CN209722282U - 一种镀膜补正装置和用于对曲面基板镀膜的镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种镀膜补正装置和用于对曲面基板镀膜的镀膜机，镀膜补正装置包括由第一端到第二端的方向上依次排布设置的多个遮挡区，且相邻两个所述遮挡区具有不同的遮挡面积。这样，当该镀膜补正装置设置于镀膜机上时，由于各遮挡区的遮挡面积不同，对靶材气体的遮挡效果也不同，能够实现对与不同遮挡区相对应的区域的靶材气体的浓度的调节。通过控制不同遮挡区与待镀膜曲面基板的位置关系，能够实现通过该镀膜补正装置对待镀膜曲面基板上镀膜的厚度的调节，使镀膜厚度更加均匀，实现降低待镀膜曲面基板镀膜后的色差。

Description

一种镀膜补正装置和用于对曲面基板镀膜的镀膜机

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜补正装置和用于对曲面基板镀膜的镀膜机。

背景技术

钢化玻璃瓦可以在曲面钢化玻璃基材上镀有不同的膜系来形成不同的颜色。现有的曲面钢化玻璃基材通常包括多个波峰和波谷，在镀膜过程中，由于波峰和波谷之间存在的高度差，所以各波峰和波谷距离镀膜的蒸发源之间的距离有所不同，容易导致镀膜不均匀，从而使得波峰和波谷处的色差较大。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种镀膜补正装置和用于对曲面基板镀膜的镀膜机，以解决镀膜不均匀导致曲面钢化玻璃基材的波峰和波谷处的色差较大的问题。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种镀膜补正装置，包括第一端和与所述第一端相对的第二端，沿着从所述第一端到所述第二端的方向依次排布设置有多个遮挡区，相邻两个所述遮挡区具有不同的遮挡面积。

可选的，所述第一端为所述镀膜补正装置的安装端，所述第二端为所述镀膜补正装置的自由端。

可选的，所述多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区的遮挡面积大于相邻的所述第二遮挡区的遮挡面积。

可选的，每个所述第一遮挡区具有沿所述安装端到所述自由端的方向逐渐变窄的形状，每个所述第二遮挡区具有沿所述安装端到所述自由端的方向逐渐变窄的形状。

可选的，所述第一遮挡区中靠近所述自由端的第一遮挡区比相对远离所述自由端的第一遮挡区的遮挡面积小，所述第二遮挡区中靠近所述自由端的第二遮挡区比相对远离所述自由端的第二遮挡区的遮挡面积小。

可选的，在所述第一遮挡区和所述第二遮挡区之间还设置有第三遮挡区，所述第三遮挡区的遮挡面积介于相邻的第一遮挡区和第二遮挡区的遮挡面积之间。

可选的，所述镀膜补正装置为板状体，在所述板状体上设置有多个用于形成所述多个遮挡区的缺失部。

可选的，所述缺失部为从所述板状体的沿所述第一端向所述第二端方向延伸的边缘向内凹进的缺口。

可选的，所述缺失部为沿所述板状体的厚度方向穿透所述板状体设置的通孔。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种用于对曲面基板镀膜的镀膜机，包括镀膜腔和位于所述镀膜腔内的靶材和夹具，所述镀膜机还包括以上任一项所述的镀膜补正装置，所述镀膜补正装置固定在所述镀膜腔的内壁上且位于所述靶材和所述夹具之间。

可选的，待镀膜曲面基板为具有相对于所述靶材的至少一个凸起部和至少一个凹陷部的波浪形基板，所述多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区和第二遮挡区，在所述夹具夹持有所述波浪形基板时，所述第一遮挡区和所述第二遮挡区的位置分别对应于所述凸起部和所述凹陷部。

可选的，所述镀膜补正装置安装成使得在所述夹具夹持有待镀膜曲面基板时，所述镀膜补正装置与所述待镀膜曲面基板平行。

本申请的镀膜补正装置包括由第一端到第二端的方向上依次排布设置的多个遮挡区，且相邻两个所述遮挡区具有不同的遮挡面积。这样，当该镀膜补正装置设置于镀膜机上时，由于各遮挡区的遮挡面积不同，对靶材气体的遮挡效果也不同，能够实现对与不同遮挡区相对应的区域的靶材气体的浓度的调节。通过控制不同遮挡区与待镀膜曲面基板的位置关系，能够实现通过该镀膜补正装置对待镀膜曲面基板上镀膜的厚度的调节，使镀膜厚度更加均匀，实现降低待镀膜曲面基板镀膜后的色差。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的镀膜机的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种补正板的结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的另一种补正板的结构示意图；

图4是图2或图3中补正板的又一视角视图；

图5是补正板与待镀膜曲面基板的位置关系图；

图6是图5的又一视角视图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本申请提供了一种镀膜补正装置100。

如图2和图3所示，在一个实施例中，该镀膜补正装置100包括第一端和与第一端相对的第二端，沿着从第一端到第二端的方向依次排布设置有多个遮挡区，相邻两个遮挡区具有不同的遮挡面积。

如图1所示，该镀膜补正装置100设置于镀膜机300中，并用于调节镀膜机300在基板上镀膜的镀膜厚度。

镀膜机300的工作原理可以理解为将靶材303通过加热或利用高能电子束轰击等方式汽化形成靶材气体，靶材气体在电磁场的作用下向待镀膜曲面基板200的方向流动，并在待镀膜曲面基板200上沉积形成镀膜。

如图1所示，使用过程中，靶材气体的扩散形状大致呈以靶材303为顶点的圆锥形，即图1中虚线部分所示，在与靶材303距离相等的位置，靶材气体的浓度的大致相等的。应当理解的是，各与靶材303位置相等的位置构成一个以靶材303为球心的部分球面；但为了便于理解，在忽略可能存在的一定误差的情况下，也可以近似理解为在垂直于该圆锥形的轴线的各平面内，靶材气体的浓度是基本相等的。

本实施例中的镀膜补正装置100通过遮挡靶材气体实现对镀膜厚度的调节，通过设置具有不同面积的遮挡区，在靶材气体流动时，由于各遮挡区的存在，能够遮挡住一部分靶材气体，这些靶材气体在镀膜补正装置100上沉积，这样，到达待镀膜曲面基板200处的靶材气体的浓度降低，相应的，镀膜厚度也会降低，从而实现对待镀膜曲面基板200上的镀膜厚度的控制。

这样，当该镀膜补正装置100设置于镀膜机300上时，由于各遮挡区的遮挡面积不同，对靶材气体的遮挡效果也不同，能够实现对与不同遮挡区相对应的区域的靶材气体的浓度的调节。通过控制不同遮挡区与待镀膜曲面基板200的位置关系，能够实现通过该镀膜补正装置100对待镀膜曲面基板200上镀膜的厚度的调节，使镀膜厚度更加均匀，实现降低待镀膜曲面基板200镀膜后的色差。

进一步的，如图4所示，第一端为镀膜补正装置100的安装端105，第二端为镀膜补正装置100的自由端。

实施时，该镀膜补正装置100通过安装端105安装于镀膜机300上，该安装端105具体可以是插接结构，也可以开设有螺孔或定位孔，并通过螺栓等紧固件固定，只要能实现固定该镀膜补正装置100即可，此处不作进一步限定和描述。

多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区101和第二遮挡区102，第一遮挡区101的遮挡面积大于相邻的第二遮挡区102的遮挡面积。

如图1、图5和图6所示，在一个具体实施方式中，所使用的待镀膜曲面基板200具有多个向靶材303凸起部202和凹陷部201，其中，凸起部202指的是向靠近靶材303方向凸起的部分，而凹陷部201指的是向远离靶材303方向凹陷的部分。

各凸起部202与凹陷部201与靶材303之间的距离是不同的，凸起部202与靶材303之间的距离更近，而凹陷部201与靶材303之间的距离更远，会导致凹陷部201的靶材气体浓度小于凸起部202的靶材气体浓度，也就使凹陷部201的镀膜厚度小于凸起部202的镀膜厚度。

实施时，可以使第一遮挡区101与各凸起部202相对应，各第二遮挡区102与各凹陷部201相对应，由于第一遮挡区101的遮挡面积大于相邻的第二遮挡区102的遮挡面积，所以能够遮挡更多的靶材气体，这样，能够使得各凸起部202处的靶材气体浓度降低，实现缩小待镀膜曲面基板200上各凸起部202和凹陷部201的镀膜厚度差。

进一步的，第一遮挡区101中靠近自由端的第一遮挡区101比相对远离自由端的第一遮挡区101的遮挡面积小，第二遮挡区102中靠近自由端的第二遮挡区102比相对远离自由端的第二遮挡区102的遮挡面积小。

在一个具体实施方式中，待镀膜曲面基板200相对于靶材气体扩散的圆锥形轴线是倾斜的，所以各凸起部202与靶材303之间的距离也有所不同，各凹陷部201与靶材303之间的距离也有所不同。因此，本实施例中，第一遮挡区101和第二遮挡区102的遮挡面积也并是变化的，以能够调解使得各凸起部202的靶材气体浓度基本相等，各凹陷部201的靶材气体浓度基本相等。

进一步的，每个第一遮挡区101具有沿安装端105到自由端的方向逐渐变窄的形状，每个第二遮挡区102具有沿安装端105到自由端的方向逐渐变窄的形状。

当待镀膜曲面基板200倾斜设置时，对于每一凸起部202或凹陷部201来说，其各个位置与靶材303之间的距离也是有所变化的，因此，本实施中，每一第一遮挡区101和第二遮挡区102的形状也是沿安装端105到自由端的方向逐渐变窄的，能够使得每一第一遮挡区101或第二遮挡区102内的靶材气体浓度基本相等，有助于进一步提高镀膜厚度的均匀性。

进一步的，在第一遮挡区101和第二遮挡区102之间还设置有第三遮挡区，第三遮挡区的遮挡面积介于相邻的第一遮挡区101和第二遮挡区102的遮挡面积之间。

在凸起部202与凹陷部201的过渡区，待镀膜曲面基板200与靶材303之间的距离也介于相邻的凸起部202和凹陷部201之间，因此，本实施例中进一步设置了第三遮挡区，且其面积介于相邻的第一遮挡区101和第二遮挡区102的遮挡面积之间，能够进一步提高镀膜厚度的均匀性，降低整体的镀膜厚度差。

在一个实施例中，镀膜补正装置100为板状体，在板状体上设置有多个用于形成多个遮挡区的缺失部。

实施时，缺失部可以为缺口104也可以为通孔103，具体的，如图2所示，在一个具体实施方式中，缺失部为从板状体的沿安装端105向自由端方向延伸的边缘向内凹进的缺口104。如图3所示，在另一个具体实施方式中，缺失部为沿板状体的厚度方向穿透板状体设置的通孔103。均能实现提供不同的遮挡面积。

本实用新型实施例还提供了一种用于对曲面基板镀膜的镀膜机300。

该镀膜机300包括镀膜腔304和位于镀膜腔304内的靶材303和夹具301，镀膜机300还包括以上任一项的镀膜补正装置100，镀膜补正装置100固定在镀膜腔304的内壁上且位于靶材303和夹具301之间。

由于本实施例的技术方案包括了上述实施例的技术方案，因此至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

可选的，待镀膜曲面基板200为具有相对于靶材303的至少一个凸起部202和至少一个凹陷部201的波浪形基板，多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区101和第二遮挡区102，在夹具301夹持有波浪形基板时，第一遮挡区101和第二遮挡区102的位置分别对应于凸起部202和凹陷部201。

凸起部202与靶材303之间的距离更近，而凹陷部201与靶材303之间的距离更远，会导致凹陷部201的靶材气体浓度小于凸起部202的靶材气体浓度。实施时，各第一遮挡区101与各凸起部202相对应，各第二遮挡区102与各凹陷部201相对应，由于第一遮挡区101的遮挡面积大于相邻的第二遮挡区102的遮挡面积，所以能够遮挡更多的靶材气体，这样，能够使得各凸起部202处的靶材气体浓度降低，实现缩小待镀膜曲面基板200上各凸起部202和凹陷部201的镀膜厚度差。

进一步的，如图1和图6所示，镀膜补正装置100安装成使得在夹具301夹持有待镀膜曲面基板200时，镀膜补正装置100与待镀膜曲面基板200平行。这样，更便于调解使待镀膜基板的各凸起部202分别与第一遮挡区101相对应，使各凹陷部201分别与第二遮挡区102相对应。

以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种镀膜补正装置，其特征在于，包括第一端和与所述第一端相对的第二端，沿着从所述第一端到所述第二端的方向依次排布设置有多个遮挡区，相邻两个所述遮挡区具有不同的遮挡面积。

2.根据权利要求1所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述第一端为所述镀膜补正装置的安装端，所述第二端为所述镀膜补正装置的自由端。

3.根据权利要求2所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区的遮挡面积大于相邻的所述第二遮挡区的遮挡面积。

4.根据权利要求3所述的镀膜补正装置，其特征在于，每个所述第一遮挡区具有沿所述安装端到所述自由端的方向逐渐变窄的形状，每个所述第二遮挡区具有沿所述安装端到所述自由端的方向逐渐变窄的形状。

5.根据权利要求3所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述第一遮挡区中靠近所述自由端的第一遮挡区比相对远离所述自由端的第一遮挡区的遮挡面积小，所述第二遮挡区中靠近所述自由端的第二遮挡区比相对远离所述自由端的第二遮挡区的遮挡面积小。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的镀膜补正装置，其特征在于，在所述第一遮挡区和所述第二遮挡区之间还设置有第三遮挡区，所述第三遮挡区的遮挡面积介于相邻的第一遮挡区和第二遮挡区的遮挡面积之间。

7.根据权利要求1所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述镀膜补正装置为板状体，在所述板状体上设置有多个用于形成所述多个遮挡区的缺失部。

8.根据权利要求7所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述缺失部为从所述板状体的沿所述第一端向所述第二端方向延伸的边缘向内凹进的缺口。

9.根据权利要求7所述的镀膜补正装置，其特征在于，所述缺失部为沿所述板状体的厚度方向穿透所述板状体设置的通孔。

10.一种用于对曲面基板镀膜的镀膜机，包括镀膜腔和位于所述镀膜腔内的靶材和夹具，其特征在于，所述镀膜机还包括权利要求1-9中任一项所述的镀膜补正装置，所述镀膜补正装置固定在所述镀膜腔的内壁上且位于所述靶材和所述夹具之间。

11.根据权利要求10所述的用于对曲面基板镀膜的镀膜机，其特征在于，待镀膜曲面基板为具有相对于所述靶材的至少一个凸起部和至少一个凹陷部的波浪形基板，所述多个遮挡区包括交替设置的第一遮挡区和第二遮挡区，在所述夹具夹持有所述波浪形基板时，所述第一遮挡区和所述第二遮挡区的位置分别对应于所述凸起部和所述凹陷部。

12.根据权利要求10所述的用于对曲面基板镀膜的镀膜机，其特征在于，所述镀膜补正装置安装成使得在所述夹具夹持有待镀膜曲面基板时，所述镀膜补正装置与所述待镀膜曲面基板平行。