CN114920238A - 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料 - Google Patents

一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料 Download PDF

Info

Publication number
CN114920238A
CN114920238A CN202210608722.XA CN202210608722A CN114920238A CN 114920238 A CN114920238 A CN 114920238A CN 202210608722 A CN202210608722 A CN 202210608722A CN 114920238 A CN114920238 A CN 114920238A
Authority
CN
China
Prior art keywords
graphene
modified
chemical vapor
insulating
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202210608722.XA
Other languages
English (en)
Inventor
杨云胜
郭颢
束国法
蒋伟良
陈玲
陶勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Carbon China New Material Technology Co ltd
Original Assignee
Anhui Carbon China New Material Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Carbon China New Material Technology Co ltd filed Critical Anhui Carbon China New Material Technology Co ltd
Priority to CN202210608722.XA priority Critical patent/CN114920238A/zh
Publication of CN114920238A publication Critical patent/CN114920238A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/182Graphene
    • C01B32/184Preparation
    • C01B32/186Preparation by chemical vapour deposition [CVD]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

本发明公开了一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,涉及到石墨烯材料领域,类石墨烯材料由绝缘基底和位于绝缘基底上的石墨烯组成,且石墨烯位于绝缘基底的一面或两面。本发明中改性石墨烯材料具备良好的绝缘和导热性能,提高了石墨烯材料的材料性能;本发明中石墨烯的生长过程在绝缘衬底上进行,可得到1‑3层石墨烯材料,无需对生长得到的材料进行转移,可直接应用于电子器件。通过梯度控制各步的条件,本发明实现了精确控制石墨烯的成核和生长速度,使其在绝缘衬底上均匀分布,褶皱密度可降低至1×10‑5个/μm2以下。

Description

一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料
技术领域
本发明涉及石墨烯材料领域,特别涉及一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料。
背景技术
石墨烯是单原子层厚度、蜂窝状结构的二维原子晶体,它是由碳sp2轨道杂化成键而成。
石墨烯材料的导电性普遍不够高,且其导热功能较差。
因此,发明一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料来解决上述问题很有必要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,所述类石墨烯材料由绝缘基底和位于所述绝缘基底上的石墨烯组成,且所述石墨烯位于所述绝缘基底的一面或两面;
所述石墨烯的厚度为150-250个原子层;
石墨烯材料的改性制备方法,包括如下步骤:
将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,其中,沉积温度为900-1100℃,所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇;
通过梯度法控制改性石墨烯材料生长条件制备超低褶皱密度石墨烯材料;所述梯度法具体为:
低温阶段:生长温度为900-1500℃,气态碳源流量为0.001-0.02L/min,氢气流量为1-25L/min,C/H比0.01%-0.1%,氮气流量为0.5-1L/min,气体压力为500-1000mbar,持续时间1-25min;
升温阶段:在5-15min内将温度匀速升高31-250℃,气态碳源流量保持不变,降低氢气流量,C/H比匀速升至0.2%-1%,氮气流量匀速降至0.05-0.3L/min,气体压力匀速降至100-400mbar;
高温阶段:与低温阶段温差为31-250℃,气态碳源流量保持不变,C/H比0.2%-1%,氮气流量为0.05-0.3L/min,气体压力为100-400mbar,持续时间10-60min;
上述C/H比均为碳源和氢气的流量之比。
优选的,所述绝缘基底包含玻璃、SiO2/Si片,氮化硼,C3N4,SiC,Si片中的一种或几种。
优选的,所述改性石墨烯材料表面经过真空环境升温至500-1100℃,以去除改性石墨烯材料表面多余气体。
优选的,所述改性石墨烯材料中的氮源替换为二氧化碳源。
优选的,所述碳源使用气态碳源,所述气态碳源为改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷。
优选的,所述改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷的改性方法为,将改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷存入高压罐中,将其加热到沸点以上充入同比例的二氧化碳后冷却。
优选的,将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,同时通入碳源和氮源进行化学气相沉积;或者,直接通入含氮的碳源进行化学气相沉积;或者,先通入碳源一段时间,后通入氮源进行化学气相沉积。
优选的,所述化学气相沉积步骤中,沉积的方法选自低压热化学气相沉积法、熔融热化学气相沉积法、常压热化学气相沉积法。
优选的,所述化学气相沉积步骤中,氮源包含苯胺,乙腈,甲胺,甲胺醇溶液,乙胺,乙醇胺,吡啶,硝基苯,氨气中的一种或几种。
优选的,所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇,沉积温度为1000-1100℃;沉积时间为31min-25h;所述降温步骤为自然降温,快速降温或程序控制降温。
本发明的技术效果和优点:
本发明中石墨烯的生长过程在绝缘衬底上进行,可得到1-3层石墨烯材料,无需对生长得到的材料进行转移,可直接应用于电子器件。通过梯度控制各步的条件,本发明实现了精确控制石墨烯的成核和生长速度,使其在绝缘衬底上均匀分布,褶皱密度可降低至1×10-5个/μm2以下;
本发明中改性石墨烯材料具备良好的绝缘和导热性能,提高了石墨烯材料的材料性能。
附图说明
图1为本发明工艺结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供了如图1所示的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,所述类石墨烯材料由绝缘基底和位于所述绝缘基底上的石墨烯组成,且所述石墨烯位于所述绝缘基底的一面或两面;
所述石墨烯的厚度为150-250个原子层;
石墨烯材料的改性制备方法,包括如下步骤:
将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,其中,沉积温度为900-1100℃,所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇;
通过梯度法控制改性石墨烯材料生长条件制备超低褶皱密度石墨烯材料;所述梯度法具体为:
低温阶段:生长温度为900-1500℃,气态碳源流量为0.001-0.02L/min,氢气流量为1-25L/min,C/H比0.01%-0.1%,氮气流量为0.5-1L/min,气体压力为500-1000mbar,持续时间1-25min;
升温阶段:在5-15min内将温度匀速升高31-250℃,气态碳源流量保持不变,降低氢气流量,C/H比匀速升至0.2%-1%,氮气流量匀速降至0.05-0.3L/min,气体压力匀速降至100-400mbar;
高温阶段:与低温阶段温差为31-250℃,气态碳源流量保持不变,C/H比0.2%-1%,氮气流量为0.05-0.3L/min,气体压力为100-400mbar,持续时间10-60min;
上述C/H比均为碳源和氢气的流量之比。
所述绝缘基底包含玻璃、SiO2/Si片,氮化硼,C3N4,SiC,Si片中的一种或几种。
所述改性石墨烯材料表面经过真空环境升温至500-1100℃,以去除改性石墨烯材料表面多余气体。
所述改性石墨烯材料中的氮源替换为二氧化碳源。
所述碳源使用气态碳源,所述气态碳源为改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷。
所述改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷的改性方法为,将改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷存入高压罐中,将其加热到沸点以上充入同比例的二氧化碳后冷却。
将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,同时通入碳源和氮源进行化学气相沉积;或者,直接通入含氮的碳源进行化学气相沉积;或者,先通入碳源一段时间,后通入氮源进行化学气相沉积。
所述化学气相沉积步骤中,沉积的方法选自低压热化学气相沉积法、熔融热化学气相沉积法、常压热化学气相沉积法。
所述化学气相沉积步骤中,氮源包含苯胺,乙腈,甲胺,甲胺醇溶液,乙胺,乙醇胺,吡啶,硝基苯,氨气中的一种或几种。
所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇,沉积温度为1000-1100℃;沉积时间为31min-25h;所述降温步骤为自然降温,快速降温或程序控制降温。

