CN115172623A - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种显示面板及其制备方法和显示装置。该显示面板包括基板、多个发光器件、像素限定层和吸光单元。多个发光器件设置在基板一侧且位于显示区中，每个发光器件包括第一电极。像素限定层设置在基板靠近发光器件的一侧，像素限定层在基板上的第一正投影与第一电极在基板上的第二正投影具有重叠区域，位于第一区域的至少部分像素限定层为透光材质。吸光单元设置在第一电极背离基板的一侧，且至少部分吸光单元位于第一区域，吸光单元在基板上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠。本申请能够达到降低反射率的同时并保证透过率的效果，进而改善反光问题，提高了用户体验效果。

Description

显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

随着电子显示产品在人们日常生活中的广泛使用，用户对电子显示产品的显示性能提出了越来越高的要求。

然而，电子显示产品中的显示面板限于自身结构或材料等的限制，在外界光照的条件下，极易出现反光问题，使得显示面板的显示效果大幅度下降，严重影响了用户体验效果。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，在显示面板中将部分或全部的像素限定层设置为透光材质，且在电极对应的位置处设置吸光单元，达到了降低反射率的同时并保证透过率的效果，进而改善反光问题，提高了用户体验效果。

本申请第一方面提供了一种显示面板，该显示面板划分有显示区，显示区包括第一区域，该显示面板还包括基板、多个发光器件、像素限定层和吸光单元。多个发光器件设置在基板一侧且位于显示区中，每个发光器件包括第一电极。像素限定层设置在基板靠近发光器件的一侧，像素限定层在基板上的第一正投影与第一电极在基板上的第二正投影具有重叠区域，位于第一区域的至少部分像素限定层为透光材质。吸光单元设置在第一电极背离基板的一侧，且至少部分吸光单元位于第一区域，吸光单元在基板上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠。

在上述方案中，利用透光材质的像素限定层保证了显示面板针对外界光线的透过率，且利用吸光单元吸收部分射向第一电极的外界光线，减少了显示面板对外界光线的反射作用，达到了降低反射率的同时并保证透过率的效果，进而改善或避免反光问题，提高了用户体验效果。

在本申请第一方面的一个具体实施方式中，第三正投影位于重叠区域内，或者第三正投影与重叠区域重合。

在上述方案中，可以避免吸光单元中对应于超出重叠区域的部分过多地吸收外界光线而减少透过率，进而在降低反射率的同时进一步提高透过率，提高显示面板的显示效果。

在本申请第一方面的一个具体实施方式中，显示面板还包括多个滤光单元，该多个滤光单元与多个发光器件对应设置，且位于对应的发光器件的背离基板的一侧。第二正投影位于对应的滤光单元在基板上的第四正投影内。

在本申请第一方面的一个具体实施方式中，吸光单元位于第一电极与像素限定层之间。

在本申请第一方面的另一个具体实施方式中，每个发光器件还包括依次层叠设置在第一电极上的发光功能层和第二电极。显示面板还包括封装层。封装层设置在发光器件与滤光单元之间。吸光单元位于第二电极和封装层之间，或者吸光单元位于封装层和滤光单元之间。

在本申请第一方面的又一个具体实施方式中，每个发光器件还包括发光功能层和第二电极。发光功能层位于像素限定层的像素开口内，第二电极位于像素限定层和发光功能层远离基板的一侧。吸光单元位于第二电极和像素限定层之间，或者吸光单元位于第二电极和发光功能层之间。

在本申请第一方面的一个具体实施方式中，第三正投影位于对应的滤光单元在基板上的第四正投影内。

在本申请第一方面的另一个具体实施方式中，显示面板还包括遮光矩阵。遮光矩阵开设有多个开孔。多个滤光单元一一对应设置在多个开孔内。

本申请第二方面提供一种显示装置，该显示装置包括上述第一方面的任一个具体实施方式中的显示面板。

本申请第三方面提供一种上述第一方面的任一个具体实施方式中的显示面板的制备方法，显示面板划分有显示区，显示区包括第一区域，该制备方法包括提供基板；在显示区内，在基板的一侧形成第一电极；在第一电极背离基板的一侧形成吸光单元，至少部分吸光单元位于第一区域；在基板靠近发光器件的一侧形成像素限定层，位于第一区域的至少部分像素限定层为透光材质，像素限定层在基板上的第一正投影与第一电极在基板上的第二正投影具有重叠区域，吸光单元在基板上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠。

