于本发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种靶材调节机构，包括中空的阳极筒以及安装于所述阳极筒一端的基座，其特征在于：所述基座上设有第一通孔，所述第一通孔内滑动安装有阴极杆，所述阴极杆的一端位于阳极筒的内侧且安装有所述靶材，所述阴极杆的另一端位于阳极筒的外侧，所述阴极杆与所述基座滑动密封连接，所述阴极杆位于阳极筒外侧的另一端上还连接有流体驱动件，所述流体驱动件通过流体驱动以带动所述阴极杆移动。

2.如权利要求1所述的靶材调节机构，其特征在于：所述流体驱动件为气动装置，所述气动装置包括围绕阴极杆设置的外壳，所述阴极杆穿设于所述外壳中，所述外壳内设有移动板，所述移动板的中部开设第二通孔，所述阴极杆穿设于所述第二通孔中并与所述移动板密封固定连接，所述移动板的周壁与所述外壳的内壁密封连接以与外壳的底壁形成第一空腔；所述气动装置还包括进气通道和出气通道，所述进气通道和出气通道均与所述第一空腔连通，所述进气通道和出气通道上还设有阀门以控制进气通道进气或出气通道出气。

3.如权利要求2所述的靶材调节机构，其特征在于：所述阀门为电磁阀，所述电磁阀电性连接控制器，所述控制器用于控制电磁阀以控制进气通道或出气通道的气量。

4.如权利要求2所述的靶材调节机构，其特征在于：所述外壳内还设有位于所述移动板上方的调压板，所述调压板的中部开设第三通孔，所述阴极杆穿设于所述第三通孔中并与所述调压板密封滑动连接，所述调压板的周壁与所述外壳密封连接，所述调压板与所述移动板之间形成第二空腔，所述第二空腔内预填充有压缩气体，所述外壳的顶壁上设有调节螺栓，所述调节螺栓抵压于所述调压板上，所述调节螺栓用于调节所述调压板的位置并固定所述调压板。

5.如权利要求2所述的靶材调节机构，其特征在于：所述外壳的侧壁上还设有进气口和出气口，所述进气通道和出气通道分别通过进气口和出气口与所述第一空腔连通，所述外壳的内壁上还设置有朝向阴极杆延伸的限位凸起，所述限位凸起位于进气口和出气口的上方且位于所述移动板的下方。

6.如权利要求2所述的靶材调节机构，其特征在于：所述气动装置还包括密封件，所述密封件的上部与所述移动板连接，所述密封件的下部延伸进基座的第一通孔中，所述密封件位于第一通孔中的长度大于移动板的最大移动行程，所述阴极杆穿设于所述密封件中以使得所述基座与所述阴极杆形成滑动密封连接。

7.如权利要求1所述的靶材调节机构，其特征在于：所述靶材调节机构还包括真空磁流体密封装置，所述真空磁流体密封装置包括密封座体以及凸设于所述密封座体上的磁流体密封部，所述磁流体密封部包括中空的密封壳体以及安装于所述密封壳体内部的永磁体、极靴和磁流体，所述永磁体为至少一个，所述永磁体和极靴均安装在所述密封壳体的内侧壁上，所述永磁体在阴极杆的轴向方向上的两侧分别设有所述极靴，所述极靴朝向阴极杆的一侧设有磁液槽，所述磁液槽上设有磁流体，所述永磁体、极靴的中部设有密封通孔，所述阴极杆穿设于所述密封通孔中，所述磁流体密封部设于所述密封座体的下部，所述密封座体安装于基座朝向外侧的一侧上，所述磁流体密封部嵌设于所述基座内并向下延伸进阳极筒的内部。

8.如权利要求1所述的靶材调节机构，其特征在于：所述流体驱动件为气动装置为一气缸，所述气缸包括一活塞杆，所述活塞杆连接所述阴极杆以带动所述阴极杆移动。

9.一种靶材调节机构的控制方法，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的靶材调节机构，所述控制方法包括如下步骤：

确定所述流体驱动件中通入流体的流量与靶材位置的关系式；

根据所述关系式调节通入流体驱动件的流量以调节靶材的位置。

10.如权利要求9所述的靶材调节机构的控制方法，其特征在于，所述靶材调节机构还包括控制器，所述控制方法还包括：

将流量与靶材位置的关系式预设于所述控制器中；

将靶材位置与烧蚀时间的关系式也预设于所述控制器中；

通过所述控制器实时控制通入流体驱动件的流量以控制所述靶材的位置。

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