CN211517897U - 一种瓷砖上釉釉盘 - Google Patents

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刘云
黎斌
杨怀静
陈雪阳
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Abstract

本实用新型公开了一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆及圆锥状的釉盘,所述支撑杆中心通过轴承安装有转动轴,所述釉盘的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴上,转动轴上固定连接有圆块,所述圆块位于釉盘下,用于支撑釉盘,转动轴的顶端固定连接有锥台,所述锥台位于釉盘上方,转动轴上还固定连接有转动盘,所述转动连接有第一电机,所述第一电机固定在支撑杆上,用第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。

Description

一种瓷砖上釉釉盘
技术领域
本实用新型涉及陶瓷加工设备技术领域,具体涉及一种瓷砖上釉釉盘。
背景技术
现有技术给瓷片上釉有较多种方式,其中一种方式是通过向圆盘状的釉盘上浇上釉浆,釉浆从釉盘的边缘落在从釉盘下经过的瓷片上,完成上釉工序,但从下釉口流出的釉浆由于空气上升的影响,落在釉盘上的釉浆厚度不均,使同批次的瓷片上的釉浆厚不一致,从而降低瓷片上釉的质量,影响外观。
实用新型内容
本实用新型要解决的问题是针对现有技术中所存在的上述不足而提供一种瓷砖上釉釉盘,通过在釉盘的上方设置由第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,使从釉盘上流下的釉浆厚度均匀,来解决现有技术中存在的上述问题。
为实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案:
一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆及圆锥状的釉盘,所述支撑杆中心通过轴承安装有转动轴,所述釉盘的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴上,转动轴上固定连接有圆块,所述圆块位于釉盘下,用于支撑釉盘,转动轴的顶端固定连接有锥台,所述锥台位于釉盘上方,转动轴上还固定连接有转动盘,所述转动连接有第一电机,所述第一电机固定在支撑杆上。
相比于现有技术,本实用新型具有如下有益效果:
在支撑杆上通过轴承转动连接转动轴,并使用轴承将转动轴与釉盘转动连接,转动轴上固定连接圆块,用圆块来支撑釉盘使釉盘限制在转动轴上固定的位置,转动轴的顶端固定连接锥台,转动轴传动连接第一电机,用第一电机带动旋转的锥台对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
附图说明
图1为本实用新型实施例一顶视结构示意图。
图2为本实用新型实施例一剖切结构示意图。
图3为本实用新型实施例二顶视结构示意图。
图4为本实用新型实施例二剖切结构示意图。
图中:支撑杆1、第一电机11、第二电机12、旋转盘13、安装孔14、转动轴2、圆块21、锥台22、滤网221、转动盘23、釉盘3、挡块31、挡体32、连接杆321、连接孔322、倒钩323。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与作用更加清楚及易于了解,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步阐述:
实施例一:
如附图1、附图2所示,一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆1及圆锥状的釉盘3,所述支撑杆1中心通过轴承安装有转动轴2,所述釉盘3的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴2上,转动轴2上固定连接有圆块21,所述圆块21位于釉盘3下,用于支撑釉盘3,转动轴2的顶端固定连接有锥台22,所述锥台22位于釉盘3上方,转动轴2上还固定连接有转动盘23,所述转动连接有第一电机11,所述第一电机11固定在支撑杆1上;
使用时,在支撑杆1上通过轴承转动连接转动轴2,并使用轴承将转动轴2与釉盘3转动连接,转动轴2上固定连接圆块21,用圆块21来支撑釉盘3使釉盘3限制在转动轴2上固定的位置,转动轴2的顶端固定连接锥台22,转动轴2传动连接第一电机11,用第一电机11带动旋转的锥台22对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台22对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘3上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘3上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
更进一步的,如附图1所示,一种瓷砖上釉釉盘,所述釉盘3上固定连接有弧形的挡块31,所述挡块31将釉盘3划分为扇形的出釉槽,使釉浆从釉盘3的出釉槽流下对下方通过的瓷片进行上釉,避免釉盘3两边对瓷片进行二次上釉,影响上釉的厚度,节约成本。
更进一步的,如附图2所示,一种瓷砖上釉釉盘,所述釉盘3的厚度由顶端中心向边缘变薄,使釉浆顺畅的从釉盘3边缘垂直流下,防止釉盘3的边缘阻力影响釉浆落下的顺畅度,使釉浆更加均匀。
更进一步的,如附图1、附图2所示,一种瓷砖上釉釉盘,所述锥台22边缘固定有一圈竖向的滤网221,用滤网221过滤掉釉浆内大小颗粒杂质及凝结的浆块,避免影响瓷片上釉的质量。
实施例二:
如附图3、附图4所示,一种瓷砖上釉釉盘,包括支撑杆1及圆锥状的釉盘3,所述支撑杆1中心通过轴承安装有转动轴2,所述釉盘3的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴2上,转动轴2上固定连接有圆块21,所述圆块21位于釉盘3下,用于支撑釉盘3,转动轴2的顶端固定连接有锥台22,所述锥台22位于釉盘3上方,转动轴2上还固定连接有转动盘23,所述转动连接有第一电机11,所述第一电机11固定在支撑杆1上;
使用时,在支撑杆1上通过轴承转动连接转动轴2,并使用轴承将转动轴2与釉盘3转动连接,转动轴2上固定连接圆块21,用圆块21来支撑釉盘3使釉盘3限制在转动轴2上固定的位置,转动轴2的顶端固定连接锥台22,转动轴2传动连接第一电机11,用第一电机11带动旋转的锥台22对从下釉口落下的釉浆进行旋转,由旋转的锥台22对釉浆的厚度进行重新分配,流到釉盘3上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘3上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
更进一步的,如附图4所示,一种瓷砖上釉釉盘,所述支撑杆1为十字杆,支撑杆1的对称的两端固定连接有第二电机12,所述第二电机12的旋转轴上固定连接有与釉盘3的底面相配合的旋转盘13,通过第二电机12带动釉盘3绕转动轴2转动,使缓缓转动的釉盘3对锥台22上落下的釉浆进行再次分配,使釉浆厚度更加均匀,提高瓷片的上釉质量。
更进一步的,如附图3所示,一种瓷砖上釉釉盘3,所述支撑杆1的另外对称的两端设置有安装孔14,所述安装孔14凸出于釉盘3边缘,所述釉盘3上设置有与釉盘3的上表面相配合的弧形的挡体32,所述挡体32将釉盘3划分为扇形的出釉槽,挡体32上固定连接有对称的连接杆321,所述连接杆321的末端设置有与安装孔14相对应的连接孔322,使用螺栓将挡体32固定在支撑杆1的安装孔14处,固定在支撑杆1上的挡体32将转动的釉盘3上长时间使用或间断使用而凝结的釉块刮干净,防止釉块对釉浆进行分流而使瓷片上釉不均匀,提高瓷片质量,降低风险,并减少清理釉盘3工序,提高效率。
更进一步的,如附图3所示,一种瓷砖上釉釉盘3,所述挡体32的末端设置有与釉盘3边缘配合的倒钩323,用于清理釉盘3边缘更容易凝结的釉块。
更进一步的,如附图3所示,一种瓷砖上釉釉盘3,所述锥台22的转动方向与釉盘3的转动方向一致,防止釉盘3上的釉浆泛起波澜,影响瓷片上釉的厚度。
更进一步的,如附图4所示,一种瓷砖上釉釉盘3,所述釉盘3的厚度由顶端中心向边缘变薄,使釉浆顺畅的从釉盘3边缘垂直流下,防止釉盘3的边缘阻力影响釉浆落下的顺畅度,使釉浆更加均匀。
更进一步的,如附图3、附图4所示,一种瓷砖上釉釉盘3,所述锥台22边缘固定有一圈竖向的滤网221,用滤网221过滤掉釉浆内大小颗粒杂质及凝结的浆块,避免影响瓷片上釉的质量。
本实用新型的工作原理是:如附图1、附图4所示,工作时,釉浆从下釉口落在由第一电机11带动转动的锥台22上,由转动的锥台22对釉浆进行重新分配,流到釉盘3上各个点上的釉浆量更加均匀,从釉盘3上流下的釉浆厚度更加均匀,进而使瓷片的上釉厚度一致,提高了整体瓷片的上釉质量,外观更加美观,增加了市场竞争力。
最后说明的是,以上实用新型的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型的技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

