CN114953129B - 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统 - Google Patents

一种陶瓷循环淋釉和防尘系统 Download PDF

Info

Publication number
CN114953129B
CN114953129B CN202210348988.5A CN202210348988A CN114953129B CN 114953129 B CN114953129 B CN 114953129B CN 202210348988 A CN202210348988 A CN 202210348988A CN 114953129 B CN114953129 B CN 114953129B
Authority
CN
China
Prior art keywords
disc
glaze
fixedly connected
conveying pipe
slurry
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210348988.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114953129A (zh
Inventor
江想健
陈宣尧
何家仪
陈达华
吴谋胜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Guanxing Ceramics Enterprise Co ltd
Original Assignee
Guangdong Guanxing Ceramics Enterprise Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Guanxing Ceramics Enterprise Co ltd filed Critical Guangdong Guanxing Ceramics Enterprise Co ltd
Priority to CN202210348988.5A priority Critical patent/CN114953129B/zh
Publication of CN114953129A publication Critical patent/CN114953129A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114953129B publication Critical patent/CN114953129B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/044—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B28B11/047—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by pooring, e.g. curtain coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B17/00—Details of, or accessories for, apparatus for shaping the material; Auxiliary measures taken in connection with such shaping
    • B28B17/04—Exhausting or laying dust
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

本发明属于陶瓷生产技术领域，具体的说是一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，包括分流圆盘；所述分流圆盘顶部设有输浆管；所述分流圆盘底部安装有电机；所述分流圆盘与输浆管底端之间留有缝隙；所述输浆管底部为喇叭状设置；所述分流圆盘顶部中心位置处固接有缓冲槽；所述缓冲槽开口为朝上设置；通过将输浆管设置为喇叭状，可在分流圆盘顶部有釉浆浇灌流动时，减少从管道处流到分流圆盘顶部的釉浆飞溅，保证从分流圆盘流到陶瓷上的釉浆均匀度。

Description

一种陶瓷循环淋釉和防尘系统
技术领域
