CN114979320A - 后壳的制作方法、后壳及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种后壳的制作方法、后壳及电子设备,该后壳通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
Description
技术领域
本申请涉及通信设备技术领域,特别涉及一种后壳的制作方法、后壳及电子设备。
背景技术
目前,手机、电脑等电子设备已经和我们的生活密不可分,生活中随处可见,且极大地提高了人们的生活水平。以手机为例,手机一般包括显示屏、中框、电路板以及后壳,其中,电路板可以设置在中框上,且显示屏和后壳分别位于中框的两侧。
现有技术中,手机的后壳一般采用普通的玻璃或陶瓷材料进行机械加工制成,其中,若需将手机后壳设计为曲面结构,再采用热弯工艺将后壳加工为曲面后壳,然后采用平面抛光工艺或曲面抛光工艺在玻璃或陶瓷材料的表面进行进一步加工,使其表面呈现出光滑和高亮的效果。
然而,采用上述方案时,后壳的表面质感单一,导致视觉效果较差。
发明内容
本申请实施例提供了一种后壳的制作方法、后壳及电子设备,实现了后壳的渐变效果和多样化外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
本申请实施例第一方面提供一种后壳的制作方法,该后壳的制作方法包括:提供基材层;在所述基材层上形成渐变层。
本申请实施例提供的后壳的制作方法,通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在一种可能的实现方式中,所述在所述基材层上形成渐变层,包括:在所述基材层的第一表面上设置第一保护层;使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,以形成所述渐变层。通过设计不用的预设渐变图案能够实现后壳的多样化的外观需求。
在一种可能的实现方式中,所述使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,包括:采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。
在一种可能的实现方式中,所述采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案包括:将具有预设渐变图案的光罩挡设在所述第一保护层的上方;采用UV光源透过所述光罩对所述第一保护层进行照射,使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。
在一种可能的实现方式中,所述光罩上的所述预设渐变图案采用点阵排列的方式形成,所述预设渐变图案被配置为透光区域;且所述光罩沿着所述预设渐变图案的渐变方向,透光率逐渐增大或逐渐减小。通过将光罩上预设渐变图案的设计采用点阵排列的方案进行,可以根据实际需求对点阵的密集度和颗粒度大小按不同的方向进行渐变排布设计,以实现光罩透光区域的图形渐变。
在一种可能的实现方式中,所述第一保护层为感光油墨或光阻。感光油墨和光阻对紫外线敏感,能够通过紫外线固化,采用UV光源透过具有预设渐变图案的光罩对第一保护层进行照射时,感光油墨或光阻能够易于实现在基材层上呈现预设渐变图案。
在一种可能的实现方式中,所述光阻为负型光阻。在光学曝光方式下,负型光阻上层接受能量较下层光阻低,使得负型光阻成像大部分图形为上宽下窄,这样经一次曝光方式即可得到图形,曝光显影效果较优。
在一种可能的实现方式中,所述第一保护层为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻。通过将第一保护层设置为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻,能够避免后续对渐变层进行磨砂处理时对渐变层造成不良影响。第一保护层具有抗酸性能或抗喷射性能能够避免采用化学蒙砂工艺对渐变层进行磨砂处理时,对渐变层产生酸化腐蚀的问题,避免采用物理喷砂工艺对渐变层进行磨砂处理时,对渐变层产生喷射冲蚀的问题。
在一种可能的实现方式中,所述在所述基材层上形成渐变层之后,还包括:对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态。
通过对渐变层进行磨砂处理,以使渐变层呈磨砂态,能够在实现后壳表面效果的多样化需求的同时,提升后壳表面抗刮伤性能以及防指纹性能。
在一种可能的实现方式中,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态包括:采用化学蒙砂工艺或物理喷砂工艺对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态。
在一种可能的实现方式中,所述在所述基材层的第一表面上设置第一保护层之前,还包括:在所述基材层的第二表面上设置第二保护层;采用曝光显影工艺使所述第二保护层全部覆盖在所述基材层的第二表面上;其中,所述第二表面为与所述第一表面相背的一面。
通过在与第一表面相背的第二表面上设置第二保护层,并采用曝光显影工艺使第二保护层全部覆盖在基材层的第二表面上,相比于现有技术中人工处理表面残留油墨的方式,实现了生产效率的提高以及使用成本的降低。