附图说明

图1所示为本申请一实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图。

图2所示为本申请另一实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图。

图3所示为本申请一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图4所示为本申请另一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图5所示为本申请一实施例提供的一种显示面板的显示区内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图6所示为本申请又一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图7所示为本申请再一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图8所示为本申请另又一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图9所示为本申请再又一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图10所示为本申请另再又一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图11所示为本申请另又再一实施例提供的一种显示面板的第一区域内沿MM’剖开的一种局部放大剖面示意图。

图12所示为本申请一实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。

图13A至图13E所示为本申请一实施例提供的一种显示面板的制备方法对应的结构变化示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

目前，诸如基于有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)等的显示面板因其柔性好、具有三维(3Dimensions，3D)造型、高显示比例、优越的视觉体验、宽阔的视野等优点广泛应用于诸如智能手机、平板计算机、智能手表、仪表板等电子显示产品中。

然而，在诸如环境光等外界光线入射到显示面板上时，由于显示面板中的诸如反光性的电极或者反射膜层等结构的存在，使得在外界光照的条件下，外界光线在显示面板中极易产生光的反射和/或衍射现象，进而使得显示面板极易出现反光问题，因而降低了显示面板的显示效果，也使得用户体验效果降低。

在一种方法中，在显示面板中设置偏光片(Polarizer，POL)，该偏光片包括偏振片和1/4波片，偏振片使得外界光线入射到偏光片内后成为第一方向的线偏振光，在经过1/4波片后变为圆偏振光，在该圆偏振光经过反射后，其偏振方向改变(方向相反，例如在原偏振方向为顺时针的情况下，反射之后具有逆时针的偏振方向)，然后该反射后的圆偏振光再次经过1/4波片后会重新变为线偏振光，但是偏振方向会变为与第一方向垂直的第二方向，从而不能继续穿过偏振片，如此，外界光线在经过偏光片射入显示面板中后不能再次透过偏光片射出，从而达到降低反光的效果。然而，一方面，偏光片的厚度较厚，例如约为80μm，使得显示面板的厚度太厚，不利于显示面板的薄型化，另一方面，偏光片对发光器件出射的光的透过率只有43％左右，当显示面板中的发光器件所出射的光通过偏光片时，亮度下降约50％以上，因而严重降低了显示面板的显示效率。为了保证显示面板的显示效率，又不得不继续提高亮度，进而导致功耗提升。

在另一种方法中，在薄膜封装的有机电致发光器件上形成滤光片(Color filterOn Encapsulation，COE)。在该COE技术中，采用滤光片(Color Filter，CF)替换掉POL，由于滤光片对对应的发光器件出射的光的透过率可达到70％以上，因而使得屏体功耗能显著降低，例如，降低了大约37.8％。此外，一般采用诸如黑色矩阵(Black Matrix，BM)等遮光矩阵将多个滤光片隔开，使得经过遮光矩阵的外界光线被遮光矩阵吸收，但透过CF部分的外界光线则极易被具有反光性的电极或者膜层反射出来，使得反射率明显提升，并且造成了明显的反射衍射问题。目前采用黑色的像素界定层(Pixel Defining Layer，PDL)来降低反射率，但同时黑色的像素界定层也挡住了除像素开口外的所有外界光线，降低了外界光线的透过率，无法同时满足显示面板中诸如屏下摄像头区域或指纹识别区域等高透过率且低反射率的要求。

有鉴于此，本申请至少一个实施例提供一种显示面板及其制备方法和显示装置，至少可以解决上述问题。在显示面板中设置部分或全部的像素限定层为透光材质，像素限定层在基板上的第一正投影与电极在基板上的第二正投影具有重叠区域，且在电极背离基板的一侧设置吸光单元，吸光单元在基板上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠，从而利用透光材质的像素限定层保证了显示面板针对外界光线的透过率，且利用吸光单元吸收射向显示面板的外界光线，减少了显示面板中诸如第一电极或者高反射膜层等对外界光线的反射作用，达到了降低反射率的同时并保证透过率的效果，进而改善反光问题，提高了用户体验效果。

