CN115110051A - 一种镀膜旋转靶靶芯结构 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种真空镀膜领域,尤其涉及一种镀膜旋转靶靶芯结构。本发明提供一种能够使磁铁呈扇形分布的镀膜旋转靶靶芯结构。一种镀膜旋转靶靶芯结构,包括有磁铁座;锁紧块,磁铁座底部均匀间隔连接有三个锁紧块,磁铁座为扇形,磁铁座的上部均匀间隔开有三个嵌入槽;水道,三个锁紧块与磁铁座之间放置有水道;限位调节机构,磁铁座上连接有限位调节机构;卡位机构,磁铁座上连接有卡位机构。本发明通过磁铁座为扇形,使得磁铁能够呈扇形分别,使得磁场分布均匀,提高溅射效率。
Description
技术领域
本发明涉及一种真空镀膜领域,尤其涉及一种镀膜旋转靶靶芯结构。
背景技术
目前现有的溅射靶材有两种,一种是平面靶材,另一种是旋转靶材,旋转靶材的利用率高于平面靶材,旋转靶材在使用中因长时间处于高温加工中,而靶材本身遇到高温会出现裂痕,因此,需对旋转靶材进行降温,而现有的旋转靶材的靶芯磁铁与冷却水管是一体的,磁铁分布呈平面,且没有固定磁铁的嵌入槽,磁铁容易倒造成电压波动大影响溅射的效率甚至无法溅射。
因此,需研发一种能够使磁铁呈扇形分布的镀膜旋转靶靶芯结构。
发明内容
为了克服现有的磁铁分布呈平面,容易影响溅射效率的缺点,本发明的技术问题:提供一种能够使磁铁呈扇形分布的镀膜旋转靶靶芯结构。
为实现以上目的,本发明通过以下方案予以实现:一种镀膜旋转靶靶芯结构,包括有:
磁铁座;
锁紧块,磁铁座底部均匀间隔连接有三个锁紧块,磁铁座为扇形,磁铁座的上部均匀间隔开有三个嵌入槽;
水道,三个锁紧块与磁铁座之间放置有水道;
限位调节机构,磁铁座上连接有用于对磁铁的两端进行夹紧的限位调节机构,限位调节机构部件左右移动带动磁铁左右移动,对磁铁的位置进行调节;
卡位机构,磁铁座上连接有用于对限位调节机构部件进行卡位的卡位机构,卡位机构与限位调节机构部件接触,卡位机构对限位调节机构进行限位,防止限位调节机构因惯性而往外移动松开磁铁。
可选地,限位调节机构包括有:
活动推块,磁铁座内部左右两侧均滑动式连接有用于对磁铁的两端进行夹紧的活动推块,活动推块有三个分支均穿过磁铁座;
螺杆,磁铁座左右两侧均螺纹式连接有螺杆,两个螺杆内侧均与相近的活动推块转动式连接,螺杆为中空型;
旋钮,两个螺杆外侧均连接有旋钮,旋钮为中空型,两个螺杆顶部均开有一字槽,通过活动推块左右移动,带动磁铁左右移动进行调节。
可选地,卡位机构包括有:
支架,磁铁座左右两侧均连接有两个支架;
转动杆,左侧的两个支架左侧之间转动式连接有转动杆,右侧的两个支架右侧之间转动式连接有转动杆;
第一卡块,两个转动杆中部均连接有第一卡块,两个第一卡块下部均与相近的一字槽接触;
扭力弹簧,两个转动杆中部均套有两个扭力弹簧,扭力弹簧有四个,扭力弹簧的两端分别与支架和第一卡块连接,通过第一卡块转动与一字槽配合,对螺杆进行限位,防止螺杆因惯性而往外移动松开磁铁。
可选地,还包括有用于减缓挤压力对磁铁进行保护的防护机构,防护机构包括有:
滑杆,两个活动推块上侧均滑动式连接有三个滑杆;
橡胶垫,六个滑杆内侧均连接有用于减缓挤压力的橡胶垫;
第一弹簧,六个滑杆外侧均套有第一弹簧,第一弹簧的两端分别与滑杆和活动推块连接。
可选地,还包括有用于将磁铁顶出嵌入槽的推料机构,推料机构包括有:
固定安装框,磁铁座内部中间连接有三个固定安装框,固定安装框有三个分支;
伸缩推块,每个分支内均滑动式连接有用于将磁铁顶出嵌入槽的伸缩推块,伸缩推块有九个,伸缩推块穿过磁铁座;
第二弹簧,伸缩推块底部与固定安装框之间连接有两个第二弹簧,第二弹簧有十八个。
可选地,还包括有用于对伸缩推块进行限位的旋转拉动机构,旋转拉动机构包括有:
旋转座,磁铁座左右两侧均连接有旋转座,旋转座位于螺杆下侧;
旋转杆,两个旋转座之间转动式连接有旋转杆,旋转杆穿过旋钮、螺杆、活动推块和固定安装框,旋转杆顶部左右两侧均开有限位槽;
限位组件,两个旋转座顶部均连接有用于对旋转杆进行限位的限位组件;
旋转带动组件,旋转杆中部连接有三个用于对伸缩推块进行限位的旋转带动组件,旋转带动组件与伸缩推块连接,通过限位组件对旋转杆进行限位,带动旋转带动组件对伸缩推块进行限位,防止伸缩推块自动带动磁铁往外侧移动。
可选地,限位组件包括有:
第二卡块,两个旋转座顶部均滑动式连接有第二卡块,两个第二卡块均与相近的限位槽接触;
第三弹簧,两个第二卡块上部均与相近的旋转座顶部之间连接有第三弹簧,通过第二卡块上下移动对旋转杆进行限位。
可选地,旋转带动组件包括有:
绕线轮,旋转杆中部连接有三个绕线轮,三个绕线轮分别位于三个固定安装框内;
拉绳,三个绕线轮上均连接有三个拉绳,左侧的三个拉绳分别与左侧的三个伸缩推块底部连接,中间的三个拉绳分别与中间的三个伸缩推块底部连接,右侧的三个拉绳分别与右侧的三个伸缩推块底部连接,通过绕线轮对拉绳进行收卷对伸缩推块进行限位,防止伸缩推块自动带动磁铁往外侧移动。
可选地,还包括有用于增加与水道之间的摩擦力的防滑机构,防滑机构包括有:
防滑座,磁铁座底部连接有两个防滑座,两个防滑锁分别位于每两个锁紧块之间;
防滑垫,两个防滑锁内部均连接有用于增加与水道之间的摩擦力的防滑垫,防滑垫与水道接触。
本发明具有以下优点:1、本发明通过磁铁座为扇形,使得磁铁能够呈扇形分别,使得磁场分布均匀,提高溅射效率;通过橡胶垫对磁铁进行夹紧并缓冲对磁铁的挤压力,能够有效防止磁铁被损坏;在第二弹簧的复位作用下,使得伸缩推块将磁铁顶出嵌入槽,如此,便于工作人员拿取磁铁;通过绕线轮对拉绳进行收卷,能够对伸缩推块进行限位,无需工作人员手动对磁铁进行限位,有效防止伸缩推块自动带动磁铁往外侧移动;并且通过设有防滑垫,防滑垫能够增加与水道之间的摩擦力,避免水道自动脱落,提高稳定性。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图。
图2为本发明限位调节机构的立体结构示意图。
图3为本发明限位调节机构的部分立体结构示意图。
图4为本发明卡位机构的立体结构示意图。
图5为本发明卡位机构的部分立体结构示意图。
图6为本发明防护机构的立体结构示意图。
图7为本发明防护机构的部分立体结构示意图。
图8为本发明推料机构的立体结构示意图。
图9为本发明推料机构的剖视立体结构示意图。
图10为本发明旋转拉动机构的第一部分立体结构示意图。
图11为本发明旋转拉动机构的剖视立体结构示意图。
图12为本发明旋转拉动机构的剖视部分立体结构示意图。
图13为本发明旋转拉动机构的第二部分立体结构示意图。
图14为本发明防滑机构的立体结构示意图。
附图中各零部件的标记如下:1、锁紧块,2、磁铁座,3、水道,4、限位调节机构,41、活动推块,42、螺杆,43、旋钮,44、一字槽,5、卡位机构,51、支架,52、转动杆,53、第一卡块,54、扭力弹簧,6、防护机构,61、橡胶垫,62、滑杆,63、第一弹簧,7、推料机构,71、固定安装框,72、伸缩推块,73、第二弹簧,8、旋转拉动机构,81、旋转座,82、旋转杆,821、限位槽,83、第二卡块,84、第三弹簧,85、绕线轮,86、拉绳,9、防滑机构,91、防滑座,92、防滑垫。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解,这些实施例是用于说明本申请而不限于限制本申请的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整,未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
实施例1
一种镀膜旋转靶靶芯结构,如图1-5所示,包括有锁紧块1、磁铁座2、水道3、限位调节机构4、活动推块41、螺杆42、旋钮43、卡位机构5、支架51、转动杆52、第一卡块53和扭力弹簧54,磁铁座2底部均匀间隔通过螺栓固接有三个锁紧块1,磁铁座2为扇形,磁铁座2的上部均匀间隔开有三个嵌入槽,三个锁紧块1与磁铁座2之间放置有水道3,磁铁座2上连接有限位调节机构4,限位调节机构4用于对磁铁的两端进行夹紧,磁铁座2上连接有卡位机构5,卡位机构5用于对限位调节机构4部件进行卡位,卡位机构5与限位调节机构4部件接触,磁铁座2内部左右两侧均滑动式连接有活动推块41,活动推块41用于对磁铁的两端进行夹紧,活动推块41有三个分支均穿过磁铁座2,磁铁座2左右两侧均螺纹式连接有螺杆42,两个螺杆42内侧均与相近的活动推块41转动式连接,螺杆42为中空型,两个螺杆42外侧均焊接有旋钮43,旋钮43为中空型,两个螺杆42顶部均开有一字槽44,磁铁座2左右两侧均焊接有两个支架51,左侧的两个支架51左侧之间转动式连接有转动杆52,右侧的两个支架51右侧之间转动式连接有转动杆52,两个转动杆52中部均焊接有第一卡块53,两个第一卡块53下部均与相近的一字槽44接触,两个转动杆52中部均套有两个扭力弹簧54,扭力弹簧54有四个,扭力弹簧54的两端分别与支架51和第一卡块53连接。
使用时,将水道3放入锁紧块1与磁铁座2之间,再将三个磁铁分别放入磁铁座2上的嵌入槽内,如此,能够完全固定磁铁的位置,不会造成在旋转的过程中倒磁铁以致磁力线混乱,溅射电压高无法正常溅射,且能够使磁力分布均匀,在制备薄膜时,能够提高溅射的效率,从而提高靶材的利用率,避免靶材浪费,随后转动转动杆52,此时扭力弹簧54形变,转动杆52带动第一卡块53往上转动与一字槽44分离,再转动旋钮43,带动螺杆42转动,进而推动活动推块41往内侧移动对磁铁进行夹持,如此,旋转靶在工作时,能够避免磁铁与磁铁座2脱离,从而能够避免影响溅射效果,且通过转动螺杆42,能够通过活动推块41在磁铁座2内进行移动,从而能够对磁铁的位置进行调节,夹紧后,松开旋转杆82,此时扭力弹簧54复位,带动转动杆52和第一卡块53反转复位,使得第一卡块53从新卡入一字槽44内对螺杆42进行限位,避免螺杆42在旋转靶工作时,会因旋转的惯性而自行往外侧旋转,导致活动推块41松开磁铁,需要将磁铁取出时,反向重复上述操作,使得活动推块41松开磁铁,即可将磁铁取出。
实施例2
在实施例1的基础之上,如图1、图6和图7所示,还包括有防护机构6,防护机构6用于减缓挤压力对磁铁进行保护,防护机构6包括有橡胶垫61、滑杆62和第一弹簧63,两个活动推块41上侧均滑动式连接有三个滑杆62,六个滑杆62内侧均连接有橡胶垫61,橡胶垫61用于减缓挤压力,六个滑杆62外侧均套有第一弹簧63,第一弹簧63的两端分别与滑杆62和活动推块41连接。当活动推块41往内侧移动时,带动滑杆62和橡胶垫61往内侧移动,当橡胶垫61往内侧移动至与磁铁接触时,此时第一弹簧63进行适应性形变,能够对磁铁进行夹紧并缓冲对磁铁的挤压力,避免磁铁被损坏,当活动推块41带动滑杆62与橡胶垫61往外侧移动复位时,此时第一弹簧63复位,带动滑杆62和橡胶垫61复位。
如图1、图8和图9所示,还包括有推料机构7,推料机构7用于将磁铁顶出嵌入槽,推料机构7包括有固定安装框71、伸缩推块72和第二弹簧73,磁铁座2内部中间连接有三个固定安装框71,固定安装框71有三个分支,每个分支内均滑动式连接有伸缩推块72,伸缩推块72用于将磁铁顶出嵌入槽,伸缩推块72有九个,伸缩推块72穿过磁铁座2,伸缩推块72底部与固定安装框71之间连接有两个第二弹簧73,第二弹簧73有十八个。工作人员将磁铁放入磁铁座2的嵌入槽内与伸缩推块72接触,并挤压伸缩推块72往下移动,此时第二弹簧73被压缩,随后通过橡胶垫61对磁铁进行夹紧后,再松开磁铁,在需要将磁铁取出时,橡胶垫61往外侧移动松开磁铁,此时第二弹簧73复位,带动伸缩推块72往外侧移动复位,进而将磁铁顶出嵌入槽,如此,便于工作人员拿取磁铁。
如图1、图10、图11、图12和图13所示,还包括有旋转拉动机构8,旋转拉动机构8用于对伸缩推块72进行限位,旋转拉动机构8包括有旋转座81、旋转杆82、限位组件和旋转带动组件,磁铁座2左右两侧均焊接有旋转座81,旋转座81位于螺杆42下侧,两个旋转座81之间转动式连接有旋转杆82,旋转杆82穿过旋钮43、螺杆42、活动推块41和固定安装框71,旋转杆82顶部左右两侧均开有限位槽821,两个旋转座81顶部均连接有限位组件,限位组件用于对旋转杆82进行限位,旋转杆82中部连接有三个旋转带动组件,旋转带动组件用于对伸缩推块72进行限位,旋转带动组件与伸缩推块72连接;限位组件包括有第二卡块83和第三弹簧84,两个旋转座81顶部均滑动式连接有第二卡块83,两个第二卡块83均与相近的限位槽821接触,两个第二卡块83上部均与相近的旋转座81顶部之间连接有第三弹簧84;旋转带动组件包括有绕线轮85和拉绳86,旋转杆82中部连接有三个绕线轮85,三个绕线轮85分别位于三个固定安装框71内,三个绕线轮85上均连接有三个拉绳86,左侧的三个拉绳86分别与左侧的三个伸缩推块72底部连接,中间的三个拉绳86分别与中间的三个伸缩推块72底部连接,右侧的三个拉绳86分别与右侧的三个伸缩推块72底部连接。放置磁铁时,将第二卡块83往上拉动与限位槽821分离,此时第三弹簧84被拉伸,随后转动旋转杆82,带动绕线轮85转动,使得绕线轮85对拉绳86进行收卷,进而通过拉绳86带动伸缩推块72往内侧移动,此时第二弹簧73被压缩,限位槽821旋转一圈再次与第二卡块83接触时,第三弹簧84复位,带动第二卡块83往下移动卡入限位槽821内对旋转座81进行限位,如此,在放置磁铁时,无需工作人员手动对磁铁进行限位,操作简单,需要取出磁铁时,再次将第一卡块53往上拉动与限位槽821分离,第三弹簧84被拉伸,同时第二弹簧73复位,通过伸缩推块72带动磁铁往外移动,工作人员将磁铁取出即可,伸缩推块72通过拉绳86带动绕线轮85反转复位,进而带动旋转杆82和限位槽821反转复位,限位槽821反转复位再次与第二卡块83接触时,第三弹簧84复位,带动第二卡块83往下移动卡入限位槽821内对旋转座81进行限位,如此,便可降低放置磁铁时操作的麻烦,使用更加方便。
如图1和图14所示,还包括有防滑机构9,防滑机构9用于增加与水道3之间的摩擦力,防滑机构9包括有防滑座91和防滑垫92,磁铁座2底部连接有两个防滑座91,两个防滑锁分别位于每两个锁紧块1之间,两个防滑锁内部均连接有防滑垫92,防滑垫92用于增加与水道3之间的摩擦力,防滑垫92与水道3接触。将水道3放置在锁紧块1、磁铁座2与防滑座91之间,防滑垫92能够增加水道3的摩擦力,避免水道3自动脱落。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,但对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行变化,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (9)
1.一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:包括有:
磁铁座(2);
锁紧块(1),磁铁座(2)底部均匀间隔连接有三个锁紧块(1),磁铁座(2)为扇形,磁铁座(2)的上部均匀间隔开有三个嵌入槽;
水道(3),三个锁紧块(1)与磁铁座(2)之间放置有水道(3);
限位调节机构(4),磁铁座(2)上连接有用于对磁铁的两端进行夹紧的限位调节机构(4),限位调节机构(4)部件左右移动带动磁铁左右移动,对磁铁的位置进行调节;
卡位机构(5),磁铁座(2)上连接有用于对限位调节机构(4)部件进行卡位的卡位机构(5),卡位机构(5)与限位调节机构(4)部件接触,卡位机构(5)对限位调节机构(4)进行限位,防止限位调节机构(4)因惯性而往外移动松开磁铁。
2.按照权利要求1所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:限位调节机构(4)包括有:
活动推块(41),磁铁座(2)内部左右两侧均滑动式连接有用于对磁铁的两端进行夹紧的活动推块(41),活动推块(41)有三个分支均穿过磁铁座(2);
螺杆(42),磁铁座(2)左右两侧均螺纹式连接有螺杆(42),两个螺杆(42)内侧均与相近的活动推块(41)转动式连接,螺杆(42)为中空型;
旋钮(43),两个螺杆(42)外侧均连接有旋钮(43),旋钮(43)为中空型,两个螺杆(42)顶部均开有一字槽(44),通过活动推块(41)左右移动,带动磁铁左右移动进行调节。
3.按照权利要求2所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:卡位机构(5)包括有:
支架(51),磁铁座(2)左右两侧均连接有两个支架(51);
转动杆(52),左侧的两个支架(51)左侧之间转动式连接有转动杆(52),右侧的两个支架(51)右侧之间转动式连接有转动杆(52);
第一卡块(53),两个转动杆(52)中部均连接有第一卡块(53),两个第一卡块(53)下部均与相近的一字槽(44)接触;
扭力弹簧(54),两个转动杆(52)中部均套有两个扭力弹簧(54),扭力弹簧(54)有四个,扭力弹簧(54)的两端分别与支架(51)和第一卡块(53)连接,通过第一卡块(53)转动与一字槽(44)配合,对螺杆(42)进行限位,防止螺杆(42)因惯性而往外移动松开磁铁。
4.按照权利要求2所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:还包括有用于减缓挤压力对磁铁进行保护的防护机构(6),防护机构(6)包括有:
滑杆(62),两个活动推块(41)上侧均滑动式连接有三个滑杆(62);
橡胶垫(61),六个滑杆(62)内侧均连接有用于减缓挤压力的橡胶垫(61);
第一弹簧(63),六个滑杆(62)外侧均套有第一弹簧(63),第一弹簧(63)的两端分别与滑杆(62)和活动推块(41)连接。
5.按照权利要求1所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:还包括有用于将磁铁顶出嵌入槽的推料机构(7),推料机构(7)包括有:
固定安装框(71),磁铁座(2)内部中间连接有三个固定安装框(71),固定安装框(71)有三个分支;
伸缩推块(72),每个分支内均滑动式连接有用于将磁铁顶出嵌入槽的伸缩推块(72),伸缩推块(72)有九个,伸缩推块(72)穿过磁铁座(2);
第二弹簧(73),伸缩推块(72)底部与固定安装框(71)之间连接有两个第二弹簧(73),第二弹簧(73)有十八个。
6.按照权利要求5所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:还包括有用于对伸缩推块(72)进行限位的旋转拉动机构(8),旋转拉动机构(8)包括有:
旋转座(81),磁铁座(2)左右两侧均连接有旋转座(81),旋转座(81)位于螺杆(42)下侧;
旋转杆(82),两个旋转座(81)之间转动式连接有旋转杆(82),旋转杆(82)穿过旋钮(43)、螺杆(42)、活动推块(41)和固定安装框(71),旋转杆(82)顶部左右两侧均开有限位槽(821);
限位组件,两个旋转座(81)顶部均连接有用于对旋转杆(82)进行限位的限位组件;
旋转带动组件,旋转杆(82)中部连接有三个用于对伸缩推块(72)进行限位的旋转带动组件,旋转带动组件与伸缩推块(72)连接,通过限位组件对旋转杆(82)进行限位,带动旋转带动组件对伸缩推块(72)进行限位,防止伸缩推块(72)自动带动磁铁往外侧移动。
7.按照权利要求6所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:限位组件包括有:
第二卡块(83),两个旋转座(81)顶部均滑动式连接有第二卡块(83),两个第二卡块(83)均与相近的限位槽(821)接触;
第三弹簧(84),两个第二卡块(83)上部均与相近的旋转座(81)顶部之间连接有第三弹簧(84),通过第二卡块(83)上下移动对旋转杆(82)进行限位。
8.按照权利要求6所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:旋转带动组件包括有:
绕线轮(85),旋转杆(82)中部连接有三个绕线轮(85),三个绕线轮(85)分别位于三个固定安装框(71)内;
拉绳(86),三个绕线轮(85)上均连接有三个拉绳(86),左侧的三个拉绳(86)分别与左侧的三个伸缩推块(72)底部连接,中间的三个拉绳(86)分别与中间的三个伸缩推块(72)底部连接,右侧的三个拉绳(86)分别与右侧的三个伸缩推块(72)底部连接,通过绕线轮(85)对拉绳(86)进行收卷对伸缩推块(72)进行限位,防止伸缩推块(72)自动带动磁铁往外侧移动。
9.按照权利要求1所述的一种镀膜旋转靶靶芯结构,其特征是:还包括有用于增加与水道(3)之间的摩擦力的防滑机构(9),防滑机构(9)包括有:
防滑座(91),磁铁座(2)底部连接有两个防滑座(91),两个防滑锁分别位于每两个锁紧块(1)之间;
防滑垫(92),两个防滑锁内部均连接有用于增加与水道(3)之间的摩擦力的防滑垫(92),防滑垫(92)与水道(3)接触。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210822490.8A CN115110051B (zh) | 2022-07-12 | 2022-07-12 | 一种镀膜旋转靶靶芯结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210822490.8A CN115110051B (zh) | 2022-07-12 | 2022-07-12 | 一种镀膜旋转靶靶芯结构 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115110051A true CN115110051A (zh) | 2022-09-27 |
CN115110051B CN115110051B (zh) | 2023-07-25 |
Family
ID=83332518
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210822490.8A Active CN115110051B (zh) | 2022-07-12 | 2022-07-12 | 一种镀膜旋转靶靶芯结构 |
Country Status (1)
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