Claims (10)

1.一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述类石墨烯材料由绝缘基底和位于所述绝缘基底上的石墨烯组成,且所述石墨烯位于所述绝缘基底的一面或两面;
所述石墨烯的厚度为150-250个原子层;
石墨烯材料的改性制备方法,包括如下步骤:
将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,其中,沉积温度为900-1100℃,所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇;
通过梯度法控制改性石墨烯材料生长条件制备超低褶皱密度石墨烯材料;所述梯度法具体为:
低温阶段:生长温度为900-1500℃,气态碳源流量为0.001-0.02L/min,氢气流量为1-25L/min,C/H比0.01%-0.1%,氮气流量为0.5-1L/min,气体压力为500-1000mbar,持续时间1-25min;
升温阶段:在5-15min内将温度匀速升高31-250℃,气态碳源流量保持不变,降低氢气流量,C/H比匀速升至0.2%-1%,氮气流量匀速降至0.05-0.3L/min,气体压力匀速降至100-400mbar;
高温阶段:与低温阶段温差为31-250℃,气态碳源流量保持不变,C/H比0.2%-1%,氮气流量为0.05-0.3L/min,气体压力为100-400mbar,持续时间10-60min;
上述C/H比均为碳源和氢气的流量之比。
2.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述绝缘基底包含玻璃、SiO2/Si片,氮化硼,C3N4,SiC,Si片中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述改性石墨烯材料表面经过真空环境升温至500-1100℃,以去除改性石墨烯材料表面多余气体。
4.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述改性石墨烯材料中的氮源替换为二氧化碳源。
5.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述碳源使用气态碳源,所述气态碳源为改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷。
6.根据权利要求5所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷的改性方法为,将改性甲烷、改性乙烷、改性乙烯、改性乙炔或改性丁烷存入高压罐中,将其加热到沸点以上充入同比例的二氧化碳后冷却。
7.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:将绝缘基底置于化学气相沉积系统中,通入碳源和氮源进行化学气相沉积,沉积完毕降温至室温,得到所述改性石墨烯材料,同时通入碳源和氮源进行化学气相沉积;或者,直接通入含氮的碳源进行化学气相沉积;或者,先通入碳源一段时间,后通入氮源进行化学气相沉积。
8.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述化学气相沉积步骤中,沉积的方法选自低压热化学气相沉积法、熔融热化学气相沉积法、常压热化学气相沉积法。
9.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述化学气相沉积步骤中,氮源包含苯胺,乙腈,甲胺,甲胺醇溶液,乙胺,乙醇胺,吡啶,硝基苯,氨气中的一种或几种。
10.根据权利要求1所述的一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料,其特征在于:所述化学气相沉积步骤中,碳源为乙醇,沉积温度为1000-1100℃;沉积时间为31min-25h;所述降温步骤为自然降温,快速降温或程序控制降温。
CN202210608722.XA 2022-05-31 2022-05-31 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料 Pending CN114920238A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210608722.XA CN114920238A (zh) 2022-05-31 2022-05-31 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210608722.XA CN114920238A (zh) 2022-05-31 2022-05-31 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114920238A true CN114920238A (zh) 2022-08-19