下面，结合附图对根据本申请至少一个实施例中的显示面板及其制备方法和显示装置进行说明。此外，在该些附图中，以显示面板的基板为参照建立空间直角坐标系，以对显示面板中的各个结构的位置关系进行辅助说明，在该空间直角坐标系中，X轴和Y轴与显示面板所在平面平行，Z轴与显示面板所在平面垂直。另外，在本申请的实施例中，以沿X轴平行的方向定义“长度”，例如，该对象的沿X轴平行的方向上距离最远的两个端点的直线距离之差为该对象的长度；并以基板为基准定义“厚度”，例如，对于位于基板一侧的对象，该对象的距离基板最远的一端至基板的垂直距离与距离基板最近的一端至基板的垂直距离之差为该对象的厚度。

如图1至图11所示，该显示面板100具有显示区10和布线区20。显示区10用于显示图像。布线区20用于向显示区10施加信号的信号线。

需要说明的是，该显示面板100除具有显示区10和布线区20外，还可以具有绑定区域或弯折区域等。该显示面板100的取出光方式可以是底部出光方式，也可以是顶部出光方式。图1和图2中对显示区10和布线区20的划分仅仅是示例性地，还可以根据实际需求进行适应性调整。

在本申请至少一个实施例提供的显示面板中，显示面板100的显示区10包括第一区域11，显示面板100包括基板110、多个发光器件120、像素限定层130和吸光单元140。多个发光器件120设置在基板110一侧且位于显示区10中，每个发光器件120包括第一电极121。像素限定层130设置在基板110靠近发光器件120一侧，像素限定层130在基板110上的第一正投影与第一电极121在基板110上的第二正投影具有重叠区域，位于第一区域11的至少部分像素限定层130为透光材质。吸光单元140设置在第一电极121背离基板110的一侧，且至少部分吸光单元140位于第一区域11中，吸光单元140在基板110上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠。如此，利用透光材质的像素限定层透过入射到像素限定层中的部分或全部的外界光线1，可以保证显示面板的透过率，利用吸光单元140吸收入射到吸光单元上的外界光线1，使得第一电极121中与吸光单元140的第三正投影重叠的部分不再反射外界光线，可以降低反射率，从而达到了降低反射率的同时并保证透过率的效果，进而改善反光问题，优化观感体验，满足用户要求。

需要说明的是，基板110可以为低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)基板和铟镓锌氧化物(indium gallium zinc oxide，IGZO)基板中的任一种基板或者两种基板的结合。基板110中可以具有驱动电路，驱动电路用于驱动多个发光器件出射对应颜色的光，例如，基板110可以包括衬底层、阻挡层(Barrier)、缓冲层(Buffer)、栅极绝缘层(Gate Insulator，GI)、电容绝缘层(Capacitance Insulator，CI)、栅极、源漏极、层间介质层(Interlayer Dielectric，ILD)、平坦化层(Planarization Layer，PLN)等。

多个发光器件120可以为单一种类的发光器件，单一种类的发光器件为可出射单一颜色光的发光器件，例如，可出射白色光的发光器件。多个发光器件120也可以为不同种类的发光器件，不同种类的发光器件为可出射不同颜色光的发光器件，例如，诸如可出射蓝色光的发光器件、可出射红色光的发光器件、可出射绿色光的发光器件、可出射黄色光的发光器件和可出射白色光的发光器件中的任意多个。在一些实施例中，第一电极121可以具有反光性，在此情况下，吸光单元140吸收入射到第一电极121上的部分外界光线1，可以减少第一电极121对外界光线的反射作用。在另一些实施例中，第一电极121可以具有透光性，基板110与第一电极121之间设置有反射膜层，在此情况下，吸光单元140吸收入射到反射膜层上的部分外界光线1，可以减少反射膜层对外界光线的反射作用。

像素限定层130在基板110上的第一正投影与第一电极121在基板110上的第二正投影具有重叠区域，示例性的，参考如图3至图11，以长度为例，在第一电极121的单侧对应的重叠区域的长度为A，例如，A可以为2μm～2.5μm，A的具体数值可以根据实际需求设定。像素限定层130可以为单层结构，也可以为多层结构。位于第一区域11的至少部分像素限定层130为透光材质，透光材质可以为诸如氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等无机材料，也可以为诸如聚酰亚胺、苯并环丁烯、聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂和酚树脂等有机材料，透光材质可以为透明无色的材质，也可以为淡黄色或黄色等的材质，只要能够透过外界光线即可，在此基础上，本申请实施例对透光材质的组成材料不做具体限定。

