CN115125485A - 一种中波红外滤光片制备方法 - Google Patents

一种中波红外滤光片制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115125485A
CN115125485A CN202210822908.5A CN202210822908A CN115125485A CN 115125485 A CN115125485 A CN 115125485A CN 202210822908 A CN202210822908 A CN 202210822908A CN 115125485 A CN115125485 A CN 115125485A
Authority
CN
China
Prior art keywords
preparation
substrate
mounting
wave infrared
station
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210822908.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115125485B (zh
Inventor
王栩榕
徐志根
闫志华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Tongsheng Technology Co ltd
Original Assignee
Beijing Tongsheng Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Tongsheng Technology Co ltd filed Critical Beijing Tongsheng Technology Co ltd
Priority to CN202210822908.5A priority Critical patent/CN115125485B/zh
Publication of CN115125485A publication Critical patent/CN115125485A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115125485B publication Critical patent/CN115125485B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0623Sulfides, selenides or tellurides
    • C23C14/0629Sulfides, selenides or tellurides of zinc, cadmium or mercury
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及滤光片制备领域,尤其涉及一种中波红外滤光片制备方法。本发明中的中波红外滤光片制备方法,采用专门的制备设备。首先将基板放置在进料工位一上,固定组件通过旋转伸缩驱动件驱动固定架伸缩,从两侧夹持滤光片。接着移动至进料工位二,将镀膜原料放置在基板上。再移动至镀膜工位,电子枪工作,使镀膜材料加热蒸发。配合固定架的旋转,带动基板转动,加快镀膜材料的流动,使其覆盖均匀、高效成膜。单侧覆膜完成后,转动基板,使其反面朝上,返回进料工位二,再对其放料、覆膜。最后移动至出料工位,被机械手移动至对应的收纳框内。通过自动化、高效化的制备过程,提高了制备的效率,实现了批量、智能的加工。