本发明属于陶瓷生产技术领域，具体的说是一种陶瓷循环淋釉和防尘系统。
背景技术
淋釉又名浇釉，是将釉浆涂覆至陶瓷表面的一种工艺；建筑陶瓷的浇釉工艺又分为钟罩式浇釉法和鸭嘴式浇釉法。
公开号为CN102311277B的一项中国专利公开了用于生产仿天然石材纹理的陶瓷墙地砖的淋釉设备，由淋浆槽、淋浆器、摆动装置、第一下浆管、第二下浆管、第三下浆管组成；摆动装置包括链条和电动机，上述淋浆槽是不锈钢槽，下部倒三角体顶角处开有一个可调节出浆口。
现有的淋釉是现将需要浇釉的陶瓷放置在传送带上，然后再传送带顶部放置一个旋转的圆盘，然后再圆盘顶部浇上适量的釉浆，此时圆盘通过旋转将釉浆洒在传送带上的陶瓷上，在长时间的使用观察中，发现了单只通过圆盘的选装将釉浆洒在陶瓷上，会在釉浆出液有变化时，圆盘上的釉浆分布就会出现不均匀的问题，进而使得陶瓷在经过圆盘底部时，出现陶瓷表面釉浆分布不均匀问题。
为此，本发明提供一种陶瓷循环淋釉和防尘系统。
发明内容
为了弥补现有技术的不足，解决背景技术中所提出的至少一个技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，包括分流圆盘；所述分流圆盘顶部设有输浆管；所述分流圆盘底部安装有电机；所述分流圆盘与输浆管底端之间留有缝隙；所述输浆管底部为喇叭状设置；在需要对陶瓷淋釉时，将输浆管固定在分流圆盘顶部中心位置处，同时在输浆管底部与分流圆盘顶部之间留有缝隙供釉浆流出，而且将输浆管顶部接入到釉浆的输送管道上，使得釉浆可从输浆管底部流到分流圆盘顶部，通过将输浆管设置为喇叭状，可在分流圆盘顶部有釉浆浇灌流动时，减少从管道处流到分流圆盘顶部的釉浆飞溅，保证从分流圆盘流到陶瓷上的釉浆均匀度；同时釉浆可从输浆管与分流圆盘之间的缝隙处流出，此时分流圆盘顶部的釉浆就会在电机带动分流圆盘转动的状态下，向下流动，浇到传送带上的陶瓷上。
进一步，所述分流圆盘顶部中心位置处固接有缓冲槽；所述缓冲槽开口为朝上设置；通过在分流圆盘顶部设有缓冲槽，可使得从输浆管处流下的釉浆可先流到缓冲槽顶部进行收集，然后从缓冲槽顶部漫出，流到分流圆盘顶部，然后再通过分流圆盘旋转的作用下将釉浆甩到分流圆盘的边界处，然后再流至陶瓷上，通过缓冲槽的设置，可使输浆管处流到分流圆盘顶部的釉浆均匀的流下，进一步提升从分流圆盘处流下的釉浆均匀度，提升釉浆流到陶瓷上的均匀程度。
进一步，所述缓冲槽顶部通过转杆固接有扇叶；所述扇叶设在缓冲槽顶部中心位置处；通过在缓冲槽顶部设有扇叶，可在分流圆盘旋转时，扇叶跟随缓冲槽同步进行旋转，此时扇叶可带动输浆管内部的气体流动，同时可使流经输浆管的釉浆与扇叶接触，减少釉浆直接落到分流圆盘和缓冲槽顶部因冲击力较大导致的分流圆盘晃动问题，提升分流圆盘对釉浆的输送稳定性。
进一步，所述扇叶中部设有分散网；所述分散网与扇叶固接；所述分散网在扇叶上设有多个；通过在扇叶中部设有分散网，可在釉浆与扇叶接触时，部分釉浆可被分散网打散，然后落到缓冲槽和分流圆盘的顶部，提升釉浆落到分流圆盘和缓冲槽顶部的均匀度，可提升分流圆盘将釉浆洒落到陶瓷上的均匀程度。
进一步，所述扇叶端部固接有弧形刮板；所述弧形刮板侧壁与输浆管内侧壁为贴合设置；通过在扇叶侧壁设有弧形刮板，可在扇叶旋转时，弧形刮板与输浆管的内侧壁接触，然后将其内侧壁上的釉浆刮下，减少釉浆沿着输浆管内侧壁流动，导致的釉浆不均匀流动问题，使得釉浆稳定的落到分流圆盘和缓冲槽顶部。
进一步，所述扇叶顶部固接有多个第一弹性支撑杆；每个所述第一弹性支撑杆顶端均固接有第一磁球；所述输浆管侧壁固接有多个第二磁球；所述第二磁球位置与第一磁球位置对应；通过在扇叶顶部设有第一磁球；可在扇叶转动时，第一磁球与第二磁球间歇性的与第二磁球靠近和远离，此时第一磁球就可在扇叶顶部摆动，该处第一磁球的摆动可使分散网内部残留的釉浆落下，减少分散网因大量残留有釉浆导致的浪费问题。
进一步，所述第一弹性支撑杆中部固接有多个第二弹性支撑杆；所述第二弹性支撑杆端部固接有敲击球；所述第二弹性支撑杆设在第一弹性支撑杆上靠近弧形刮板的一侧；通过在第一弹性支撑杆中部设有敲击球，可在第一磁球摆动时，敲击球间歇性的敲击弧形刮板，使弧形刮板表面上的釉浆更快的流下，提升输浆管和弧形刮板对釉浆的输送速度。
进一步，两个所述第一弹性支撑杆相互靠近的一侧设有V字形支架；所述V字形支架与第一弹性支撑杆固接；两个所述V字形支架相互靠近的端部固接有撞击块；通过在第一弹性支撑杆中部设有V字形支架，可在第一磁球晃动时，撞击块持续的进行多次撞击，此时第一磁球和敲击球上粘附的釉浆就会被抖落，减少第一磁球和上的釉浆残留，可减少第一磁球和上长时间有釉浆残留导致的浪费问题。