吸光单元140为具有吸收外界光线的结构，例如，吸光单元140可以采用诸如黑色有机胶或黑色树脂等具有吸收外界光线的有机材料，也可以采用诸如铬Cr、氧化铬或碳黑等具有吸收外界光线的无机材料，吸光单元140可以是黑色的，也可以是灰色等其他颜色，只要能够吸收外界光线即可。吸光单元140的剖面形状可以为诸如图3至图6、图9至图11所示的长方形，也可以为诸如图7所示或者诸如图8所示的梯形，还可以根据实际需求设定为诸如正方形或三角形等其他形状。吸光单元140的数量可以为一个或多个，吸光单元140与位于第一区域至少部分第一电极一一对应设置，不同第一电极对应的吸光单元140的剖面形状可以相同或不同，若不同第一电极对应的吸光单元140的剖面形状不同，一方面可能是针对不同位置处反射率的要求的不同而设计的，另一方面也可能是制备过程中诸如掩膜版的孔大小不一或者对准工艺等所存在的误差引起的。吸光单元140的厚度范围可以为150nm～200nm，一方面避免吸光单元太薄不易成膜或不好控制厚度，另一方面也可以避免吸光单元太厚而影响像素限定层开口或者增加显示面板厚度等。

在本申请的实施例提供的显示面板中，只要吸光单元140在基板110上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠，就可以利用吸光单元140吸收射向第一电极121中与吸光单元140的第三正投影重叠的部分的外界光线来改善反光现象，在此基础上，第三正投影与重叠区域的重叠关系可以根据实际工艺的需要进行设定，在此不做限定。下面，在几个实施例中，对第三正投影与重叠区域的重叠关系进行说明。

例如，在本申请一些实施例中，示例性的，参考图4，第三正投影位于重叠区域内。如此，可以避免吸光单元140中对应于超出重叠区域的部分过多地吸收外界光线而减少透过率，进而在降低反射率的同时进一步提高透过率，提高显示面板的显示效果。

又例如，在本申请另一些实施例中，示例性的，参考图5至图7以及图9至图11，第三正投影与重叠区域重合。如此，一方面，可以避免吸光单元140中对应于超出重叠区域的部分过多地吸收外界光线而减少透过率，另一方面，吸光单元140可以将入射到第一电极121上除像素开口暴露的部分以外的其他部分的外界光线1吸收掉，最大程度上减少了第一电极121或者对应于第一电极121的反射膜层等对外界光线的反射，改善了因第一电极121或者对应于第一电极121的反射膜层等所引起的发光现象。

需要说明的是，以长度为例，在第一电极121的单侧对应的重叠区域的长度为A，对应的吸光单元140的长度为B，在第三正投影位于重叠区域内的情况下，A等于B。

再例如，在本申请又一些实施例中，示例性的，参考图8，重叠区域也可以位于第三正投影内，以长度为例，A可以小于B。如此，吸光单元140可以吸收射向第一电极上除与发光功能层140接触的表面以外的其他表面的外界光线，有利于进一步减少第一电极121或者对应于第一电极121的反射膜层等对外界光线的反射，改善因第一电极121或者对应于第一电极121的反射膜层等所引起的发光现象。

在本申请的实施例提供的显示面板100中，可以在显示面板的任意区域内设置像素限定层为透光材质，透光材质的像素限定层在显示面板中的具体位置可以根据实际工艺的需要进行设定，在此基础上不做限定。下面，在几个实施例中，对透光材质的像素限定层在显示面板中的具体位置进行举例说明。

例如，在本申请一些实施例中，示例性的，参考图1、图3、图4、图6至图11，第一区域11为显示区10，全部像素限定层130为透光材质。如此，可以使得显示面板100的整个显示区10内针对外界光线的透过率均有所提高。

又例如，在本申请另一些实施例中，示例性的，参考图2和图5，显示区10还包括第二区域12，位于第二区域12的至少部分像素限定层130为遮光材质。如此，可以根据显示面板上不同区域的需求设定不同的像素限定层，也可以节省对目前显示面板的整个显示区进行改进的成本。举例来说，可以在显示面板上针对外界光线的透过率要求较高的诸如指纹识别区域或屏下摄像头区域等区域，仅将位于这些区域内的至少部分像素限定层设置为透光材质，在实现高透过率的同时也有利于保证这些区域内诸如指纹开锁或拍照等功能的实现。