Family

ID=82811678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210608722.XA Pending CN114920238A (zh) 2022-05-31 2022-05-31 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114920238A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103172061A (zh) * 2013-04-16 2013-06-26 北京大学 一种在绝缘衬底上生长大面积石墨烯的方法
CN107601473A (zh) * 2017-09-30 2018-01-19 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种制备均匀一致的石墨烯材料的改进的化学气相沉积法
CN109437169A (zh) * 2018-12-04 2019-03-08 中国电子科技集团公司第十三研究所 制备超低褶皱密度石墨烯材料的方法
CN112919455A (zh) * 2021-02-07 2021-06-08 正大能源材料(大连)有限公司 一种二氧化碳联合低压化学气相沉积制备石墨烯膜的方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103172061A (zh) * 2013-04-16 2013-06-26 北京大学 一种在绝缘衬底上生长大面积石墨烯的方法
CN107601473A (zh) * 2017-09-30 2018-01-19 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种制备均匀一致的石墨烯材料的改进的化学气相沉积法
CN109437169A (zh) * 2018-12-04 2019-03-08 中国电子科技集团公司第十三研究所 制备超低褶皱密度石墨烯材料的方法
CN112919455A (zh) * 2021-02-07 2021-06-08 正大能源材料(大连)有限公司 一种二氧化碳联合低压化学气相沉积制备石墨烯膜的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103194795B (zh) 一种低成本制备大尺寸单晶石墨烯的方法
US12116281B2 (en) Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition
CN103145117B (zh) 一种制备石墨烯的方法
CN102874801A (zh) 一种石墨烯的制备方法
CN103183344A (zh) 一种低温高效制备大尺寸石墨烯的方法
CN105274491A (zh) 一种石墨烯-氮化硼异质相复合薄膜材料的制备方法
CN113078046B (zh) 一种氮化镓同质衬底及其制备方法
CN109722650A (zh) 一种六方氮化硼材料及其制备方法和转移方法
CN106629685B (zh) 一种具有多级结构的三维石墨烯泡沫及其制备方法
CN103613094A (zh) 一种同时制备石墨烯和多孔非晶碳薄膜的方法
CN103643217A (zh) 一种自支撑类石墨多孔非晶碳薄膜的制备方法
CN103646789B (zh) 一种石墨烯-铂超级电容器复合电极材料的制备方法
CN114162809A (zh) 一种两步化学气相沉积法制备石墨烯的方法
CN118125423A (zh) 一种在石墨膜表面生长垂直碳纳米片的方法
CN114920238A (zh) 一种具有绝缘导热功能的类石墨烯材料
TWI449087B (zh) A method for growing a silicon carbide film on a (100) silicon substrate
CN116334539B (zh) 石墨烯储氢膜材的制备方法、石墨烯储氢膜材及储氢罐
CN103183336A (zh) 基于Ni膜退火的Si衬底上大面积石墨烯制备方法
CN105755447B (zh) 一种低成本均匀制备石墨烯薄膜的方法
CN112030143A (zh) 一种用于a-Si/c-Si异质结太阳电池的高效非晶硅钝化膜的制备方法
CN108502871A (zh) 在封闭静态体系下批量制备石墨烯的方法、石墨烯及应用
CN103350992A (zh) 一种高导电性氟化石墨烯薄膜的制备方法
CN105060278A (zh) 一种自支撑类三维泡沫状多孔碳膜的制备方法
CN113151803A (zh) 一种硼碳氮薄膜的制备方法
CN109830413B (zh) GaN微米棒阵列/石墨烯场发射阴极复合材料制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20220819