进一步，所述缓冲槽中部固接有引导管；所述引导管顶部与缓冲槽底部内侧壁连通；通过在缓冲槽中部设有引导管，可使得流到缓冲槽上的釉浆部分从引导管处留下，使得分流圆盘顶部，输浆管底部处的釉浆可更均匀的流动，提升分流圆盘上釉浆流到陶瓷表面的均匀程度。
进一步，所述缓冲槽内部固接有填充块；所述填充块中部为凹陷设置；通过在缓冲槽顶部设有填充块，可减少缓冲槽顶部需要堆积的釉浆量，使得从输浆管处流下的釉浆可充分的流下至陶瓷表面，减少釉浆的浪费。
本发明的有益效果如下：
1.本发明所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，通过将输浆管设置为喇叭状，可在分流圆盘顶部有釉浆浇灌流动时，减少从管道处流到分流圆盘顶部的釉浆飞溅，保证从分流圆盘流到陶瓷上的釉浆均匀度。
2.本发明所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，通过在第一弹性支撑杆中部设有V字形支架，可在第一磁球晃动时，撞击块持续的进行多次撞击，此时第一磁球和敲击球上粘附的釉浆就会被抖落，减少第一磁球和上的釉浆残留，可减少第一磁球和上长时间有釉浆残留导致的浪费问题。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的立体图；
图2是本发明中的剖视图；
图3是本发明中扇叶的结构示意图；
图4是本发明中缓冲槽的结构示意图；
图中：1、分流圆盘；11、输浆管；2、缓冲槽；3、扇叶；4、分散网；5、弧形刮板；6、第一弹性支撑杆；61、第一磁球；62、第二磁球；7、第二弹性支撑杆；71、敲击球；8、V字形支架；81、撞击块；9、引导管；91、填充块。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
实施例一
如图1至图3所示，本发明实施例所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，包括分流圆盘1；所述分流圆盘1顶部设有输浆管11；所述分流圆盘1底部安装有电机；所述分流圆盘1与输浆管11底端之间留有缝隙；所述输浆管11底部为喇叭状设置；在需要对陶瓷淋釉时，将输浆管11固定在分流圆盘1顶部中心位置处，同时在输浆管11底部与分流圆盘1顶部之间留有缝隙供釉浆流出，而且将输浆管11顶部接入到釉浆的输送管道上，使得釉浆可从输浆管11底部流到分流圆盘1顶部，通过将输浆管11设置为喇叭状，可在分流圆盘1顶部有釉浆浇灌流动时，减少从管道处流到分流圆盘1顶部的釉浆飞溅，保证从分流圆盘1流到陶瓷上的釉浆均匀度；同时釉浆可从输浆管11与分流圆盘1之间的缝隙处流出，此时分流圆盘1顶部的釉浆就会在电机带动分流圆盘1转动的状态下，向下流动，浇到传送带上的陶瓷上。
所述分流圆盘1顶部中心位置处固接有缓冲槽2；所述缓冲槽2开口为朝上设置；通过在分流圆盘1顶部设有缓冲槽2，可使得从输浆管11处流下的釉浆可先流到缓冲槽2顶部进行收集，然后从缓冲槽2顶部漫出，流到分流圆盘1顶部，然后再通过分流圆盘1旋转的作用下将釉浆甩到分流圆盘1的边界处，然后再流至陶瓷上，通过缓冲槽2的设置，可使输浆管11处流到分流圆盘1顶部的釉浆均匀的流下，进一步提升从分流圆盘1处流下的釉浆均匀度，提升釉浆流到陶瓷上的均匀程度。
所述缓冲槽2顶部通过转杆固接有扇叶3；所述扇叶3设在缓冲槽2顶部中心位置处；通过在缓冲槽2顶部设有扇叶3，可在分流圆盘1旋转时，扇叶3跟随缓冲槽2同步进行旋转，此时扇叶3可带动输浆管11内部的气体流动，同时可使流经输浆管11的釉浆与扇叶3接触，减少釉浆直接落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部因冲击力较大导致的分流圆盘1晃动问题，提升分流圆盘1对釉浆的输送稳定性。
所述扇叶3中部设有分散网4；所述分散网4与扇叶3固接；所述分散网4在扇叶3上设有多个；通过在扇叶3中部设有分散网4，可在釉浆与扇叶3接触时，部分釉浆可被分散网4打散，然后落到缓冲槽2和分流圆盘1的顶部，提升釉浆落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部的均匀度，可提升分流圆盘1将釉浆洒落到陶瓷上的均匀程度。