需要说明的是，第一区域11可以为一个独立的区域，例如，指纹识别区域或屏下摄像头区域等，也可以为多个独立的区域，例如指纹识别区域和屏下摄像头区域等。位于第一区域11的至少部分像素限定层130的结构还可以参考图3、图4、图6至图11中所示。第一区域11的截面形状可以如图2所示的椭圆形，也可以为诸如圆形或长方形等规则或不规则形状。第一区域11中针对外界光线的透过率要求可以高于第二区域12中针对外界光线的透过率要求。第一区域11在显示区10中的位置可以为如图2所示的位置，也可以设置在显示区的其他位置处，只要位于显示区10内即可。位于第二区域12的部分像素限定层130为遮光材质，在一些实施例中，遮光材质可以为诸如铬Cr、氧化铬或碳黑等黑色矩阵材料，在另一些实施例中，遮光材质也可以包括有机材料和黑色填料，有机材料包括但不限于聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯以及酚醛树脂，黑色填料包括但不限于黑色颜料，例如炭黑。

在本申请至少一个实施例提供的显示面板中，参考图6、图8至图11，显示面板100还包括多个滤光单元150。多个滤光单元150，与多个发光器件120对应设置，且位于对应的发光器件120的背离基板110的一侧。第二正投影位于对应的滤光单元在基板110上的第四正投影内。如此，一方面，射向滤光单元150中对应的超出第二正投影的部分的外界光线1可以直接透过，且透过透光材质的像素限定层130，因而可以增加显示面板的可透过区域，进一步提高显示面板整体针对外界光线1的透过率，另一方面，采用滤光单元代替偏光片，也有利于显示面板的薄型化，且提高显示面板的显示效率。

需要说明的是，第二正投影位于对应的滤光单元150在基板110上的第四正投影内，示例性的，以长度为例，滤光单元150的长度C大于第一电极的长度D。滤光单元150也可以称为滤光片。

在本申请至少一实施例中，第三正投影位于对应的滤光单元150在基板110上的第四正投影内，示例性的，以长度为例，滤光单元150的长度C大于吸光单元140的长度B。如此，在第三正投影与第四正投影未重叠且未经过反光的电极或反光膜层的区域内，外界光线1可以透过滤光单元150以及透光材质的像素限定层130，有利于增加透光区域，提高显示面板的透光率。

在本申请至少一个实施例提供的显示面板中，参考图8至图11，显示面板100还可以进一步包括遮光矩阵170，遮光矩阵170开设有多个开孔。多个滤光单元150一一对应设置在多个开孔内。如此，利用遮光矩阵170可以吸收除滤光单元150以外的其他区域入射的外界光线。在本申请的实施例提供的显示面板100中，吸光单元140在显示面板100中的具体位置可以根据实际工艺的需要进行设定，在此不做限定。下面，在几个实施例中，对吸光单元140在显示面板100中的具体位置进行举例说明。

例如，在本申请一些实施例中，示例性的，参考图3至图6、图8，吸光单元140位于第一电极121与像素限定层130之间。如此，一方面，吸光单元140位于像素限定层130对应的厚度范围内，因而吸光单元140的设置不会额外增加显示面板的总厚度，有利于显示面板的薄型化，另一方面，在显示面板制备过程中，只需额外在第一电极121上增加吸光单元140的制备即可，不会改变显示面板的其他制备工艺，可以使得吸光单元140的结构可控，方案灵活，手段简单。

在本申请至少一个实施例提供的显示面板中，参考图8至图11，每个发光器件120还包括依次层叠设置在第一电极121上的发光功能层122和第二电极123。发光功能层122位于像素限定层130的像素开口内。第二电极123位于像素限定层130和发光功能层122远离基板110的一侧。进一步地，显示面板100还包括封装层160。封装层160设置在发光器件120与滤光单元150之间。

需要说明的是，发光功能层122可以包括发光层，进一步地，发光功能层122还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层、电子阻挡层和空穴阻挡层中任一种或多种。多个发光器件120可以共用同一层第二电极，也可以是任意相邻的两个发光器件之间的第二电极被像素限定层间隔开来。

