CN205934013U - 一种真空磁控溅设备的扇形磁铁座及磁靴 - Google Patents
一种真空磁控溅设备的扇形磁铁座及磁靴 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型涉及一种真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，安装在可旋转圆筒形靶材内，其中，所述扇形磁铁座是具有扇形横截面的长条基板，其外壁设有相互平行的沿轴向延伸的三个矩形槽，所述扇形磁铁座与所述圆筒形靶材同心。本实用新型还涉及一种真空磁控溅射设备的磁靴，包括扇形磁铁座和安装于该扇形磁铁座的磁铁，所述磁铁分别是以N极向外、S极向外、N极向外的次序分别布置在所述三个矩形槽中。本实用新型可以确保磁铁与靶材的距离相等，从而保证镀膜均匀并提高靶材利用率。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备领域，具有地说，涉及一种真空磁控溅设备的扇形磁铁座。
背景技术
真空磁控溅射设备就是在一相对稳定真空状态下，通过阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上的靶材，将其原子等粒子溅出，此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜，从而完成真空溅镀作业。在触控屏生产中，需要在玻璃上通过真空磁控溅射作业来形成一层ITO膜。
图1示出了一种真空磁控溅射设备简要模型，电子在交互电场与磁场E×B作用下将气体电离后撞击ITO靶材表面，使靶材原子或分子等溅射出来并在管面经过吸附、凝结、表面扩散迁移、碰撞结合形成稳定晶核，然后再通过吸附使晶核长大成小岛，岛长大后互相联结聚结，最后形成连续状薄膜。其中产生磁场的部件是磁靴，磁靴一般包括磁铁和磁铁座。现有的磁铁座是平面的，这对于圆柱形旋转靶来说，因为磁铁与靶材的距离不相等，所以磁场分布不均匀，进一步导致镀膜不均匀和靶材的利用率低。
实用新型内容
本实用新型旨在提供一种真空磁控溅设备的扇形磁铁座，以解决现有采用平面磁铁座的真空磁控溅射设备因磁铁与圆筒形靶材的距离不相等而引起磁场分布不均匀，进一步导致镀膜不均匀和靶材的利用率低的问题。为此，本实用新型采用的具体方案如下：
一种真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，安装在可旋转圆筒形靶材内，其中，所述扇形磁铁座是具有扇形横截面的长条基板，其外壁设有相互平行的沿轴向延伸的三个矩形槽，所述扇形磁铁座与所述圆筒形靶材同心。
进一步地，所述三个矩形槽的相邻两个之间的间隔部分被铣掉形成两个凹槽，以降低扇形磁铁座的重量。
进一步地，所述矩形槽的深度和宽度均小于所述凹槽的深度和宽度。
进一步地，所述矩形槽的深度和宽度分别是13 mm和10.5 mm，而所述凹槽的深度和宽度分别是15 mm和14 mm。
一种真空磁控溅射设备的磁靴，包括磁铁座和安装于磁铁座的磁铁，所述磁铁座是如上所述的扇形磁铁座，所述磁铁分别是以N极向外、S极向外、N极向外的次序分别布置在所述三个矩形槽中。
本实用新型采用上述技术方案，具有的有益效果是：本实用新型安装在真空磁控溅射设备的圆筒形旋转靶材内，可以确保磁铁与靶材的距离相等，从而保证镀膜均匀并提高靶材利用率。
附图说明
图1 示出了真空磁控溅射设备简要模型示意图；
图2示出了根据本实用新型的实施例的扇形磁铁座的立体图；
图3示出了图2所示的扇形磁铁座的横截面示意图；
图4示出了根据本实用新型的实施例的磁靴安装在圆筒形靶材内的示意图。
具体实施方式
为进一步说明各实施例，本实用新型提供有附图。这些附图为本实用新型揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理。配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本实用新型的优点。图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。参照图2和3，扇形磁铁座1是具有扇形横截面的长条基板，其外壁设有相互平行的沿轴向延伸的三个矩形槽10。扇形磁铁座1由不锈钢制成。在本实施例中，扇形磁铁座1的长度是1550mm。因此，为了降低扇形磁铁座1的重量，三个矩形槽10中的相邻两个之间的间隔部分被铣掉，由此形成与三个矩形槽10平行的两个凹槽20。优选地，矩形槽10的深度和宽度小于凹槽20的深度和宽度。在本实施例中，矩形槽10的深度和宽度分别是13 mm和10.5 mm，而凹槽20的深度和宽度分别是15mm和14 mm。
参照图4，磁靴包括扇形磁铁座1和磁铁2，磁铁2以N极向外、S极向外、N极向外的次序分别布置在三个矩形槽10。扇形磁铁座1与圆筒形靶材3同心，即磁铁2与靶材3之间的径向距离d相等。因此，磁铁座和圆筒形靶材之间的磁场分布均匀，从而保证镀膜均匀并提高靶材利用率。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内，在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化，均为本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，安装在圆筒形旋转靶材内，其特征在于：所述扇形磁铁座是具有扇形横截面的长条基板，其外壁设有相互平行的沿轴向延伸的三个矩形槽，所述扇形磁铁座与所述圆筒形靶材同心。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，其特征在于：所述三个矩形槽的相邻两个之间的间隔部分被铣掉形成两个凹槽，以降低所述扇形磁铁座的重量。
3.根据权利要求2所述的真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，其特征在于：所述矩形槽的深度和宽度分别小于所述凹槽的深度和宽度。
4.根据权利要求3所述的真空磁控溅射设备的扇形磁铁座，其特征在于：所述矩形槽的深度和宽度分别是13 mm和10.5 mm，而所述凹槽的深度和宽度分别是15 mm和14 mm。
5.一种真空磁控溅射设备的磁靴，包括磁铁座和安装于磁铁座的磁铁，其特征在于：所述磁铁座是上述权利要求1-4任一所述的扇形磁铁座，所述磁铁分别是以N极向外、S极向外、N极向外的次序分别布置在所述三个矩形槽中。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107400869A (zh) * | 2017-08-14 | 2017-11-28 | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 | 一种提高磁控溅射镀膜过程中平面靶利用率的方法 |
| CN115110051A (zh) * | 2022-07-12 | 2022-09-27 | 江西贵得科技有限公司 | 一种镀膜旋转靶靶芯结构 |
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Legal Events
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