所述扇叶3端部固接有弧形刮板5；所述弧形刮板5侧壁与输浆管11内侧壁为贴合设置；通过在扇叶3侧壁设有弧形刮板5，可在扇叶3旋转时，弧形刮板5与输浆管11的内侧壁接触，然后将其内侧壁上的釉浆刮下，减少釉浆沿着输浆管11内侧壁流动，导致的釉浆不均匀流动问题，使得釉浆稳定的落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部。
所述扇叶3顶部固接有多个第一弹性支撑杆6；每个所述第一弹性支撑杆6顶端均固接有第一磁球61；所述输浆管11侧壁固接有多个第二磁球62；所述第二磁球62位置与第一磁球61位置对应；通过在扇叶3顶部设有第一磁球61；可在扇叶3转动时，第一磁球61与第二磁球62间歇性的与第二磁球62靠近和远离，此时第一磁球61就可在扇叶3顶部摆动，该处第一磁球61的摆动可使分散网4内部残留的釉浆落下，减少分散网4因大量残留有釉浆导致的浪费问题。
所述第一弹性支撑杆6中部固接有多个第二弹性支撑杆7；所述第二弹性支撑杆7端部固接有敲击球71；所述第二弹性支撑杆7设在第一弹性支撑杆6上靠近弧形刮板5的一侧；通过在第一弹性支撑杆6中部设有敲击球71，可在第一磁球61摆动时，敲击球71间歇性的敲击弧形刮板5，使弧形刮板5表面上的釉浆更快的流下，提升输浆管11和弧形刮板5对釉浆的输送速度。
两个所述第一弹性支撑杆6相互靠近的一侧设有V字形支架8；所述V字形支架8与第一弹性支撑杆6固接；两个所述V字形支架8相互靠近的端部固接有撞击块81；通过在第一弹性支撑杆6中部设有V字形支架8，可在第一磁球61晃动时，撞击块81持续的进行多次撞击，此时第一磁球61和敲击球71上粘附的釉浆就会被抖落，减少第一磁球61和72上的釉浆残留，可减少第一磁球61和72上长时间有釉浆残留导致的浪费问题。
实施例二
如图4所示，对比实施例一，其中本发明的另一种实施方式为：所述缓冲槽2中部固接有引导管9；所述引导管9顶部与缓冲槽2底部内侧壁连通；通过在缓冲槽2中部设有引导管9，可使得流到缓冲槽2上的釉浆部分从引导管9处留下，使得分流圆盘1顶部，输浆管11底部处的釉浆可更均匀的流动，提升分流圆盘1上釉浆流到陶瓷表面的均匀程度。
所述缓冲槽2内部固接有填充块91；所述填充块91中部为凹陷设置；通过在缓冲槽2顶部设有填充块91，可减少缓冲槽2顶部需要堆积的釉浆量，使得从输浆管11处流下的釉浆可充分的流下至陶瓷表面，减少釉浆的浪费。
工作时，在需要对陶瓷淋釉的过程中，将输浆管11固定在分流圆盘1顶部中心位置处，同时在输浆管11底部与分流圆盘1顶部之间留有缝隙供釉浆流出，而且将输浆管11顶部接入到釉浆的输送管道上，使得釉浆可从输浆管11底部流到分流圆盘1顶部，通过将输浆管11设置为喇叭状，可在分流圆盘1顶部有釉浆浇灌流动时，减少从管道处流到分流圆盘1顶部的釉浆飞溅，保证从分流圆盘1流到陶瓷上的釉浆均匀度；同时釉浆可从输浆管11与分流圆盘1之间的缝隙处流出，此时分流圆盘1顶部的釉浆就会在电机带动分流圆盘1转动的状态下，向下流动，浇到传送带上的陶瓷上；通过在分流圆盘1顶部设有缓冲槽2，可使得从输浆管11处流下的釉浆可先流到缓冲槽2顶部进行收集，然后从缓冲槽2顶部漫出，流到分流圆盘1顶部，然后再通过分流圆盘1旋转的作用下将釉浆甩到分流圆盘1的边界处，然后再流至陶瓷上，通过缓冲槽2的设置，可使输浆管11处流到分流圆盘1顶部的釉浆均匀的流下，进一步提升从分流圆盘1处流下的釉浆均匀度，提升釉浆流到陶瓷上的均匀程度；通过在缓冲槽2顶部设有扇叶3，可在分流圆盘1旋转时，扇叶3跟随缓冲槽2同步进行旋转，此时扇叶3可带动输浆管11内部的气体流动，同时可使流经输浆管11的釉浆与扇叶3接触，减少釉浆直接落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部因冲击力较大导致的分流圆盘1晃动问题，提升分流圆盘1对釉浆的输送稳定性；通过在扇叶3中部设有分散网4，可在釉浆与扇叶3接触时，部分釉浆可被分散网4打散，然后落到缓冲槽2和分流圆盘1的顶部，提升釉浆落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部的均匀度，可提升分流圆盘1将釉浆洒落到陶瓷上的均匀程度；通过在扇叶3侧壁设有弧形刮板5，可在扇叶3旋转时，弧形刮板5与输浆管11的内侧壁接触，然后将其内侧壁上的釉浆刮下，减少釉浆沿着输浆管11内侧壁流动，导致的釉浆不均匀流动问题，使得釉浆稳定的落到分流圆盘1和缓冲槽2