Description

一种中波红外滤光片制备方法
技术领域
本发明涉及滤光片制备领域,尤其涉及一种中波红外滤光片制备方法。
背景技术
中波红外滤光片主要应用于安防监控领域。具体到产品比如:监控摄相机,遥控器,红外幕墙产品,红外感应马桶、水龙头、洗手液装置,红外测温器,红外打印机,交互式电子白板,红外触摸屏,指纹识别机,人脸识别系统等。应用光泛,需求量大。同时对中波红外滤光片的加工精度要求也越来越高,容易造成加工费时长,效率低的问题。如何在高精度加工的过程中保证中波红外滤光片制备的自动化、高效化、功能集中化成为人们关注的问题。
发明内容
针对背景技术中存在的问题,提出一种中波红外滤光片制备方法。本发明中的中波红外滤光片制备方法,采用专门的制备设备,通过自动化、高效化、功能集中化的制备过程,提高了制备的效率,实现了批量、智能的加工,减少加工的工序,缩短了加工的时间。
本发明提出一种中波红外滤光片制备方法,步骤如下:
S1、对基片进行初裁;
S2、将基片放入丙酮试剂中清洗,再放入无水乙醇中清洗,最后用氮气吹干,备用;
S3、将基片、镀膜原料放入制备设备中,按照膜系设计数据的设置镀膜参数;
S4、制备设备自动对基片的两端进行镀膜。
优选的,基材为硅、蓝宝石或锗中的任意一种。
优选的,镀膜材料为ZnS、Ge和PbTe中的任意一种或多种。
优选的,制备设备包括制备箱;制备箱的上端设置箱盖,侧端连接抽真空仪器,内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台;转动台的中心设置有安装组件,外周设置有固定组件;安装组件上设置有可调节的电子枪;制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框和机械手。
优选的,安装组件包括安装座、安装架和调节件;安装座的下端连接制备箱,上端穿过转动台,连接安装架;调节件设置在安装架上,对电子枪进行角度调节。
优选的,安装架的上端设置有安装槽,下端设置有安装腔;电子枪通过转轴转动设置在安装槽上。
优选的,调节件包括电机、齿轮、齿条、升降座和调节杆;齿轮通过电机传动,转动设置在安装腔内;升降座设置在齿轮的两侧;齿条设置在两组升降座的相对端上,且分别与齿轮啮合;调节杆位于转轴的两侧,上端滑动连接电子枪的底部,下端伸入安装腔,连接对应的升降座。
优选的,安装腔的底部设置导杆;升降座滑动连接导杆。
优选的,固定组件对应工位设置四组,包括制备座、支撑架、旋转伸缩驱动件和固定架;制备座旋转设置在转动台上;支撑架设置在制备座的两侧;旋转伸缩驱动件设置在两组支撑架上端;通过旋转伸缩驱动件传动的固定架设置在两组支撑架的相对端上。
优选的,制备座上设置有收渣槽;收渣槽位于两组支撑架之间。
与现有技术相比,本发明具有如下有益的技术效果:
本发明中的中波红外滤光片制备方法,采用专门的制备设备,设置进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位。首先将基板放置在进料工位一上,固定组件通过旋转伸缩驱动件驱动固定架伸缩,从两侧夹持滤光片,对其限位、平放。接着移动至进料工位二,将镀膜原料放置在基板上。再移动至镀膜工位,电子枪工作。利用加速电子轰击镀膜材料,电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发。配合固定架的旋转,带动基板转动,加快镀膜材料的流动,使其覆盖均匀、高效成膜。单侧覆膜完成后,转动基板,使其反面朝上,返回进料工位二,再对其放料、覆膜。最后移动至出料工位,被机械手移动至对应的收纳框内。通过自动化、高效化、功能集中化的制备过程,提高了制备的效率,实现了批量、智能的加工,减少加工的工序,缩短了加工的时间。
此外,本发明设置安装组件,通过安装架对电子枪提供支撑。同时设置调节件,通过电机带动齿轮转动,推动两侧的齿条上下移动,升降座带动调节杆同步升降。使得电子枪以转轴为中心,两侧一上一下,调节发射角度,进一步实现精准、智能镀膜。
附图说明
图1为本发明一种实施例中制备设备的结构示意图;
图2为本发明一种实施例中制备设备的打开状态示意图;
图3为本发明一种实施例中制备箱的内部结构示意图;
图4为本发明一种实施例中安装组件和固定组件的结构示意图;
图5为本发明一种实施例中安装架的剖视图。
附图标记:1、制备箱;2、箱盖;3、抽真空仪器;4、螺纹杆;5、旋紧件;6、转动台;7、固定组件;8、安装组件;9、电子枪;10、收纳框;11、机械手;12、制备座;13、支撑架;14、旋转伸缩驱动件;15、固定架;16、收渣槽;17、安装座;18、安装架;19、电机;20、齿轮;21、齿条;22、升降座;23、调节杆;24、安装腔;25、安装槽;26、导杆。
具体实施方式
实施例一
本发明提出的一种中波红外滤光片制备方法,步骤如下:
S1、对基片进行初裁;
S2、将基片放入丙酮试剂中清洗,再放入无水乙醇中清洗,最后用氮气吹干,备用;
S3、将基片、镀膜原料放入制备设备中,按照膜系设计数据的设置镀膜参数;
S4、制备设备自动对基片的两端进行镀膜。
实施例二
本发明提出的一种中波红外滤光片制备方法,步骤如下:
S1、对基片进行初裁;
S2、将基片放入丙酮试剂中清洗,再放入无水乙醇中清洗,最后用氮气吹干,备用;
S3、将基片、镀膜原料放入制备设备中,按照膜系设计数据的设置镀膜参数;
S4、制备设备自动对基片的两端进行镀膜。
进一步的,基材为硅、蓝宝石或锗中的任意一种。
进一步的,镀膜材料为ZnS、Ge和PbTe中的任意一种或多种。
本实施例中的中波红外滤光片制备方法,采用专门的制备设备,通过自动化、高效化的制备过程,提高了制备的效率,实现了批量、智能的加工。
实施例三
如图1、3所示,制备设备包括制备箱1;制备箱1的上端设置箱盖2,侧端连接抽真空仪器3,内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台6;转动台6的中心设置有安装组件8,外周设置有固定组件7;安装组件8上设置有可调节的电子枪9;制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框10和机械手11。
本实施例中在制备室内设置进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位。进行滤光片制备时,将基片放置在进料工位一的收纳框10内。将镀膜原料放置在进料工位二的收纳框10内。封住箱盖2,启动抽真空仪器3,构成真空环境。随着转动台6的转动和机械手11启动。首先将基板放置在进料工位一上,固定组件7对其限位、平放。接着移动至进料工位二,将镀膜原料放置在基板上。再移动至镀膜工位,电子枪9工作。利用加速电子轰击镀膜材料,电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发,并成膜。最后移动至出料工位,被机械手11移动至对应的收纳框10内。
实施例四
如图1、3所示,制备设备包括制备箱1;制备箱1的上端设置箱盖2,侧端连接抽真空仪器3,内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台6;转动台6的中心设置有安装组件8,外周设置有固定组件7;安装组件8上设置有可调节的电子枪9;制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框10和机械手11。
如图2所示,制备箱1的上端设置有开口。箱盖2卡合设置在开口上。开口的外周设置有一圈螺纹杆4。箱盖2上设置有供螺纹杆4穿过的通孔。进行制备时,将箱盖2封住开口,螺纹杆4穿过通孔,与旋紧件5螺纹配合,形成密封环境。
实施例五
如图1、3所示,制备设备包括制备箱1;制备箱1的上端设置箱盖2,侧端连接抽真空仪器3,内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台6;转动台6的中心设置有安装组件8,外周设置有固定组件7;安装组件8上设置有可调节的电子枪9;制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框10和机械手11。
如图4所示,安装组件8包括安装座17、安装架18和调节件;安装座17的下端连接制备箱1,上端穿过转动台6,连接安装架18;调节件设置在安装架18上,对电子枪9进行角度调节。
进一步的,安装架18的上端设置有安装槽25,下端设置有安装腔24;电子枪9通过转轴转动设置在安装槽25上。
如图5所示,调节件包括电机19、齿轮20、齿条21、升降座22和调节杆23;齿轮20通过电机19传动,转动设置在安装腔24内;升降座22设置在齿轮20的两侧;齿条21设置在两组升降座22的相对端上,且分别与齿轮20啮合;调节杆23位于转轴的两侧,上端滑动连接电子枪9的底部,下端伸入安装腔24,连接对应的升降座22。
进一步的,安装腔24的底部设置导杆26;升降座22滑动连接导杆26。导杆26对升降座22进行限位,使其升降稳定,进而对电子枪9的角度调节稳定。
本实施例中提出安装组件8的具体结构,通过安装架18对电子枪9提供支撑。同时设置调节件,通过电机19带动齿轮20转动,推动两侧的齿条21上下移动,升降座22带动调节杆23同步升降。使得电子枪9以转轴为中心,两侧一上一下,调节发射角度,实现精准镀膜。
实施例六
如图1、3所示,制备设备包括制备箱1;制备箱1的上端设置箱盖2,侧端连接抽真空仪器3,内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台6;转动台6的中心设置有安装组件8,外周设置有固定组件7;安装组件8上设置有可调节的电子枪9;制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框10和机械手11。
如图4所示,固定组件7对应工位设置四组,包括制备座12、支撑架13、旋转伸缩驱动件14和固定架15;制备座12旋转设置在转动台6上;支撑架13设置在制备座12的两侧;旋转伸缩驱动件14设置在两组支撑架13上端;通过旋转伸缩驱动件14传动的固定架15设置在两组支撑架13的相对端上。
进一步的,制备座12上设置有收渣槽16;收渣槽16位于两组支撑架13之间。收渣槽16对镀膜过程中产生的料渣进行收集。
本实施例中设置固定组件7,通过旋转伸缩驱动件14驱动固定架15伸缩,从两侧夹持滤光片。使用电子枪9镀膜时,通过固定架15的旋转,带动基板转动,加快镀膜材料的流动,使其覆盖均匀、高效。单侧覆膜完成后,转动基板,使其反面朝上,返回进料工位二,再对其放料、覆膜。
上面结合附图对本发明的实施方式作了详细说明,但是本发明并不限于此,在所属技术领域的技术人员所具备的知识范围内,在不脱离本发明宗旨的前提下还可以作出各种变化。

Claims (10)

1.一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,步骤如下:
S1、对基片进行初裁;
S2、将基片放入丙酮试剂中清洗,再放入无水乙醇中清洗,最后用氮气吹干,备用;
S3、将基片、镀膜原料放入制备设备中,按照膜系设计数据的设置镀膜参数;
S4、制备设备自动对基片的两端进行镀膜。
2.根据权利要求1所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,基材为硅、蓝宝石或锗中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,镀膜材料为ZnS、Ge和PbTe中的任意一种或多种。
4.根据权利要求1所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,制备设备包括制备箱(1);制备箱(1)的上端设置箱盖(2),侧端连接抽真空仪器(3),内部设置制备室;制备室的底部设置有旋转的转动台(6);转动台(6)的中心设置有安装组件(8),外周设置有固定组件(7);安装组件(8)上设置有可调节的电子枪(9);制备室的侧壁上依次设置有进料工位一、进料工位二、镀膜工位和出料工位;进料工位一、进料工位二和出料工位上均设置有收纳框(10)和机械手(11)。
5.根据权利要求4所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,安装组件(8)包括安装座(17)、安装架(18)和调节件;安装座(17)的下端连接制备箱(1),上端穿过转动台(6),连接安装架(18);调节件设置在安装架(18)上,对电子枪(9)进行角度调节。
6.根据权利要求5所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,安装架(18)的上端设置有安装槽(25),下端设置有安装腔(24);电子枪(9)通过转轴转动设置在安装槽(25)上。
7.根据权利要求5所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,调节件包括电机(19)、齿轮(20)、齿条(21)、升降座(22)和调节杆(23);齿轮(20)通过电机(19)传动,转动设置在安装腔(24)内;升降座(22)设置在齿轮(20)的两侧;齿条(21)设置在两组升降座(22)的相对端上,且分别与齿轮(20)啮合;调节杆(23)位于转轴的两侧,上端滑动连接电子枪(9)的底部,下端伸入安装腔(24),连接对应的升降座(22)。
8.根据权利要求7所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,安装腔(24)的底部设置导杆(26);升降座(22)滑动连接导杆(26)。
9.根据权利要求4所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,固定组件(7)对应工位设置四组,包括制备座(12)、支撑架(13)、旋转伸缩驱动件(14)和固定架(15);制备座(12)旋转设置在转动台(6)上;支撑架(13)设置在制备座(12)的两侧;旋转伸缩驱动件(14)设置在两组支撑架(13)上端;通过旋转伸缩驱动件(14)传动的固定架(15)设置在两组支撑架(13)的相对端上。
10.根据权利要求9所述的一种中波红外滤光片制备方法,其特征在于,制备座(12)上设置有收渣槽(16);收渣槽(16)位于两组支撑架(13)之间。
CN202210822908.5A 2022-07-14 2022-07-14 一种中波红外滤光片制备方法 Active CN115125485B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210822908.5A CN115125485B (zh) 2022-07-14 2022-07-14 一种中波红外滤光片制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210822908.5A CN115125485B (zh) 2022-07-14 2022-07-14 一种中波红外滤光片制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115125485A true CN115125485A (zh) 2022-09-30
CN115125485B CN115125485B (zh) 2023-09-12

Family

ID=83384123

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210822908.5A Active CN115125485B (zh) 2022-07-14 2022-07-14 一种中波红外滤光片制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115125485B (zh)

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2407015Y (zh) * 1999-12-23 2000-11-22 中国科学院光电技术研究所 消除短波通截止滤光片半波孔的装置
JP2004061810A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Hitachi Metals Ltd 多層膜光学フィルター形成装置、および多層膜光学フィルターの製造方法
CN102540313A (zh) * 2012-03-12 2012-07-04 杭州麦乐克电子科技有限公司 7.6微米前截止红外滤光片及其制作方法
CN105137514A (zh) * 2015-09-11 2015-12-09 兰州空间技术物理研究所 4.2~4.45μm透过中波红外滤光片及制备方法
CN205420536U (zh) * 2015-11-30 2016-08-03 深圳市美思先端电子有限公司 红外滤光片镀膜的装置
CN206635406U (zh) * 2017-03-29 2017-11-14 杭州美迪凯光电科技有限公司 一种手机用蓝玻璃红外吸收型滤光片镀膜装置
CN107620047A (zh) * 2017-08-25 2018-01-23 苏州安江源光电科技有限公司 一种用于pvd镀膜的反应腔室以及加工方法
CN108169832A (zh) * 2017-12-22 2018-06-15 兰州空间技术物理研究所 一种2.75~2.95μm透过中波红外滤光片及其制备方法
CN108486538A (zh) * 2018-04-27 2018-09-04 深圳市正和忠信股份有限公司 智能镀膜方法及系统
CN209243157U (zh) * 2018-12-07 2019-08-13 昆明宇隆光电技术有限公司 一种滤光片蒸发镀膜装置
CN110524035A (zh) * 2019-07-19 2019-12-03 江苏华兴通讯科技有限公司 一种双轴自动铣槽设备
CN212025444U (zh) * 2020-03-03 2020-11-27 布勒莱宝光学设备(北京)有限公司 箱式镀膜设备
CN113584448A (zh) * 2021-07-27 2021-11-02 华天慧创科技(西安)有限公司 一种光学滤光片镀膜方法
CN114506089A (zh) * 2022-01-18 2022-05-17 北京智创芯源科技有限公司 一种红外多谱段滤光片制备方法
CN216712228U (zh) * 2021-11-16 2022-06-10 苏州文迪光电科技有限公司 一种用于通信滤光片镀层加工的夹持器具
CN216784919U (zh) * 2022-03-02 2022-06-21 湖南联鹏环保科技有限公司 一种电镀上料装备

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2407015Y (zh) * 1999-12-23 2000-11-22 中国科学院光电技术研究所 消除短波通截止滤光片半波孔的装置
JP2004061810A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Hitachi Metals Ltd 多層膜光学フィルター形成装置、および多層膜光学フィルターの製造方法
CN102540313A (zh) * 2012-03-12 2012-07-04 杭州麦乐克电子科技有限公司 7.6微米前截止红外滤光片及其制作方法
CN105137514A (zh) * 2015-09-11 2015-12-09 兰州空间技术物理研究所 4.2~4.45μm透过中波红外滤光片及制备方法
CN205420536U (zh) * 2015-11-30 2016-08-03 深圳市美思先端电子有限公司 红外滤光片镀膜的装置
CN206635406U (zh) * 2017-03-29 2017-11-14 杭州美迪凯光电科技有限公司 一种手机用蓝玻璃红外吸收型滤光片镀膜装置
CN107620047A (zh) * 2017-08-25 2018-01-23 苏州安江源光电科技有限公司 一种用于pvd镀膜的反应腔室以及加工方法
CN108169832A (zh) * 2017-12-22 2018-06-15 兰州空间技术物理研究所 一种2.75~2.95μm透过中波红外滤光片及其制备方法
CN108486538A (zh) * 2018-04-27 2018-09-04 深圳市正和忠信股份有限公司 智能镀膜方法及系统
CN209243157U (zh) * 2018-12-07 2019-08-13 昆明宇隆光电技术有限公司 一种滤光片蒸发镀膜装置
CN110524035A (zh) * 2019-07-19 2019-12-03 江苏华兴通讯科技有限公司 一种双轴自动铣槽设备
CN212025444U (zh) * 2020-03-03 2020-11-27 布勒莱宝光学设备(北京)有限公司 箱式镀膜设备
CN113584448A (zh) * 2021-07-27 2021-11-02 华天慧创科技(西安)有限公司 一种光学滤光片镀膜方法
CN216712228U (zh) * 2021-11-16 2022-06-10 苏州文迪光电科技有限公司 一种用于通信滤光片镀层加工的夹持器具
CN114506089A (zh) * 2022-01-18 2022-05-17 北京智创芯源科技有限公司 一种红外多谱段滤光片制备方法
CN216784919U (zh) * 2022-03-02 2022-06-21 湖南联鹏环保科技有限公司 一种电镀上料装备

Also Published As

Publication number Publication date
CN115125485B (zh) 2023-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN211563724U (zh) 全自动外观检测机
CN212007076U (zh) 检测装置
CN117140939B (zh) 一种5g用薄型挠性基材覆膜热压成型工装及工艺
CN115125485A (zh) 一种中波红外滤光片制备方法
CN221071343U (zh) 一种中空玻璃加工装置
CN219094212U (zh) 行星齿轮立式装配装置
CN212077148U (zh) 全自动薄膜制备装置
CN112770109A (zh) 一种全自动摄像头多功能测试设备
CN214869961U (zh) 一种全自动麦克风检测设备
CN116914534A (zh) 一种转盘式三面剥漆机
CN216237266U (zh) 一种镀膜设备
CN108277468B (zh) 一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法
CN218812029U (zh) 一种镀膜伞架加工用定位平台
CN220983311U (zh) 一种高真空低温金属测试用样品进料装置
CN220218399U (zh) 一种汽车装饰件多卡钉抓取安装组件
CN220952024U (zh) 一种全方位旋转真空蒸发镀膜机工件架
CN215703740U (zh) 一种大型塑料制品用多工位夹持装置
CN221387302U (zh) 一种温控相框烤漆装置
CN220254325U (zh) 一种电动机外壳加工用漆膜干燥机构
CN221561076U (zh) 一种具有定位功能的玻璃加工用固定装置
CN221051972U (zh) 一种真空镀膜遮挡装置
CN221493115U (zh) 一种自动拆卸及安装的狭缝涂布模头
CN115301480B (zh) 一种隔热低VOCs排放水性玻璃釉生产用涂膜装置
CN112551879B (zh) 玻璃裂片覆膜机
CN112018982B (zh) 一种定子烘干及浸漆设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant