CN115074676A - 一种渐变色膜的镀膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种渐变色膜的镀膜工艺，包括以下步骤:步骤一：选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；步骤二：设计搭桥式挡板组：根据预定的渐变效果，调整搭桥式挡板组与电子枪的间距，并对搭桥式挡板组上的遮挡件的位置和形状进行调整；步骤三：光学渐变镀膜：以光学蒸发镀膜机作为镀膜设备，以光洁平整的玻璃为被镀基底，将搭桥式挡板组设置在电子枪蒸发源上方,进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成多种过渡渐变色，本发明通过设置的搭桥式挡板组，在电子枪蒸发源上方进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成两种及多种过渡渐变色；通过调整调色挡板形状、尺寸和遮挡位置形成多种渐变效果。

Description

一种渐变色膜的镀膜工艺
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域，具体涉及一种渐变色膜的镀膜工艺。
背景技术
传统手机行业多采用纯色作为手机配色，千篇一律不是黑色就是白色，显得淡薄而寡味，如果制作工艺稍有不足，更是显得廉价。相比于传统的纯色，渐变色是多彩而绚丽的，使得手机有着十足个性，能够一眼区分；同时，现阶段手机的开孔需求越来越多，而手机额头一旦需要应用多个黑色开孔时，纯色手机颜值会受到很大的影响，尤其是纯白色的手机。此外，现在手机全面屏的设计也是越来越多，但是无边框设计的技术还是不够成熟，大多数手机智能虽然将边框收缩的很小，但是大多数也是选用黑色，所以，纯白色的后盖就更违和了。因此，在多方面的影响下渐变色成了当下最流行的手机配色方法。
如专利申请号CN2019110568625公开了一种手机后盖颜色渐变色镀膜方法，包括：S1、选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；S2、设计调色的挡板：根据预定渐变效果，设计调色挡板形状、尺寸；通过电子束提供蒸发能量，使蒸发材料以分子态溢出由蒸发点向玻璃表面进行沉积，在镀膜过程中，由于遮挡区域沉积蒸发态的量少于未遮挡区域，两者对应的产品区域就会形成不同的膜层厚度，从而使镀膜颜色从一个颜色缓慢过渡到另一个颜色，同时，调色挡板距离电子枪蒸发源越远，即调色挡板与玻璃基底越近，屏蔽效果越明显，渐变色差也越强烈，因此，也可通过整调色挡板形状和位置形成多种渐变效果。
但是该专利在使用过程中，挡板的位置固定设置不能有效进行调整，要实现不同颜色的镀膜需要对靶向进行调整，调整十分不便。
发明内容
本发明的目的在于提供一种渐变色膜的镀膜工艺，主要通过设置的搭桥式挡板组，在电子枪蒸发源上方进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成两种及多种过渡渐变色；通过调整调色挡板形状、尺寸和遮挡位置形成多种渐变效果。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种渐变色膜的镀膜工艺，包括以下步骤:
步骤一：选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；
步骤二：设计搭桥式挡板组：根据预定的渐变效果，调整搭桥式挡板组与电子枪的间距，并对搭桥式挡板组上的遮挡件的位置和形状进行调整；
步骤三：光学渐变镀膜：以光学蒸发镀膜机作为镀膜设备，以光洁平整的玻璃为被镀基底，将搭桥式挡板组设置在电子枪蒸发源上方,进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成多种过渡渐变色。
作为本发明进一步的方案：所述电子枪蒸发源加热工艺参数：电子枪功率为10-350kW,加热时间为10-50min。
作为本发明进一步的方案：所述镀膜靶材包括具有光学颜色的金属、金属氧化物、金属盐、非金属、非金属氧化物中的任意一种。
作为本发明进一步的方案：搭桥式挡板组包括多个搭桥式挡板和用于搭桥式挡板固定的V型定位架；
每个所述搭桥式挡板上设置有多个遮挡件。
作为本发明进一步的方案：所述搭桥式挡板包括弧形块，所述弧形块的内凹面上开设有T型滑槽；
所述遮挡件与弧形块相抵的一侧设置有与T型滑槽相适配的T型块，遮挡件通过T型块滑动连接在弧形块的T型滑槽内。
作为本发明进一步的方案：所述弧形块顶面两端开设有通孔，所述通孔内设置有螺柱，所述螺柱的两端贯穿通孔设置，所述螺柱上且位于弧形块的两端螺纹连接有定位螺母。
所述螺柱的顶端固定设置在V型定位架上。
作为本发明进一步的方案：所述弧形块位于螺柱最高位时，遮挡件与被镀基底的间距15cm；
所述弧形块位于螺柱最低位时，遮挡件与被镀基底的间距35cm。
作为本发明进一步的方案：所述遮挡件的形状为三角形挡板。
作为本发明进一步的方案：所述遮挡件的形状还能够为圆角矩形、半圆形、梯形中的任意一种。
作为本发明进一步的方案：所述搭桥式挡板组与被镀基底平行设置。
本发明的有益效果：
(1)本发明相对于传统渐变色镀膜工艺，方法简单，易于控制，只需调整遮挡件的形状、尺寸和遮挡位置，控制电子枪加热功率、加热时间即可形成预定渐变效果的镀膜；
(2)本发明通过电子束提供蒸发能量，使蒸发材料以分子态溢出由蒸发点向板材表面进行沉积，在镀膜过程中，由于遮挡区域沉积蒸发量少于未遮挡区域，两者对应的产品区域就会形成不同的膜层厚度，从而使镀膜颜色从一个颜色缓慢过渡到另一个颜色，
因此，通过调搭桥式挡板在螺柱上的位置、搭桥式挡板上遮挡件的数量及相邻搭桥式挡板的高度差，从而实现多种渐变效果，使镀膜过程中实现单次镀膜即完成多种颜色差的组合，实用性强。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1是本发明工艺流程图的结构示意图；
图2是本发明搭桥式挡板组的结构示意图；
图3是本发明弧形块的结构示意图；
图4是本发明螺柱的结构示意图。
图中：1、弧形块；2、三角形挡板；3、T型滑槽；4、通孔；5、螺柱；6、螺母；100、搭桥式挡板；200、V型定位架。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
请参阅图1-图4所示，本发明为一种渐变色膜的镀膜工艺，包括以下步骤:
步骤一：选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；
步骤二：设计搭桥式挡板组：根据预定的渐变效果，调整搭桥式挡板组与电子枪的间距，并对搭桥式挡板组上的遮挡件的位置和形状进行调整；
其中，搭桥式挡板组包括多个搭桥式挡板100和用于搭桥式挡板100固定的V型定位架200；每个所述搭桥式挡板100上设置有多个遮挡件；
步骤三：光学渐变镀膜：以光学蒸发镀膜机作为镀膜设备，以光洁平整的玻璃为被镀基底，将搭桥式挡板组设置在电子枪蒸发源上方,进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成多种过渡渐变色。
本实施例中，镀膜靶材包括具有光学颜色的金属、金属氧化物、金属盐、非金属、非金属氧化物中的任意一种。
本实施例中，电子枪蒸发源加热工艺参数：电子枪功率为10kW,加热时间为10min。
本实施例中，搭桥式挡板100包括弧形块1，所述弧形块1的内凹面上开设有T型滑槽3，遮挡件与弧形块1相抵的一侧设置有与T型滑槽3相适配的T型块，遮挡件通过T型块滑动连接在弧形块1的T型滑槽3内；
所述弧形块1顶面两端开设有通孔4，所述通孔4内设置有螺柱5，所述螺柱5的两端贯穿通孔4设置，所述螺柱5上且位于弧形块1的两端螺纹连接有定位螺母6，所述螺柱5的顶端固定设置在V型定位架200上。
本实施例中，遮挡件的形状为三角形挡板2；
具体的，将多个搭桥式挡板100设置成同一高度，将三角形挡板2与被镀基底之间设置相距25cm，具体的调整过程为将搭桥式挡板100沿两端的通孔4在螺柱5上滑动，当搭桥式挡板100位置移动到所需区域时，通过拧紧搭桥式挡板100两侧的螺母6，实现对搭桥式挡板100位置的固定，并完成对三角形挡板2高度的调整。
在镀膜过程中，由于遮挡区域沉积的量少于未遮挡区域，两者对应的产品区域就会形成不同的膜层厚度，从而形成由浅绿色向蓝色的过渡渐变色，将多个搭桥式挡板100设置成同一高度时，使不同区域的渐变色变化相同，形成一种有规律的多区域的渐变色。
本实施例中，遮挡件的形状为三角形挡板2搭桥式挡板组与被镀基底平行设置。
实施例2
请参阅图1-图4所示，本发明为一种渐变色膜的镀膜工艺，包括以下步骤:
步骤一：选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；
步骤二：设计搭桥式挡板组：根据预定的渐变效果，调整搭桥式挡板组与电子枪的间距，并对搭桥式挡板组上的遮挡件的位置和形状进行调整；
其中，搭桥式挡板组包括多个搭桥式挡板100和用于搭桥式挡板100固定的V型定位架200；每个所述搭桥式挡板100上设置有多个遮挡件；
步骤三：光学渐变镀膜：以光学蒸发镀膜机作为镀膜设备，以光洁平整的玻璃为被镀基底，将搭桥式挡板组设置在电子枪蒸发源上方,进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成多种过渡渐变色。
本实施例中，镀膜靶材包括具有光学颜色的金属、金属氧化物、金属盐、非金属、非金属氧化物中的任意一种。
本实施例中，电子枪蒸发源加热工艺参数：电子枪功率为10kW,加热时间为10min。
本实施例中，搭桥式挡板100包括弧形块1，所述弧形块1的内凹面上开设有T型滑槽3，遮挡件与弧形块1相抵的一侧设置有与T型滑槽3相适配的T型块，遮挡件通过T型块滑动连接在弧形块1的T型滑槽3内；
所述弧形块1顶面两端开设有通孔4，所述通孔4内设置有螺柱5，所述螺柱5的两端贯穿通孔4设置，所述螺柱5上且位于弧形块1的两端螺纹连接有定位螺母6，所述螺柱5的顶端固定设置在V型定位架200上。
本实施例中，遮挡件的形状为三角形挡板2；
具体的，将多个搭桥式挡板100设置成不同高度，保证搭桥式挡板100上的三角形挡板2与被镀基底之间的间距保持在15-35cm范围内即可，具体的调整过程为将搭桥式挡板100沿两端的通孔4在螺柱5上滑动，当搭桥式挡板100位置移动到所需区域时，通过拧紧搭桥式挡板100两侧的螺母6，实现对搭桥式挡板100位置的固定，并完成对三角形挡板2高度的调整。
在镀膜过程中，由于遮挡区域沉积的量少于未遮挡区域，两者对应的产品区域就会形成不同的膜层厚度，本实施例中每个搭桥式挡板100与被镀基底之间的间距均不相同，即每个搭桥式挡板100所对应的产品区域的膜层厚度也不相同，使不同区域的渐变色变化不同，从而形成一种无规律的多区域的渐变色。
本实施例中，遮挡件的形状为三角形挡板2搭桥式挡板组与被镀基底平行设置。
实施例3
本实施例的实施方式与实施例2基本一致，区别在于，多个搭桥式挡板100上的三角形挡板2的数量不同，且每个搭桥式挡板100上相邻的三角形挡板2的间距不同，从而通过三角形挡板2的位置和数量形成多种渐变效果。
以上对本发明的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。

Claims (10)

1.一种渐变色膜的镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤:
步骤一：选择镀膜材料：根据不同材料所呈现的光学颜色，选择所需镀膜靶材；
步骤二：设计搭桥式挡板组：根据预定的渐变效果，调整搭桥式挡板组与电子枪的间距，并对搭桥式挡板组上的遮挡件的位置和形状进行调整；
步骤三：光学渐变镀膜：以光学蒸发镀膜机作为镀膜设备，以光洁平整的玻璃为被镀基底，将搭桥式挡板组设置在电子枪蒸发源上方,进行局部遮挡，使沉积材料在玻璃表面形成多种过渡渐变色。
2.根据权利要求1所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，步骤二中，所述电子枪蒸发源加热工艺参数：电子枪功率为10-350kW,加热时间为10-50min。
3.根据权利要求1所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，步骤一中，所述镀膜靶材包括具有光学颜色的金属、金属氧化物、金属盐、非金属、非金属氧化物中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，步骤二中，搭桥式挡板组包括多个搭桥式挡板(100)和用于搭桥式挡板(100)固定的V型定位架(200)；
每个所述搭桥式挡板(100)上设置有多个遮挡件。
5.根据权利要求4所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述搭桥式挡板(100)包括弧形块(1)，所述弧形块(1)的内凹面上开设有T型滑槽(3)；
所述遮挡件与弧形块(1)相抵的一侧设置有与T型滑槽(3)相适配的T型块，遮挡件通过T型块滑动连接在弧形块(1)的T型滑槽(3)内。
6.根据权利要求5所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述弧形块(1)顶面两端开设有通孔(4)，所述通孔(4)内设置有螺柱(5)，所述螺柱(5)的两端贯穿通孔(4)设置，所述螺柱(5)上且位于弧形块(1)的两端螺纹连接有定位螺母(6)；
所述螺柱(5)的顶端固定设置在V型定位架(200)上。
7.根据权利要求6所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述弧形块(1)位于螺柱(5)最高位时，遮挡件与被镀基底的间距15cm；
所述弧形块(1)位于螺柱(5)最低位时，遮挡件与被镀基底的间距35cm。
8.根据权利要求4所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述遮挡件的形状为三角形挡板(2)。
9.根据权利要求4所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述遮挡件的形状还能够为圆角矩形、半圆形、梯形中的任意一种。
10.根据权利要求1所述的一种渐变色膜的镀膜工艺,其特征在于，所述搭桥式挡板组与被镀基底平行设置。
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