顶部；通过在扇叶3顶部设有第一磁球61；可在扇叶3转动时，第一磁球61与第二磁球62间歇性的与第二磁球62靠近和远离，此时第一磁球61就可在扇叶3顶部摆动，该处第一磁球61的摆动可使分散网4内部残留的釉浆落下，减少分散网4因大量残留有釉浆导致的浪费问题；通过在第一弹性支撑杆6中部设有敲击球71，可在第一磁球61摆动时，敲击球71间歇性的敲击弧形刮板5，使弧形刮板5表面上的釉浆更快的流下，提升输浆管11和弧形刮板5对釉浆的输送速度；通过在第一弹性支撑杆6中部设有V字形支架8，可在第一磁球61晃动时，撞击块81持续的进行多次撞击，此时第一磁球61和敲击球71上粘附的釉浆就会被抖落，减少第一磁球61和72上的釉浆残留，可减少第一磁球61和72上长时间有釉浆残留导致的浪费问题；通过在缓冲槽2中部设有引导管9，可使得流到缓冲槽2上的釉浆部分从引导管9处留下，使得分流圆盘1顶部，输浆管11底部处的釉浆可更均匀的流动，提升分流圆盘1上釉浆流到陶瓷表面的均匀程度；通过在缓冲槽2顶部设有填充块91，可减少缓冲槽2顶部需要堆积的釉浆量，使得从输浆管11处流下的釉浆可充分的流下至陶瓷表面，减少釉浆的浪费。
上述前、后、左、右、上、下均以说明书附图中的图1为基准，按照人物观察视角为标准，装置面对观察者的一面定义为前，观察者左侧定义为左，依次类推。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，其特征在于：包括分流圆盘(1)；所述分流圆盘(1)顶部设有输浆管(11)；所述分流圆盘(1)底部安装有电机；所述分流圆盘(1)与输浆管(11)底端之间留有缝隙；所述输浆管(11)底部为喇叭状设置；
所述分流圆盘(1)顶部中心位置处固接有缓冲槽(2)；所述缓冲槽(2)开口为朝上设置；
所述缓冲槽(2)顶部通过转杆固接有扇叶(3)；所述扇叶(3)设在缓冲槽(2)顶部中心位置处；
所述扇叶(3)中部设有分散网(4)；所述分散网(4) 与扇叶(3)固接；所述分散网(4)在扇叶(3)上设有多个；
所述扇叶(3)端部固接有弧形刮板(5)；所述弧形刮板(5)侧壁与输浆管(11)内侧壁为贴合设置；
所述扇叶(3)顶部固接有多个第一弹性支撑杆(6)；每个所述第一弹性支撑杆(6)顶端均固接有第一磁球(61)；所述输浆管(11)侧壁固接有多个第二磁球(62)；所述第二磁球(62)位置与第一磁球(61)位置对应；
所述第一弹性支撑杆(6)中部固接有多个第二弹性支撑杆(7)；所述第二弹性支撑杆(7)端部固接有敲击球(71)；所述第二弹性支撑杆(7)设在第一弹性支撑杆(6)上靠近弧形刮板(5)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，其特征在于：两个所述第一弹性支撑杆(6)相互靠近的一侧设有V字形支架(8)；所述V字形支架(8)与第一弹性支撑杆(6)固接；两个所述V字形支架(8)相互靠近的端部固接有撞击块(81)。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，其特征在于：所述缓冲槽(2)中部固接有引导管(9)；所述引导管(9)顶部与缓冲槽(2)底部内侧壁连通。
4.根据权利要求3所述的一种陶瓷循环淋釉和防尘系统，其特征在于：所述缓冲槽(2)内部固接有填充块(91)；所述填充块(91)中部为凹陷设置。
CN202210348988.5A 2022-04-01 2022-04-01 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统 Active CN114953129B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210348988.5A CN114953129B (zh) 2022-04-01 2022-04-01 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210348988.5A CN114953129B (zh) 2022-04-01 2022-04-01 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114953129A CN114953129A (zh) 2022-08-30
CN114953129B true CN114953129B (zh) 2023-03-24