在一种可能的实现方式中,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态之后,还包括:将所述基材层的第二表面上的所述第二保护层去除。
在一种可能的实现方式中,所述第二保护层为感光油墨或光阻。通过将第二保护层设置为感光油墨或光阻,采用曝光显影工艺使第二保护层全部覆盖在基材层的第二表面上,相比于现有技术中人工处理表面残留油墨的方式,能够在一定程度上实现生产效率的提高以及使用成本的降低。
在一种可能的实现方式中,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态之后,还包括:对所述渐变层进行抛光处理。
通过对渐变层进行抛光处理,能够实现雾度和光泽度效果。且通过调整不同的化学抛光工艺或不同的工艺参数,能够使得后壳达到不同的雾度以及光泽度效果,进一步实现多样化的外观效果需求,进而解决现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在一种可能的实现方式中,所述对所述渐变层进行抛光处理之前或之后,还包括:对所述渐变层进行强化处理。
通过对渐变层进行强化处理,能够使得后壳具有一定的韧性,避免后壳表面较脆时抗摔打性能较差的问题。
在一种可能的实现方式中,所述UV光源为UV平行光源。平行光源的光线方向不会改变,没有衰减,有利于实现曝光显影的均匀度。
本申请实施例第二方面提供一种后壳,该后壳采用上述任一所述的后壳的制作方法所制成。
本申请实施例提供的后壳,采用上述任一所述的后壳的制作方法所制成,通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。且通过设计不用的预设渐变图案能够实现后壳的多样化的外观需求。
在一种可能的实现方式中,所述后壳包括:基材层以及渐变层;所述渐变层设置在所述基材层上。
通过后壳包括基材层以及设置在所述基材层上的渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在一种可能的实现方式中,所述渐变层呈磨砂态。通过渐变层呈磨砂态,能够在实现后壳表面效果的多样化需求的同时,提升后壳表面抗刮伤性能以及防指纹性能。
本申请实施例第三方面提供一种电子设备,该电子设备至少包括:显示屏、电路板、中框以及上述所述的后壳;所述电路板位于所述中框上,所述显示屏和所述后壳分别位于所述中框的两侧。
本申请实施例提供的电子设备,该电子设备至少包括后壳,该后壳在制作时通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,且通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
结合附图,根据下文描述的实施例,示例性实施例的这些和其它方面、实施形式和优点将变得显而易见。但应了解,说明书和附图仅用于说明并且不作为对本申请实施例的限制的定义,详见随附的权利要求书。本申请实施例的其它方面和优点将在以下描述中阐述,而且部分将从描述中显而易见,或通过本申请实施例的实践得知。此外,本申请实施例的各方面和优点可以通过所附权利要求书中特别指出的手段和组合得以实现和获得。
附图说明
图1为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图2为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图3为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图4为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图5为本申请一实施例提供的后壳的制作方法中后壳的截面示意图;
图6A为本申请一实施例提供的后壳的制作方法中光罩的模型示意图;
图6B为本申请一实施例提供的后壳的制作方法中光罩的结构示意图;
图7为本申请一实施例提供的后壳的制作方法中曝光显影工艺的工作原理示意图;
图8为本申请一实施例提供的后壳的截面示意图;
图9为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图10为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图11为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图12为本申请一实施例提供的后壳的制作方法的流程示意图;
图13为本申请一实施例提供的后壳的结构示意图;
图14A为本申请一实施例提供的后壳的实物图;
图14B为本申请一实施例提供的后壳的实物图;
图14C为本申请一实施例提供的后壳的实物图;
图15为本申请一实施例提供的电子设备的整体结构示意图;
图16为本申请一实施例提供的电子设备的拆分结构示意图。
附图标记说明:
200-手机;21-显示屏;211-开孔;22-中框;221-金属中板;222-边框;23-电路板;24-电池;100-后壳;11-第一表面;12-第二表面;10-基材层;20-第一保护层;201-渐变层;301-UV光源;401-光罩。
具体实施方式
本申请的实施方式部分使用的术语仅用于对本申请的具体实施例进行解释,而非旨在限定本申请,下面将结合附图对本申请实施例的实施方式进行详细描述。
手机、电脑等电子设备日渐成为现代人生活的必需品之一,在现代生活、工作联络等各种状况下作用愈来愈重要,而手机的美观度,例如手机后壳的美观性直接影响着消费者的购买欲望,为了实现手机的外观美观性,手机产品的外观主体材质已经全面走向玻璃或陶瓷材质,即手机的外表面全部使用玻璃材质或陶瓷材质制成,而由于玻璃材质或陶瓷材质的新工艺处理方式对外观效果的影响非常大,进而对产品的竞争力和差异化至关重要,所以,每个终端厂商都在寻求工艺的突破。
目前电子设备的后壳在加工时,一般是将玻璃及陶瓷类型材料机械加工为后壳产品形状后,在后壳产品的外观面直接采用精密抛光工艺进行处理,使其表面呈现出光滑高亮效果,然而这样生产出来的产品表面效果单一,视觉效果较差,容易造成产品的外观没有新的突破,即后壳产品应用到手机等电子设备上时,电子设备的外观质量没有得到提升,从而造成电子设备的外观缺乏竞争力。
基于此,本申请实施例提供一种后壳的制作方法、后壳及电子设备,通过在基材层上形成渐变层,能够使得后壳实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,视觉效果较差,容易造成产品的外观没有新的突破的问题。本申请实施例提供的后壳应用到电子设备上时,电子设备的外观质量能够得到提升,从而能够提升电子设备的外观竞争力。
下面结合附图,以不同的实施例为例,对该后壳的制作方法、后壳的具体结构以及电子设备的具体结构进行介绍。
实施例一
参照图1所示,本申请实施例提供一种后壳的制作方法,该后壳的制作方法可以包括:
S101:提供基材层10。
其中,基材层10所采用的材料可以为陶瓷材料或玻璃材料等,且基材层10可以是对陶瓷材料或玻璃材料进行机械加工后的成型产品。
S102:在基材层10上形成渐变层201。
具体地,如图2所示,S102可以包括:
S1021:在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20(参见图5所示)。
在本申请实施例中,第一保护层20可以为感光油墨或光阻。感光油墨和光阻对紫外线敏感,且能够通过紫外线固化实现精密曝光,采用UV光源301透过具有预设渐变图案的光罩401对第一保护层20进行照射时,感光油墨或光阻能够易于实现在基材层10上呈现清晰且轮廓分明的预设渐变图案。
需要说明的是,感光油墨又称黄光油墨,其是指对紫外线敏感,并且能通过紫外线固化的一种油墨。感光油墨的油墨涂层感光固化、显影后,可进行蚀刻、电镀、电泳填色等处理后应用于个性化及高精度图形产品的制作。
光阻又称为光阻剂,主要由树脂(resin),感光剂(sensitizer),溶剂(solvent)三种成分混合而成,光阻是应用在工业制程上的光敏材料,其类似光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。光阻通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)。
其中,作为一种可选的实施方式,光阻可以为负型光阻。
需要说明的是,光阻可分为正型光阻(positive photoresist)和负型光阻(negative photoresist),正型光阻照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。负型光阻照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。
对于正型光阻,在光学曝光方式下,正型光阻剂上层接受能量较下层正型光阻高,使得正型光阻成像大部分图形为上窄下宽,无法经一次曝光方式即得到图形,而负型光阻的成像恰好与正型光阻图像相反,在光学曝光方式下,负型光阻剂上层接受能量较下层光阻低,使得负型光阻成像大部分图形为上宽下窄,这样经一次曝光方式即可得到图形,所以负型光阻的效果会更优于正型光阻。
S1022:使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案,以形成渐变层201。
具体地,如图3所示,S1022可以包括:
S10221:采用曝光显影工艺使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案,以形成渐变层201。
其中,如图4所示,S10221可以包括:
S10221A:将具有预设渐变图案的光罩401挡设在第一保护层20的上方。
在本申请实施例中,光罩401上的预设渐变图案可以采用点阵排列的方式形成,预设渐变图案被配置为透光区域,且光罩401沿着预设渐变图案的渐变方向,其透光率逐渐增大或逐渐减小。通过将光罩401上预设渐变图案的设计采用点阵排列的方案进行,可以根据实际需求对点阵的密集度和颗粒度大小按不同的方向进行渐变排布设计,以实现光罩401透光区域的图形渐变。
例如,如图6A和图6B所示的光罩401,其从左至右的点阵的密集度逐渐减小,有利于实现光罩401透光区域从左至右的渐变效果。容易理解的是,图6A中,点阵的密集度从左至右逐渐减小,颗粒度大小从左至右也逐渐减小,以此形成图6B中光罩401的图案区,其颜色越浅代表点阵排列密度越小,则曝光过程中光通量越大。
S10221B:采用紫外线(Ultraviolet,UV)光源301透过光罩401对第一保护层20进行照射,使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案。
具体地,曝光显影前后的后壳100的结构示意图分别如图5和图8所示。参照图7所示,UV光源301透过图6B中的光罩401对位于基材层10上的第一保护层20进行照射,以使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案。通过此设计,显影后,后壳100上会形成从大到小,从密到稀的渐变图案,即例如形成如图8所示的渐变层201。其中,UV光源301可以为UV平行光源。平行光源的光线方向不会改变,没有衰减,有利于实现曝光显影的均匀度。
通过在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20,并使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案,以在基材层10上形成渐变层201,能够使得后壳100实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
另外,在一些实施例中,在S10221之后,该后壳的制作方法还可以包括:将未曝光区域的第一保护层20去除,将曝光区域的第一保护层20保留。这样即可实现将曝光后的后壳100表面的渐变图形呈现出来。其中,未曝光区域为UV光源301未照射到的区域,曝光区域为UV光源301照射到的区域。
在本申请实施例中,如图9所示,在S102之后,该后壳的制作方法还可以包括:
S103:对渐变层201进行磨砂处理,以使渐变层201呈磨砂态。
通过对渐变层201进行磨砂处理,以使渐变层201呈磨砂态,即哑光(AG)效果,该渐变的磨砂效果能够在实现后壳100表面CMF效果的多样化需求的同时,提升后壳100表面抗刮伤性能以及防指纹性能。
其中,后壳100表面抗划伤性能较佳,相对于现有技术,本申请实施例能够不易于被硬物刮擦导致表面伤痕,能够解决现有技术中因表面伤痕导致产品外观效果降低,甚至因为表面伤痕导致产品的机械性能下降等问题。本申请实施例的后壳100表面防指纹性能较佳,相较于现有技术中后壳表面光滑高亮,当人手或皮肤直接抚摸或接触后壳100表面时,本申请实施例能够有效防止指纹或油脂印的产生,从而避免产品表面外观脏污印记明显,降低产品感官效果的问题。
需要说明的是,CMF是工业设计(ID)的细分概念,其中,C代表颜色,M代表材料,F代表工艺,即本申请实施例能够实现色彩、材料、工艺、图案纹理等元素的多元化结合,进行产品创新,实现多样化的外观效果。
在本申请实施例中,如图10所示,S103可以包括:
S1031:采用化学蒙砂工艺或物理喷砂工艺对渐变层201进行磨砂处理,以使渐变层201呈磨砂态。
采用化学蒙砂工艺或物理喷砂工艺对渐变层201进行磨砂处理,可以使渐变层201呈现雾面效果,而且采用不同的工艺可以实现不同粗糙度的效果,即可使渐变层201呈不同效果的磨砂态。
其中,第一保护层20可以为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻。这样能够避免后续对渐变层201进行磨砂处理时对渐变层201造成不良影响。
第一保护层20具有抗酸性能或抗喷射性能能够避免采用化学蒙砂工艺对渐变层201进行磨砂处理时,对渐变层201产生酸化腐蚀的问题,避免采用物理喷砂工艺对渐变层201进行磨砂处理时,对渐变层201产生喷射冲蚀的问题。具有优异的抗酸性或抗电蚀性,固化膜对铝箔有优异的附着力,对盐酸等强酸有极强的抗蚀性。
另外,需要说明的是,化学蒙砂可以是一种化学蚀刻工艺,即可以通过对表面进行部分蚀刻以达到磨砂的效果。
在本申请实施例中,参见图11所示,在S1021之前,该后壳的制作方法还可以包括:
S201:在基材层10的第二表面12上设置第二保护层。
在本申请实施例中,第二保护层可以为感光油墨或光阻。其中,光阻可以为正型光阻也可以为负型光阻,本申请实施例对此并不加以限定。
S202:采用曝光显影工艺使第二保护层全部覆盖在基材层10的第二表面12上。其中,第二表面12为与第一表面11相背的一面。
将第二保护层全部覆盖在基材层10的第二表面12上,能够避免后续工艺(例如磨砂处理或对位于基材层10的第一表面11上的第一保护层20进行曝光显影等)对基材层10的第二表面12产生不良影响。
在本申请实施例中,参见图12所示,在S103之后,该后壳的制作方法还可以包括:
S104:将基材层10的第二表面12上的第二保护层去除。
在与第一表面11相背的第二表面12上设置第二保护层,并采用曝光显影工艺使第二保护层全部覆盖在基材层10的第二表面12上,对第二保护层进行去除时,工艺简单便捷,相比于现有技术中人工处理表面残留油墨的方式,实现了生产效率的提高、工艺良率的提高、工艺稳定性的提高以及使用成本的降低。
另外,在本申请实施例中,对渐变层201进行磨砂处理,以使渐变层201呈磨砂态之后,还可以对渐变层201进行抛光处理。通过对渐变层201进行抛光处理,能够实现雾度和光泽度效果。且通过调整不同的化学抛光工艺或不同的工艺参数,能够使得后壳100达到不同的雾度以及光泽度效果,进一步实现多样化的外观效果需求,进而解决现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
而且,对渐变层201进行抛光处理之前或之后,本申请实施例提供的后壳的制作方法还可以对渐变层201进行强化处理。通过对渐变层201进行强化处理,能够使得后壳100具有一定的韧性,避免后壳100表面较脆时抗摔打性能较差的问题。
基于上述描述,本申请实施例中,后壳的制作方法的工艺流程具体如下:
CNC外形或结构加工——平面抛光——喷涂或印刷第二保护层——曝光显影——喷涂或印刷第一保护层——曝光显影——化学蒙砂或物理喷砂——去除第二保护层——化学抛光--化学强化——丝印、镀膜、喷涂或膜片贴合等。
需要说明的是,CNC外形加工指的是采用数控铣床技术对后壳的基本形状进行加工或固定,其精密度较高。平面抛光指的是对加工成型后的基材层10进行平整度处理,以保证后续在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20或在第二表面12上设置第二保护层时的工艺可靠性和可操作性。
可以理解的是,通过丝印、喷涂、镀膜、或膜片贴合等处理方式可以对玻璃材质的外观进行进一步改善。
上述工艺流程针对于平面结构的外壳100,而对于,曲面结构的外壳100,其对应的工艺流程如下:
CNC外形或结构加工——3D热弯成型——3D曲面抛光——喷涂或印刷第二保护层——曝光显影——喷涂或印刷第一保护层——曝光显影——化学蒙砂或物理喷砂——去除第二保护层——化学抛光——化学强化——丝印、镀膜、喷涂或3D膜片贴合等。
需要说明的是,3D热弯成型是指把复合板加热至规定弯曲温度下再使该复合板弯曲重新成型的过程。3D曲面抛光指的是对3D热弯成型后的基材层10进行平整度处理,以保证后续在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20或在第二表面12上设置第二保护层时的工艺可靠性和可操作性。
这样,即可形成如图13所示的后壳效果。另外,使用其它设计图案的光罩401还可以形成不同的后壳效果,例如,可以是后壳100从上至下雾度逐渐变大,透过率逐渐变小,且中间区域至左右两侧区域雾度逐渐降低,透过率逐渐变大。而且,上述后壳100配合不同颜色效果的装饰膜片贴合后可呈现出不同的纹理及光影效果(参见图14A、图14B和图14C所示)。
实施例二
参照图8和图13所示,本申请实施例提供一种后壳100,该后壳100可以采用上述实施例一中的后壳的制作方法所制成。
在本申请实施例中,如图8所示,后壳100可以包括:基材层10以及第一保护层20,其中,第一保护层20位于基材层10的第一表面11上,且第一保护层20为设置在基材层10的第一表面11上的具有预设渐变图案的渐变层201。
这样,能够使得后壳100实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在本申请实施例中,渐变层201可以呈磨砂态。渐变层201呈磨砂态,能够使得后壳100在实现表面效果的多样化需求的同时,提升后壳100表面抗刮伤性能以及防指纹性能。
在一种可能的实现方式中,后壳100从上至下雾度逐渐变大,透过率逐渐变小,且中间区域至左右两侧区域雾度逐渐降低,透过率逐渐变大,这样既实现了多样化的外观效果,同时也有效提高了外表面的抗划伤和抗指纹性能。
另外,上述后壳100配合不同颜色效果的装饰膜片贴合后还能够呈现出不同的纹理及光影效果(参见图14A、图14B和图14C所示)。示例性地,如图14A所示,后壳100可以采用极光炫彩纹理,其从上至下呈现逐渐增强的光影效果。如图14B所示,后壳100可以采用菲尼尔纹理,其摄像头周围的光影效果最强,且以摄像头位置处为圆心,从摄像头位置处至四周呈现逐渐减弱的涟漪状光影效果。如图14B所示,后壳100无光影效果,其呈金字塔型的纹理效果。
本申请实施例提供的后壳100,采用上述实施例一中的后壳的制作方法所制成,通过在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20,并使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案,以在基材层10上形成渐变层201,能够使得后壳100实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在本申请实施例二中,其他技术特征与实施例一相同,并能取得相同或相应的技术效果,此处不再一一赘述。
实施例三
在上述实施例一和实施例二的基础上,本申请实施例提供一种电子设备,该电子设备可以包括但不限于为手机、平板电脑、笔记本电脑、超级移动个人计算机(ultra-mobile personal computer,UMPC)、手持计算机、对讲机、上网本、销售点(Point ofsales,POS)机、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、可穿戴设备、虚拟现实设备、无线U盘、蓝牙音响/耳机、或车载前装、行车记录仪、安防设备等具有上述实施例二中的后壳100的移动或固定终端。
其中,以手机200为该电子设备为例进行说明,本申请实施例提供的手机200可以为曲面屏手机也可以为平面屏手机,本申请实施例中以平面屏手机为例进行说明。图15和图16分别示出了手机200的整体结构和拆分结构,本申请实施例提供的手机200的显示屏21可以为水滴屏、刘海屏、全面屏或者挖孔屏。参见图15所示,显示屏21上开设有开孔211,下述描述以挖孔屏为例进行说明。
参见图16所示,手机200至少可以包括:显示屏21、中框22、电路板23和上述实施例二中的后壳100,其中,电路板23可以设置在中框22上,例如,电路板23可以设置在中框22朝向后壳100的一面上(如图16所示),或者电路板23可以设置在中框22朝向显示屏21的一面上,显示屏21和后壳100分别位于中框22的两侧。在一些其它的示例中,手机200该后壳的制作方法还可以包括电池24,电池24可以设在中框22朝向后壳100的一面上(如图16所示),或者电池24可以设置在中框22朝向显示屏21的一面上,例如中框22朝向后壳100的一面可以具有电池仓(图中未示出),电池24安装在电池仓中。
其中,电池24可以通过电源管理模块与充电管理模块和电路板23相连,电源管理模块接收电池24和/或充电管理模块的输入,并为处理器、内部存储器、外部存储器、显示屏21、摄像模组以及通信模块等供电。电源管理模块还可以用于监测电池24容量,电池24循环次数,电池24健康状态(漏电,阻抗)等参数。在其他一些实施例中,电源管理模块也可以设置于电路板23的处理器中。在另一些实施例中,电源管理模块和充电管理模块也可以设置于同一个器件中。
当手机200为平面屏手机时,显示屏21可以为有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示屏,也可以为液晶显示屏(Liquid Crystal Display,LCD),当手机200为曲面屏手机时,显示屏21可以为OLED显示屏。
继续参照图16,中框22可以包括金属中板221和边框222,边框222围绕金属中板221的外周设置一周。一般地,边框222可以包括顶边框、底边框、左侧边框和右侧边框,顶边框、底边框、左侧边框和右侧边框围成方环结构的边框222。其中,金属中板221的材料包括但不限于为铝板、铝合金、不锈钢、钢铝复合压铸板、钛合金或镁合金等。边框222可以为金属边框,也可以为陶瓷边框,还可以为玻璃边框。当边框222为金属边框时,金属边框的材料包括但不限于为铝合金、不锈钢、钢铝复合压铸板或钛合金等。其中,金属中板221和边框222之间可以卡接、焊接、粘合或一体成型,或者金属中板221与边框222之间可以通过注塑固定相连。
后壳100可以为金属后盖,也可以为玻璃后盖,还可以为塑料后盖,或者,还可以为陶瓷后盖,本申请实施例中,对后壳100的材质并不加以限定,也不限于上述示例。
需要说明的是,在一些示例中,手机200的后壳100可以与边框222相连形成一体成型(Unibody)后盖,例如手机200可以包括:显示屏21、金属中板221和电池盖,电池盖可以为边框222和后壳100一体成型(Unibody)形成的后盖,这样电路板23和电池24位于金属中板221和电池盖围成的空间中。
本申请实施例提供的电子设备,该电子设备至少可以包括后壳100,该后壳100在制作时通过在基材层10的第一表面11上设置第一保护层20,并使第一保护层20在基材层10上呈现预设渐变图案,以在基材层10上形成渐变层201,能够使得后壳100实现渐变效果,通过设计不用的预设渐变图案能够实现多样化的外观需求,解决了现有技术中外观质感单一,导致视觉效果较差的问题。
在本申请实施例中,其他技术特征与实施例一或实施例二相同,并能取得相同或相应的技术效果,此处不再一一赘述。
可以理解的是,本申请实施例示意的结构并不构成对手机200的具体限定。在本申请另一些实施例中,手机200可以包括比图示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者拆分某些部件,或者不同的部件布置。图示的部件可以以硬件,软件或软件和硬件的组合实现。
在本申请实施例的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“相连”应作广义理解,例如,可以是固定相连,也可以是通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。
在本申请实施例或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请实施例的限制。在本申请实施例的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非是另有精确具体地规定。
本申请实施例的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请实施例的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本申请实施例的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本申请实施例进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例各实施例技术方案的范围。
Claims (20)
1.一种后壳的制作方法,其特征在于,包括:
提供基材层;
在所述基材层上形成渐变层。
2.根据权利要求1所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述在所述基材层上形成渐变层,包括:
在所述基材层的第一表面上设置第一保护层;
使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,以形成所述渐变层。
3.根据权利要求2所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,包括:
采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。
4.根据权利要求3所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述采用曝光显影工艺使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案,包括:
将具有预设渐变图案的光罩挡设在所述第一保护层的上方;
采用UV光源透过所述光罩对所述第一保护层进行照射,使所述第一保护层在所述基材层上呈现预设渐变图案。
5.根据权利要求4所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述光罩上的所述预设渐变图案采用点阵排列的方式形成,所述预设渐变图案被配置为透光区域;
且所述光罩沿着所述预设渐变图案的渐变方向,透光率逐渐增大或逐渐减小。
6.根据权利要求2-5任一所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述第一保护层为感光油墨或光阻。
7.根据权利要求6所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述光阻为负型光阻。
8.根据权利要求6或7所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述第一保护层为具有抗酸性能或抗喷射性能的感光油墨或光阻。
9.根据权利要求2-8任一所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述在所述基材层上形成渐变层之后,还包括:
对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态。
10.根据权利要求9所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态包括:
采用化学蒙砂工艺或物理喷砂工艺对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态。
11.根据权利要求9或10所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述在所述基材层的第一表面上设置第一保护层之前,还包括:
在所述基材层的第二表面上设置第二保护层;
采用曝光显影工艺使所述第二保护层全部覆盖在所述基材层的第二表面上;
其中,所述第二表面为与所述第一表面相背的一面。
12.根据权利要求11所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态之后,还包括:
将所述基材层的第二表面上的所述第二保护层去除。
13.根据权利要求11或12所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述第二保护层为感光油墨或光阻。
14.根据权利要求9或10所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述对所述渐变层进行磨砂处理,以使所述渐变层呈磨砂态之后,还包括:
对所述渐变层进行抛光处理。
15.根据权利要求14所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述对所述渐变层进行抛光处理之前或之后,还包括:
对所述渐变层进行强化处理。
16.根据权利要求4或5所述的后壳的制作方法,其特征在于,所述UV光源为UV平行光源。
17.一种后壳,其特征在于,采用上述权利要求1-16任一所述的后壳的制作方法所制成。
18.根据权利要求17所述的后壳,其特征在于,所述后壳包括:基材层以及渐变层;所述渐变层设置在所述基材层上。
19.根据权利要求18所述的后壳,其特征在于,所述渐变层呈磨砂态。
20.一种电子设备,其特征在于,至少包括:显示屏、电路板、中框以及上述权利要求17-19任一所述的后壳;
所述电路板位于所述中框上,所述显示屏和所述后壳分别位于所述中框的两侧。
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