CN221051972U - 一种真空镀膜遮挡装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及真空镀膜领域，特别涉及一种真空镀膜遮挡装置，包括载台，所述载台的顶端开设有两放置槽，所述放置槽内放置有陶瓷坩埚，所述载台的圆心处滑动穿设有转轴，所述转轴的底部设有驱动所述转轴转动的步进电机，所述转轴的顶端固定连接有挡板，所述挡板上开设有与所述放置槽相对应的通孔；本实用新型将两种蒸发材料分别放置在陶瓷坩埚内，通过步进电机驱动转轴转动，带动挡板转动，调节通孔位置，从而控制各蒸发材料与处理板之间空间的连接，从而控制不同的蒸发材料对产品进行真空镀膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜领域，更确切地说涉及一种真空镀膜遮挡装置。
背景技术
真空镀膜技术就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
现有公告号为CN201605316U的中国实用新型，公开了一种真空镀膜用遮挡装置，包括支撑座、驱动机构、转动轴以及挡板，驱动机构包括马达、主动齿轮和从动齿轮，马达固定在支撑座上，马达的输出轴与主动齿轮枢接，从动齿轮与主动齿轮啮合，转动轴的一端与从动齿轮枢接，另一端密封地穿入真空腔体的腔壁并与挡板垂直固定连接，挡板容置于真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，驱动机构驱动转动轴，转动轴带动挡板隔离或开通蒸发源与处理板的空间连接。
上述装置实现对单一蒸发源与处理板之间空间连接的控制，但是一些产品在进行蒸发镀膜时，需要采用两种不同的蒸发材料进行镀膜，现有的遮挡装置不能对两种蒸发源进行选择性遮挡，需要对其进行改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜遮挡装置，控制各蒸发材料与处理板之间空间的连接，从而控制不同的蒸发材料对产品进行真空镀膜。
为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种真空镀膜遮挡装置，包括载台，所述载台的顶端开设有两放置槽，所述放置槽内放置有陶瓷坩埚，所述载台的圆心处滑动穿设有转轴，所述转轴的底部设有驱动所述转轴转动的步进电机，所述转轴的顶端固定连接有挡板，所述挡板上开设有与所述放置槽相对应的通孔。
进一步的，两所述放置槽环绕所述转轴设置，且两所述放置槽间隔90°设置，所述通孔设置有两个，两所述通孔环绕所述转轴设置，且两所述通孔间隔90°设置。
进一步的，所述陶瓷坩埚为倒圆台状，所述陶瓷坩埚内开设有容纳腔，所述容纳腔的底部直径小于顶部直径。
进一步的，所述放置槽包括限位槽和圆槽，所述圆槽的顶端与所述载台的上表面相平齐，所述陶瓷坩埚放置在所述限位槽内。
进一步的，所述陶瓷坩埚的底部外径等于所述限位槽的底端内径，所述陶瓷坩埚的顶端外径大于所述限位槽的顶端内径，且小于所述圆槽的内径。
进一步的，所述限位槽的周侧环绕有高频线圈，所述高频线圈连接有电源。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果：
将两种蒸发材料分别放置在陶瓷坩埚内，通过步进电机驱动转轴转动，带动挡板转动，调节通孔位置，从而控制各蒸发材料与处理板之间空间的连接，从而控制不同的蒸发材料对产品进行真空镀膜。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的局部结构示意图；
图3为本实用新型的剖视图。
1、载台；11、放置槽；111、限位槽；112、圆槽；2、陶瓷坩埚；21、容纳腔；3、转轴；4、步进电机；5、挡板；51、通孔。
具体实施方式
如图1至图3所示，一种真空镀膜遮挡装置，包括载台1，所述载台1的顶端开设有两放置槽11，所述放置槽11内放置有陶瓷坩埚2，所述载台1的圆心处滑动穿设有转轴3，所述转轴3的底部设有驱动所述转轴3转动的步进电机4，所述转轴3的顶端固定连接有挡板5，所述挡板5上开设有与所述放置槽11相对应的通孔51。
两所述放置槽11环绕所述转轴3设置，且两所述放置槽11间隔90°设置，所述通孔51设置有两个，两所述通孔51环绕所述转轴3设置，且两所述通孔51间隔90°设置。
所述陶瓷坩埚2为倒圆台状，所述陶瓷坩埚2内开设有容纳腔21，所述容纳腔21的底部直径小于顶部直径；所述放置槽11包括限位槽111和圆槽112，所述圆槽112的顶端与所述载台1的上表面相平齐，所述陶瓷坩埚2放置在所述限位槽111内；所述陶瓷坩埚2的底部外径等于所述限位槽111的底端内径，所述陶瓷坩埚2的顶端外径大于所述限位槽111的顶端内径，且小于所述圆槽112的内径；通过设置圆槽112和限位槽111，便于取放陶瓷坩埚2。
所述限位槽111的周侧环绕有高频线圈，所述高频线圈连接有电源；当高频线圈中有高频电流时,陶瓷坩埚中感应产生电流而升温,从而使材料受热汽化。
工作原理：
将两种蒸发材料分别放置在两个陶瓷坩埚2内，当需要依次将两种不同的蒸发材料分别依次蒸发到产品上时，通过步进电机4驱动转轴3转动，带动挡板5转动，调节通孔51位置，使一通孔51与相应的放置槽11相连通，便于将该放置槽11内的蒸发材料蒸发镀膜在产品上，另一通孔51则远离另一放置槽11，当一蒸发材料完成蒸发镀膜后，步进电机4驱动挡板5转动，使上述远离的通孔51与放置有第二个蒸发材料的放置槽11相连通，此时，另一通孔51与刚完成蒸发镀膜的放置槽11相远离，进而完成第二个蒸发材料的蒸发镀膜，使其凝结在第一种蒸发材料上；
当需要将两种不同的蒸发材料在同一时间内同时蒸发到产品上时，通过步进电机4驱动挡板5转动，两个通孔51均分别与两放置槽11相连通，从而使两种蒸发材料同时进行蒸发，并同时凝结在产品上，从而得到两种不同材料的交替排列的薄膜；
当需要停止蒸发镀膜时，步进电机4驱动挡板5转动，使两个通孔51均远离两放置槽11，从而阻隔蒸发材料与产品接。
本实用新型能控制单个蒸发材料的真空镀膜，还能控制两种蒸发材料的依次镀膜以及同时镀膜，适用范围广，适用于复杂的蒸发镀膜情况。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例，并不用来限制本实用新型，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种真空镀膜遮挡装置，其特征在于：包括载台(1)，所述载台(1)的顶端开设有两放置槽(11)，所述放置槽(11)内放置有陶瓷坩埚(2)，所述载台(1)的圆心处滑动穿设有转轴(3)，所述转轴(3)的底部设有驱动所述转轴(3)转动的步进电机(4)，所述转轴(3)的顶端固定连接有挡板(5)，所述挡板(5)上开设有与所述放置槽(11)相对应的通孔(51)。
2.如权利要求1所述的真空镀膜遮挡装置，其特征在于：两所述放置槽(11)环绕所述转轴(3)设置，且两所述放置槽(11)间隔90°设置，所述通孔(51)设置有两个，两所述通孔(51)环绕所述转轴(3)设置，且两所述通孔(51)间隔90°设置。
3.如权利要求1所述的真空镀膜遮挡装置，其特征在于：所述陶瓷坩埚(2)为倒圆台状，所述陶瓷坩埚(2)内开设有容纳腔(21)，所述容纳腔(21)的底部直径小于顶部直径。
4.如权利要求3所述的真空镀膜遮挡装置，其特征在于：所述放置槽(11)包括限位槽(111)和圆槽(112)，所述圆槽(112)的顶端与所述载台(1)的上表面相平齐，所述陶瓷坩埚(2)放置在所述限位槽(111)内。
5.如权利要求4所述的真空镀膜遮挡装置，其特征在于：所述陶瓷坩埚(2)的底部外径等于所述限位槽(111)的底端内径，所述陶瓷坩埚(2)的顶端外径大于所述限位槽(111)的顶端内径，且小于所述圆槽(112)的内径。
6.如权利要求4所述的真空镀膜遮挡装置，其特征在于：所述限位槽(111)的周侧环绕有高频线圈，所述高频线圈连接有电源。
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| CN202322511203.4U Active CN221051972U (zh) | 2023-09-15 | 2023-09-15 | 一种真空镀膜遮挡装置 |
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2023
- 2023-09-15 CN CN202322511203.4U patent/CN221051972U/zh active Active
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