Family

ID=82977944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210348988.5A Active CN114953129B (zh) 2022-04-01 2022-04-01 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114953129B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109676768B (zh) * 2019-02-28 2023-09-12 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种布料系统

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4023290C1 (zh) * 1990-07-21 1991-09-05 Hans Lingl Anlagenbau Und Verfahrenstechnik Gmbh & Co Kg, 7910 Neu-Ulm, De
CN2153550Y (zh) * 1993-03-26 1994-01-19 山东博山彩釉砖厂 圆盘甩釉机
JPH0930876A (ja) * 1995-05-15 1997-02-04 Inax Corp 施釉ブースの釉薬回収装置
CN206767613U (zh) * 2017-06-09 2017-12-19 陈文全 一种防止液体飞溅的液体灌装头
CN211517897U (zh) * 2019-12-27 2020-09-18 湖北安广陶瓷有限公司 一种瓷砖上釉釉盘
CN214854102U (zh) * 2021-06-02 2021-11-26 泉州世德龙机械设备有限公司 一种巴士杀菌进料分散系统
CN215702657U (zh) * 2021-08-27 2022-02-01 佛山欧神诺陶瓷有限公司 一种施釉装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN114953129A (zh) 2022-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114953129B (zh) 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统
CN214502025U (zh) 一种稀土生产用干燥装置
CN210308407U (zh) 一种高铁建设用混凝土搅拌配置装置
CN206121246U (zh) 一种废水处理用除泥装置
CN207592231U (zh) 一种建筑工地用粗沙筛选装置
KR100768399B1 (ko) 선별 기능이 구비된 밤세척기 및 밤세척 방법
CN108101190A (zh) 一种陶粒生物滤池反冲洗切割模块及其三维反冲洗技术
CN205684691U (zh) 一种定向脱落装置
CN110565536B (zh) 一种空心薄壁高墩放料装置
CN210788080U (zh) 一种轴承滚珠快速筛选机构
CN206014693U (zh) 一种玻璃纤维加球机
CN104174591B (zh) 一种复合式筛分机
CN203878186U (zh) 一种圆盘造球机控制料流的装置
CN110508540A (zh) 一种建筑模板冲洗装置
CN202023565U (zh) 一种新型可调节皮带刮泥装置
CN219898039U (zh) 一种球化设备
CN206185092U (zh) 双排式连续浇铸系统
CN217448945U (zh) 一种泡泡发生头及包括其的旋转泡泡装置
CN211572436U (zh) 一种地砖抹灰机
CN212418142U (zh) 一种方便清洗维护的食品加工用粉碎筛选装置
CN220334206U (zh) 一种配料皮带机扬尘收集装置
CN210178349U (zh) 一种转载机
CN216037063U (zh) 大米加工精度分析仪布米机构
CN209393626U (zh) 一种原料冲洗去泥装置
CN210215173U (zh) 超耐单银Low-E中空玻璃撒粉机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant