CN211689225U - 一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备，其中圆柱靶包括靶材和靶芯，靶芯的外部设有防水密封套管，靶芯的顶部和/或底部设有密封套环，靶芯的进水口和/或出水口处设有密封水管。本实用新型靶芯外部设置防水密封套管，在靶芯的顶部和底部设置密封套环，进水管的出水口处设置密封水管，冷却水从进水管导流到防水密封套管外，使冷却水充盈在防水密封套管和靶材之间，最终从回水口排除，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。本结构能确保靶芯不会被腐蚀，靶材表面的磁性不会发生变化，提高靶材表面的冷却均匀性，保持靶材镀膜状态一致，提高产品品质，有利于提高镀膜设备的稳定性。

Description

一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。该技术广泛应用于低辐射玻璃和透明导电玻璃，特别是透明导电玻璃可以用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件传感器等。现在在智能手机行业、互联汽车行业、智能家电行业及机械工模具行业有极广泛的应用。

现在圆柱靶结构是将靶芯全部浸泡在冷却水中，通过减少冷却水的杂质含量来避免靶芯内部磁铁组及磁靴被腐蚀的情况发生，从而延长靶芯的使用寿命。而在实际生产中冷却水对靶芯内部磁铁组及磁靴的腐蚀情况却经常发生，屡见不鲜。

靶芯长期浸泡在冷却水中，磁铁组被冷却水腐蚀，导致磁铁组表面磁性发生变化，从而改变靶材处磁场，最终对靶材的溅射状态产生消极影响，影响镀膜产品品质。

靶芯长期浸泡在冷却水中，内部磁靴的表面被腐蚀掉的残渣会影响冷却水的流通状态，长此以往会堵塞冷却水路，会使靶材表面温度不均衡的情况发生，靶材表面积累的温度会越来越高，最终靶材表面的镀膜材料会炸裂。同时被腐蚀掉的残渣会掉落在磁铁组上，对磁铁组的磁场进行干扰，对靶材磁场产生影响，最终对靶材的溅射状态产生消极影响，严重影响镀膜生产的产品品质及镀膜设备的正常运转。

因此，现有技术存在不足，需要改进。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术的不足，提供一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，所述圆柱靶包括靶材和靶芯，所述靶芯的外部设有防水密封套管，所述防水密封套管能够将所述靶芯沿径向包裹住，所述靶芯的顶部和/或底部设有密封套环，所述密封套环能够将所述靶芯的顶部和/或底部沿横向包裹住，所述靶芯的进水口和/或出水口处设有密封水管。

进一步地，所述防水密封套管、密封套环及密封水管均通过密封连接的方式与所述靶芯进行连接固定。

进一步地，所述密封连接的方式包括焊接和/或密封胶密封。

进一步地，所述防水密封套管、密封套环及密封水管均为金属非导磁性材料。

进一步地，所述防水密封套管的形状与所述靶芯的形状一致，所述密封套环的形状与所述靶材的形状一致。

进一步地，所述防水密封套管的形状为圆形，所述密封套环的形状为圆环形。

进一步地，所述防水密封套管的直径比所述靶芯的直径大4-6mm，所述防水密封套管的厚度为1-2mm。

所述密封套环的直径比所述靶芯大1-2mm，所述密封套环的厚度为1-2mm。

所述密封水管的直径为1-4mm。

进一步地，所述靶芯包括：靶芯下座、靶芯上座、进水管、磁靴及磁铁组，所述靶芯上座与所述靶芯下座相对设置，所述进水管、磁靴及磁铁组均设于所述靶芯上座与所述靶芯下座之间，所述进水管固定在所述磁靴的上方，所述磁铁组固定在所述磁靴的下方四周，所述进水管靠近所述靶芯上座这一端设有进水口，所述进水管靠近所述靶芯下座这一端的侧壁上设有出水口。

进一步地，所述防水密封套管将所述进水管、磁靴及磁铁组沿径向包裹住，所述出水口穿过所述防水密封套管设置，所述密封水管设于所述出水口处，所述密封套环的数量为两个，两所述密封套环分别设于所述靶芯下座和所述靶芯上座的外侧。

本实用新型还提供一种镀膜设备，包括如上所述的圆柱靶。

采用上述方案，本实用新型靶芯外部设置防水密封套管，将靶芯与冷却水纵向进行分隔；在靶芯的顶部和底部设置密封套环，将靶芯与冷却水于横向顶部及底部进行分隔；进水管的出水口处设置密封水管，能连接进水管与防水密封套管的外部空间。冷却水从进水管导流到防水密封套管外，使冷却水充盈在防水密封套管和靶材之间，最终从回水口排除，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。本结构能确保靶芯不会被腐蚀，靶材表面的磁性不会发生变化，提高靶材表面的冷却均匀性，保持靶材镀膜状态一致，提高产品品质，有利于提高镀膜设备的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型避免靶芯接触冷却水的圆柱靶的横向剖面图；

图2为本实用新型避免靶芯接触冷却水的圆柱靶进水端的纵向剖面图；

图3为本实用新型避免靶芯接触冷却水的圆柱靶出水端的纵向剖面图。

以上附图中的标记如下：

1：防水密封套管；2：进水管；3：密封水管；4：磁靴；5：磁铁组；6：靶芯下座；7：出水口；8：靶芯上座；9：进水口；10：密封套环。

具体实施方式

为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型提供一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其中圆柱靶包括靶材和靶芯，通过在靶芯的外部设有防水密封套管将靶芯与冷却水纵向进行分隔，在靶芯的顶部和/或底部设有密封套环将靶芯与冷却水于横向顶部及底部进行分隔，在靶芯的进水口和/或出水口处设有密封水管连接进水管与防水密封套管的外部空间，将冷却水从进水管导流到防水密封套管外，使冷却水充盈在防水密封套管和靶材之间，最终从回水口排除，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。本实用新型的圆柱靶冷却结构设计，改变传统圆柱靶冷却结构，确保靶芯不会被腐蚀，靶材表面的磁性不会发生变化，提高靶材表面的冷却均匀性，保持靶材镀膜状态一致，提高产品品质，有利于提高镀膜设备的稳定性。

请参阅图1至图3，本实用新型中靶芯包括：靶芯下座6、靶芯上座8、进水管2、磁靴4及磁铁组5，靶芯上座8与靶芯下座6相对设置，进水管2、磁靴4及磁铁组5均设于靶芯上座8与靶芯下座6之间，进水管2固定在磁靴4的上方，磁铁组5固定在磁靴4的下方四周，具体地，本实施例为圆柱靶，所以靶芯上座8和靶芯下座6将进水管2、磁靴4及磁铁组5固定好后，整体为圆柱型结构。进水管2靠近靶芯上座8这一端设有进水口9，进水管2靠近靶芯下座6这一端的侧壁上设有出水口7。其中防水密封套管1套在进水管2、磁靴4及磁铁组5的外部，用于将靶芯与冷却水纵向进行分隔，通过在靶芯外部进水管2处固接一个保护靶芯及靶芯内部磁铁组及磁靴的防水密封套管1，取代之前的靶芯与冷却水直接接触内部的结构，由此，既保证了冷却效果，又解决了靶芯内部的磁铁及磁靴表面磁性变化的问题。靶芯下座6和靶芯上座8的四周均设有密封套环10，用于将靶芯与冷却水于横向顶部及底部进行分隔。出水口7穿过防水密封套管1设置，密封水管3设置在出水口7处，连接进水管2与防水密封套管1的外部空间，将冷却水从进水管2导流到防水密封套管1外，使冷却水充盈在防水密封套管1和靶材之间，最终从回水口排出，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。具体地，本实施例中，防水密封套管1、密封套环10及密封水管3均通过密封连接的方式固定在靶芯的相应位置，这里的密封连接的方式可以是焊接、密封胶密封中的至少一种方式，当然也可以是其他密封连接方式。本实施例中，防水密封套管1、密封套环10及密封水管3均为金属非导磁性材料(如不导磁不锈钢、铝等)，防水密封套管1和密封套环10可以使用金属非导磁性材料的薄板折弯后采用焊接封装等固接方式进行，尤其采用激光焊接更佳，长期使用时靶芯表面的磁性变化很小甚至没有，由此，既保证了冷却效果，又解决了靶芯磁性变化的问题，有利于提高镀膜设备的稳定性。本实施例为圆柱靶，因此，防水密封套管1的形状与靶芯的形状一致，为圆形，密封套环10的形状与靶材形状相同一致，也为圆环形。

具体地，本实施例中，为了便于安装同时又能保证密封防水性能，防水密封套管1的直径比靶芯的直径大4-6mm，防水密封套管1的厚度为1-2mm，密封套环10的直径比靶芯大1-2mm，密封套环10的厚度为1-2mm。同时根据出水口7的尺寸，密封水管3的直径为1-4mm。

使用时，让冷却水从进水管2顶部的进水口9注入，到达进水管2底部后通过出水口7处的密封水管3充盈在靶材和防水密封套管1中间，最后经回水口流出。在靶芯的顶部用密封套环10连接靶芯上座和防水密封套管1，防止冷却水从顶端灌入；通过防水密封套管1对靶芯形成保护，避免靶芯直接接触冷却水，减少靶芯被腐蚀的情况发生，进而保证靶面磁场的均匀性，提高镀膜的稳定性，提高镀膜品质及设备的稳定性。

本实用新型还提供一种镀膜设备，包括如上所述的圆柱靶。

综上所述，本实用新型靶芯外部设置防水密封套管，将靶芯与冷却水纵向进行分隔；在靶芯的顶部和底部设置密封套环，将靶芯与冷却水于横向顶部及底部进行分隔；进水管的出水口处设置密封水管，能连接进水管与防水密封套管的外部空间。冷却水从进水管导流到防水密封套管外，使冷却水充盈在防水密封套管和靶材之间，最终从回水口排除，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。本结构能确保靶芯不会被腐蚀，靶材表面的磁性不会发生变化，提高靶材表面的冷却均匀性，保持靶材镀膜状态一致，提高产品品质，有利于提高镀膜设备的稳定性。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，所述圆柱靶包括靶材和靶芯，其特征在于，所述靶芯的外部设有防水密封套管，所述防水密封套管能够将所述靶芯沿径向包裹住，所述靶芯的顶部和/或底部设有密封套环，所述密封套环能够将所述靶芯的顶部和/或底部沿横向包裹住，所述靶芯的进水口和/或出水口处设有密封水管。

2.根据权利要求1所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管、密封套环及密封水管均通过密封连接的方式与所述靶芯进行连接固定。

3.根据权利要求2所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述密封连接的方式包括焊接和/或密封胶密封。

4.根据权利要求3所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管、密封套环及密封水管均为金属非导磁性材料。

5.根据权利要求4所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管的形状与所述靶芯的形状一致，所述密封套环的形状与所述靶材的形状一致。

6.根据权利要求5所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管的形状为圆形，所述密封套环的形状为圆环形。

7.根据权利要求6所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管的直径比所述靶芯的直径大4-6mm，所述防水密封套管的厚度为1-2mm；

所述密封套环的直径比所述靶芯大1-2mm，所述密封套环的厚度为1-2mm；

所述密封水管的直径为1-4mm。

8.根据权利要求1至7任一项所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述靶芯包括：靶芯下座、靶芯上座、进水管、磁靴及磁铁组，所述靶芯上座与所述靶芯下座相对设置，所述进水管、磁靴及磁铁组均设于所述靶芯上座与所述靶芯下座之间，所述进水管固定在所述磁靴的上方，所述磁铁组固定在所述磁靴的下方四周，所述进水管靠近所述靶芯上座这一端设有进水口，所述进水管靠近所述靶芯下座这一端的侧壁上设有出水口。

9.根据权利要求8所述的避免靶芯接触冷却水的圆柱靶，其特征在于，所述防水密封套管将所述进水管、磁靴及磁铁组沿径向包裹住，所述出水口穿过所述防水密封套管设置，所述密封水管设于所述出水口处，所述密封套环的数量为两个，两所述密封套环分别设于所述靶芯下座和所述靶芯上座的外侧。

10.一种镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的圆柱靶。

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