CN115110130A - 一种无磷低压化成箔的化成方法及制得的化成箔 - Google Patents
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title claims abstract description 127
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 71
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 65
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 65
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 22
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 6
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 claims description 15
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 claims description 15
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 14
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 14
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 2
- GCHCGDFZHOEXMP-UHFFFAOYSA-L potassium adipate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C(=O)CCCCC([O-])=O GCHCGDFZHOEXMP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000001608 potassium adipate Substances 0.000 claims description 2
- 235000011051 potassium adipate Nutrition 0.000 claims description 2
- KYKFCSHPTAVNJD-UHFFFAOYSA-L sodium adipate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCCCC([O-])=O KYKFCSHPTAVNJD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000001601 sodium adipate Substances 0.000 claims description 2
- 235000011049 sodium adipate Nutrition 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract description 10
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 45
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 45
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical group [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 8
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
- C25D11/10—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing organic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/48—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
- C23C22/56—Treatment of aluminium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/12—Anodising more than once, e.g. in different baths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
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Abstract
本发明公开了一种无磷低压化成箔的化成方法及制得的化成箔。所述化成方法,包括如下步骤:S1.将铝箔置于己二酸盐水溶液中进行第一级化成、第一次水洗;S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1~8wt.%硅酸盐水溶液中进行钝化处理,再进行热处理、第二次水洗;S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于化成液中进行第二级化成、第三次水洗、烘干得无磷低压化成箔;所述化成液包含以下浓度的组分:0.2~1.5wt.%硅酸盐和0.2~1.5wt.%有机酸水溶液。所述化成方法采用硅酸盐钝化处理再进行热处理,最后采用硅酸盐和有机酸的混合液进行化成,可以替代常规含磷的化成方法,所述化成方法更加环保;且制得的无磷低压化成箔性能优良。
Description
技术领域
本发明属于化成箔技术领域,具体涉及一种无磷低压化成箔的化成方法及制得的化成箔。
背景技术
随着社会磷用量的增加,价格越来越贵,磷污染对环境的影响也越来越大了。对铝电解电容器用化成箔作为铝电解电容器中的核心材料,对电容器的寿命特性起决定性作用。
现有化成箔的化成方法一般是经过如下步骤:取经过腐蚀的铝箔,置于己二酸铵及己二酸盐的水溶液中,经过化成、水洗,在浓度1~8%的磷酸溶液中进行钝化处理、水洗;再置于磷酸二氢盐水溶液中,经过化成、水洗,得到。但是这种化成箔的化成方法,后道工序的含磷废液的处理较难,一般都是加石灰中和,然后填埋,无法满足环境保护的需求。
因此,需要开发出一种无磷低压化成箔的化成方法,使得制得的化成箔性能好,并且不污染环境。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术不足,提供了一种无磷低压化成箔的化成方法,采用硅酸盐水溶液对铝箔进行钝化处理,采用硅酸盐和有机酸进行二级化成,所述化成方法制得的化成箔耐水合性能良好且不污染环境。
本发明的另一目的在于提供上述化成方法制得的无磷低压化成箔。
为实现上述目的,本发明通过以下技术方案来实现的:
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于己二酸盐水溶液中进行第一级化成、第一次水洗;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1~8wt.%硅酸盐水溶液中进行钝化处理,再进行热处理、第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于化成液中进行第二级化成、第三次水洗、烘干得无磷低压化成箔;所述化成液包含以下浓度的组分:0.2~1.5wt.%硅酸盐和0.2~1.5wt.%有机酸水溶液。
本发明的化成方法,将第一级化成后的铝箔采用硅酸盐钝化再进行热处理,可以替代常规磷酸钝化处理方式,最后采用硅酸盐和有机酸的混合液进行化成。所述化成方法成本较低,更加环保;另外有机酸加强了金属离子的螯合能力,硅酸盐和有机酸化成可以在铝箔表面生成酸性硅化膜,更耐腐蚀。
优选地,步骤S1.中,所述己二酸盐为己二酸铵、己二酸钠或己二酸钾中的一种或几种。
本发明可以根据现有技术选择第一级化成的参数。优选地,步骤S1.中,所述第一级化成的温度为65~95℃,电流密度为20~25mA/cm2,化成时间为18~22min。
优选地,步骤S2.中,所述硅酸盐水溶液的浓度为5~8wt.%。
优选地,步骤S2.中,所述硅酸盐为硅酸钠和/或硅酸钾。
优选地,步骤S2.中,所述钝化处理的温度为50~80℃,所述钝化处理的时间为1~5min。
优选地,步骤S2.中,所述热处理的温度为300~550℃,所述热处理的时间为1~5min。
更优选地,步骤S2.中,所述热处理的温度为450~550℃。
优选地,步骤S3.中,所述化成液包含以下浓度的组分:0.8~1.5wt.%硅酸盐和0.2~1.5wt.%有机酸水溶液。进一步调整化成液中硅酸盐和有机酸浓度可以在生成酸性硅化膜的同时不引起皮膜溶解,进一步提高无磷低压化成箔的耐水合性能。
优选地,步骤S3.中,所述硅酸盐为硅酸钠和/或硅酸钾。
优选地,步骤S3.中,所述有机酸为酒石酸、柠檬酸或马来酸的一种或几种。
更优选地,步骤S3.中,所述有机酸为酒石酸。
优选地,步骤S3.中,所述第二级化成的温度为50~95℃,电流密度为20~25mA/cm2,化成时间为4~6min。
本发明还保护上述化成方法制得的无磷低压化成箔。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
本发明提供了一种无磷低压化成箔的化成方法,所述化成方法将第一级化成后的铝箔采用硅酸盐钝化处理再进行热处理,最后采用硅酸盐和有机酸的混合液进行化成,可以替代常规含磷的化成方法,所述化成方法成本较低,更加环保;且所述方法制得的无磷低压化成箔性能良好与现有技术有磷化成方法制得的低压化成箔性能相近。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做出进一步地详细阐述,所述实施例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。下述实施例中所使用的试验方法如无特殊说明,均为常规方法;所使用的材料、试剂等,如无特殊说明,为可从商业途径得到的试剂和材料。
实施例和对比例中采用的铝箔LT02规格,腐蚀箔比容为5.3μF/cm2铝箔纯度≥99.98%,购自广东乳源立东科技股份有限公司,所用试剂均为市售分析纯。
实施例1
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例2
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度450℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例3
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度520℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例4
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度550℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例5
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.4wt.%硅酸钠和0.4wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例6
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.8wt.%硅酸钠和0.8wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例7
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于1.0wt.%硅酸钠和1.0wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例8
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于1.5wt.%硅酸钠和1.5wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例9
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于8wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
实施例10
一种无磷低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于5wt.%的硅酸钠水溶液中,在50℃温度下,进行硅酸钠钝化处理;硅酸钠钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗、烘干,得到无磷低压化成箔。
对比例1
对比例提供一种低压化成箔的化成方法,化成方法与实施例1的区别在于:
S2.中,选用1wt.%的磷酸水溶液代替1wt.%的硅酸钠水溶液;
S3.中,选用1wt.%的磷酸二氢铵溶液代替0.2wt.%硅酸钠和0.2wt.%酒石酸水溶液。
对比例2
一种低压化成箔的化成方法,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于15wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第一级化成、第一次水洗;第一级化成的化成温度为75℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为18min;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1wt.%的磷酸水溶液中,在50℃温度下,进行磷酸钝化处理;磷酸钝化处理后的铝箔置于烘干炉中,在空气气氛下进行热处理,热处理的温度300℃,时间为3min,然后进行第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于1wt.%的己二酸铵水溶液中,进行第二级化成,第二级化成的化成温度为95℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为4min,取出后经过第三次水洗;
S4.将S3.中第三次水洗后的铝箔在500℃进行热处理,热处理时间为3min,然后置于0.5wt.%的磷酸二氢铵水溶液中,进行第三级化成,第三级化成的化成温度为85℃,电流密度为20mA/cm2,化成时间为5min,取出后经过第四次水洗、烘干,得到低压化成箔。
性能测试
将上述实施例和对比例制得的低压化成箔进行性能测试,具体测试方法如下:
按照EIAJ RC-2364A标准方法,使用比容测试仪测定比容和电压;
耐水合性能的测定方法为:将低压化成箔在≥95℃的纯水中保温12小时,按Tr/Vt测试方法测定升压时间及到达电压。测定结果如表1所示。
表1实施例1~10和对比例1~2的测试结果
比容(μF/cm<sup>2</sup>) | 电压(V) | 耐水合(s) | |
实施例1 | 6.35 | 130.5 | 23 |
实施例2 | 6.25 | 132.7 | 19 |
实施例3 | 6.30 | 133.5 | 21 |
实施例4 | 6.25 | 135.9 | 20 |
实施例5 | 6.34 | 130.2 | 21 |
实施例6 | 6.31 | 132.8 | 19 |
实施例7 | 6.25 | 132.2 | 18 |
实施例8 | 6.29 | 132.4 | 17 |
实施例9 | 6.31 | 133.1 | 18 |
实施例10 | 6.34 | 133.4 | 19 |
对比例1 | 6.32 | 130.5 | 21 |
对比例2 | 6.31 | 132.0 | 21 |
从表1中可以看出,采用本发明化成方法制备的无磷低压化成箔的比容均不低于6.25μF/cm2,且耐水合能力与有磷化成法制得的低压化成箔相当,即说明本发明提供的无磷化成方法是可以替代现有的有磷化成方法的。
从实施例1~4可以看出,当热处理的温度为450~520℃时,制得的无磷低压化成箔的耐水合性能进一步提高。比较实施例1、5~8可以看出,当化成液中硅酸盐的浓度为0.8~1.5wt.%,有机酸的浓度为0.8~1.5wt.%时,制得的无磷低压化成箔的耐水合性能进一步提高,耐水合性能不高于20;比较实施例1、9~10可以看出,当钝化处理的硅酸钠的浓度为5~8wt.%时,无磷低压化成箔的耐水合性能进一步提高。
显然,本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种无磷低压化成箔的化成方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1.将铝箔置于己二酸盐水溶液中进行第一级化成、第一次水洗;
S2.将S1.中第一次水洗后的铝箔置于1~8wt.%硅酸盐水溶液中进行钝化处理,再进行热处理、第二次水洗;
S3.将S2.中第二次水洗后的铝箔置于化成液中进行第二级化成、第三次水洗、烘干得无磷低压化成箔;所述化成液包含以下浓度的组分:0.2~1.5wt.%硅酸盐和0.2~1.5wt.%有机酸水溶液。
2.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S2.中,所述硅酸盐水溶液的浓度为5~8wt.%。
3.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S3.中,所述化成液包含以下浓度的组分:0.8~1.5wt.%硅酸盐和0.8~1.5wt.%有机酸水溶液。
4.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S2.中,所述钝化处理的温度为50~80℃。
5.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S2.中,所述热处理的温度为300~550℃。
6.根据权利要求5所述化成方法,其特征在于,步骤S2.中,所述热处理的温度为450~550℃。
7.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S3.中,所述有机酸为酒石酸、柠檬酸或马来酸的一种或几种。
8.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S1.中,所述己二酸盐为己二酸铵、己二酸钠或己二酸钾中的一种或几种。
9.根据权利要求1所述化成方法,其特征在于,步骤S3.中,所述第二级化成的温度为50~95℃,电流密度为20~25mA/cm2,化成时间为4~6min。
10.一种无磷低压化成箔,其特征在于,采用权利要求1~9任一项所述化成方法制得。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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