Claims (8)

1.一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:包括支撑杆及圆锥状的釉盘,所述支撑杆中心通过轴承安装有转动轴,所述釉盘的顶端中心通过轴承转动连接在转动轴上,转动轴上固定连接有圆块,所述圆块位于釉盘下,用于支撑釉盘,转动轴的顶端固定连接有锥台,所述锥台位于釉盘上方,转动轴上还固定连接有转动盘,所述转动连接有第一电机,所述第一电机固定在支撑杆上。
2.如权利要求1所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述釉盘上固定连接有弧形的挡块,所述挡块将釉盘划分为扇形的出釉槽。
3.如权利要求1所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述支撑杆为十字杆,支撑杆的对称的两端固定连接有第二电机,所述第二电机的旋转轴上固定连接有与釉盘的底面相配合的旋转盘。
4.如权利要求3所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述支撑杆的另外对称的两端设置有安装孔,所述安装孔凸出于釉盘边缘,所述釉盘上设置有与釉盘的上表面相配合的弧形的挡体,所述挡体将釉盘划分为扇形的出釉槽,挡体上固定连接有对称的连接杆,所述连接杆的末端设置有与安装孔相对应的连接孔。
5.如权利要求4所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述挡体的末端设置有与釉盘边缘配合的倒钩。
6.如权利要求5所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述锥台的转动方向与釉盘的转动方向一致。
7.如权利要求1所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述釉盘的厚度由顶端中心向边缘变薄。
8.如权利要求1所述的一种瓷砖上釉釉盘,其特征在于:所述锥台边缘固定有一圈竖向的滤网。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114953129A (zh) * 2022-04-01 2022-08-30 广东冠星陶瓷企业有限公司 一种陶瓷循环淋釉和防尘系统

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