第一电极121和第二电极123中的一个为阳极，另一个为阴极。第一电极121和第二电极123可以均为具有透光性的电极，也可以第二电极123为具有透光性的电极，第一电极为具有反光性的电极。举例来说，若第一电极121为阳极且具有反光性，例如，阳极的材料可以包括氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)和银(Ag)，进一步地，例如，阳极可以由ITO-Ag-ITO组成，ITO的厚度范围可以为5nm～15nm，例如10nm，Ag的厚度范围可以为50nm～150nm，例如100nm。

还需要说明的是，发光功能层122位于像素限定层130的像素开口内，可以是发光功能层122中的所有膜层全部位于像素限定层130的像素开口内，也可以是发光功能层122中的诸如发光层等一部分膜层位于像素限定层130的像素开口内，另一部分膜层除位于像素限定层130的像素开口内外，还位于像素限定层130远离基板110的一侧。像素开口的截面形状可以为如图3至7以及图10和图11所示的矩形，也可以为如图8和图9所示的倒梯形(也即像素开口靠近基板110一侧的开口的长度小于像素开口背离基板一侧的开口的长度)，还可以为其他的形状。

例如，在本申请一些实施例中，示例性的，参考图7，吸光单元140位于第二电极123和像素限定层130之间。如此，可以使得外界光线1在入射到像素限定层130之前被吸光单元140所吸收，减少外界光线1在显示面板内的入射路径，且避免外界光线1被吸光单元140对应位置处的第一电极或反射膜层等的反射，减少了外界光线1在显示面板内的反射衍射等现象。

例如，在本申请另一些实施例中，示例性的，参考图9，吸光单元140位于第二电极123和发光功能层122之间。如此，可以使得外界光线1在入射到发光功能层122之前被吸光单元140所吸收，且避免外界光线1被吸光单元140对应位置处的第一电极或反射膜层等的反射，减少了外界光线1在显示面板内的反射衍射等现象。

例如，在本申请另一些实施例中，示例性的，参考图10，吸光单元140位于第二电极123和封装层160之间。如此，一方面，吸光单元140与封装层160在同一厚度范围内，因而吸光单元140的设置不会额外增加显示面板的总厚度，从而有利于显示面板的薄型化，另一方面，在显示面板制备过程中，只需额外在第二电极123上增加吸光单元140的制备即可，不会改变显示面板的其他制备工艺，可以使得吸光单元140的结构可控，方案灵活，手段简单。

例如，在本申请又一些实施例中，示例性的，参考图11，吸光单元140位于封装层160和滤光单元150之间。如此，可以使得外界光线1在入射到封装层160之前被吸光单元140所吸收，进一步减少外界光线1在显示面板内的入射路径，且减少了外界光线1在显示面板内的反射衍射等现象。

需要说明的是，在一些实施例中，参考图3至图8以及图10，吸光单元140可以嵌入到诸如第二电极123、像素限定层130或者封装层160等膜层中，不同吸光单元140之间由诸如第二电极123、像素限定层130或者封装层160等膜层间隔开来，从而不额外增加显示面板的总厚度。在另一些实施例中，参考图9和图11，吸光单元140也可以是独立设置在一个膜层中，不同吸光单元140之间可以采用诸如平坦化层等进行填充和平坦化，以使吸光单元140所在膜层能够与相邻的其他膜层紧密连接。

本申请至少一个实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述任一实施例诸如基于图1至图11所示实施例中的显示面板。

应当理解，该显示装置中的显示面板也可以是基于图1至图11所示实施例中任何一种显示面板等同替换或明显变型后的显示面板。显示装置可以为各种电子显示产品，具体可以包括但不限于手机、平板电脑、电子书阅读器、播放器、数码相机、膝上型便携计算机、车载电脑、台式计算机、机顶盒、智能电视机、可穿戴设备中的至少一项。此外，根据实际需要，显示装置还可以包括诸如触控层等其它结构，例如，可以是采用在显示面板的封装层上直接进行触控结构的制造工艺(也即，a Touch On Encapsulation layer，TOE工艺)来制备显示装置。

由于本申请实施例的显示装置包括了上述图1至图11所示实施例的全部技术方案，因此至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

本申请至少一个实施例还提供了一种显示面板的制备方法。显示面板划分有显示区10，显示区10包括第一区域11。参考图12和图13，该制备方法包括以下步骤。

S110：提供基板。

举例来说，基板110的结构参考图13A。

S120：在显示区内，在基板的一侧形成第一电极。

举例来说，参考图13B，可以采用光罩曝光显影技术，在显示区10内的基板110的一侧沉积第一电极121的材料形成第一电极121。

S130：在第一电极背离基板的一侧形成吸光单元，至少部分吸光单元位于第一区域。

举例来说，参考图13C，可以在第一电极121背离基板110的一侧涂布一层吸光单元140的材料，进一步地，参考图13D，再通过光罩曝光显影技术除去多余的吸光单元140的材料，从而形成吸光单元140。

S140：在基板靠近发光器件的一侧形成像素限定层，位于第一区域的至少部分像素限定层为透光材质，像素限定层在基板上的第一正投影与第一电极在基板上的第二正投影具有重叠区域，吸光单元在基板上的第三正投影与重叠区域至少部分重叠。

举例来说，参考图13E，可以在基板110的一侧沉积或涂布一层像素限定层130的材料，进一步地，还可以再通过光罩曝光显影技术除去多余的像素限定层130的材料，从而形成的位于第一区域11的至少部分像素限定层130。

需要说明的是，该显示面板可以为上述所有实施例中任一个具体实施方式中的显示面板，也可以是上述所有实施例中任何一种显示面板等同替换或明显变型后的显示面板。

由于该制备方法为上述图1至图11所示实施例的显示面板对应的制备方法，包括了上述图1至图11所示实施例的全部技术方案，因此制备方法的具体实施方式可以参考上述显示面板相关实施例中的描述，且至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

需要说明的是，本申请中各技术特征的组合方式并不限本申请权利要求中所记载的组合方式或是具体实施例所记载的组合方式，本申请所记载的所有技术特征可以以任何方式进行自由组合或结合，除非相互之间产生矛盾。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，划分有显示区，所述显示区包括第一区域，其特征在于，包括：

基板；

多个发光器件，设置在所述基板一侧且位于所述显示区中，每个所述发光器件包括第一电极；

像素限定层，设置在所述基板靠近所述发光器件的一侧，所述像素限定层在所述基板上的第一正投影与所述第一电极在所述基板上的第二正投影具有重叠区域，位于所述第一区域的至少部分所述像素限定层为透光材质；

吸光单元，设置在所述第一电极背离所述基板的一侧，且至少部分所述吸光单元位于所述第一区域，所述吸光单元在所述基板上的第三正投影与所述重叠区域至少部分重叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第三正投影位于所述重叠区域内；或者

所述第三正投影与所述重叠区域重合。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，还包括：

多个滤光单元，与多个所述发光器件对应设置，且位于对应的所述发光器件的背离所述基板的一侧；

其中，所述第二正投影位于对应的所述滤光单元在所述基板上的第四正投影内。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述吸光单元位于所述第一电极与所述像素限定层之间。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，每个所述发光器件还包括依次层叠设置在所述第一电极上的发光功能层和第二电极，所述显示面板还包括：

封装层，设置在所述发光器件与所述滤光单元之间；

其中，所述吸光单元位于所述第二电极和所述封装层之间；或者，所述吸光单元位于所述封装层和所述滤光单元之间。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

每个所述发光器件还包括发光功能层和第二电极，所述发光功能层位于所述像素限定层的像素开口内，所述第二电极位于所述像素限定层和所述发光功能层远离所述基板的一侧，所述吸光单元位于所述第二电极和所述像素限定层之间，或者，所述吸光单元位于所述第二电极和所述发光功能层之间。

7.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述第三正投影位于对应的所述滤光单元在所述基板上的第四正投影内。

8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述显示面板还包括遮光矩阵，所述遮光矩阵开设有多个开孔，多个所述滤光单元一一对应设置在多个所述开孔内。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的显示面板。

10.一种如权利要求1至8中任一项所述的显示面板的制备方法，所述显示面板划分有显示区，所述显示区包括第一区域，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述显示区内，在所述基板的一侧形成第一电极；

在所述第一电极背离所述基板的一侧形成吸光单元，至少部分所述吸光单元位于所述第一区域；

在所述基板靠近所述发光器件的一侧形成像素限定层，位于所述第一区域的至少部分所述像素限定层为透光材质，所述像素限定层在所述基板上的第一正投影与所述第一电极在所述基板上的第二正投影具有重叠区域，所述吸光单元在所述基板上的第三正投影与所述重叠区域至少部分重叠。

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