CN114883512A - 电致发光显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供了一种电致发光显示面板及其制备方法、显示装置。该电致发光显示面板包括：衬底基板；电致发光器件，位于衬底基板的一侧，包括阴极层；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；辅助阴极结构，与阴极层远离衬底基板的一侧接触，且辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。本申请实施例实现了增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件不同位置可能出现亮度差异的幅度；还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种电致发光显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前电致发光显示器件在显示行业中的地位越来越重要，特别是OLED(OrganicLight-Emitting Diode，又称为有机电致发光器件)显示，由于其高色域、可弯折、快的响应时间等优点，在近些年获得了大范围的推广和应用。
另外，近几年QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光器件)显示由于其低廉的制造成本、高色域等优点，获得许多公司和研究人员的重视。
无论OLED显示技术，还是QLED显示技术，应用在大中尺寸产品中均易发生显示产品不同位置的亮度出现较为显著差异的缺陷，影响显示产品的视觉体验。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点，提出一种电致发光显示面板及其制备方法、显示装置，用以解决现有技术存在电致发光显示器件应用在大中尺寸产品中均易发生显示产品不同位置的亮度出现较为显著差异的技术问题。
第一个方面，本申请实施例提供了一种电致发光显示面板，包括：
衬底基板；
电致发光器件，位于衬底基板的一侧，包括阴极层；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；
辅助阴极结构，与阴极层远离衬底基板的一侧接触，且辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
在一些实施例中，辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于100纳米。
可选地，辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于4纳米。
可选地，辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于100纳米。
在一些实施例中，至少两个相邻亚像素对应的显示区包括与至少两种亚像素一一对应的显示子区；
辅助阴极结构在衬底基板的正投影还与阴极层的显示单元区内至少一个显示子区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
在一些实施例中，辅助阴极结构在衬底基板的正投影还与阴极层的显示单元区内部分非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠，显示单元区内的部分非显示区分别连接显示单元区内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区的非显示区。
在一些实施例中，至少一个显示子区与红色亚像素对应。
在一些实施例中，与红色亚像素对应的辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于10纳米。
在一些实施例中，电致发光显示面板还包括：透光斥金属结构；
透光斥金属结构与阴极层接触，且透光斥金属结构在衬底基板的正投影与阴极层的显示单元区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
在一些实施例中，透光斥金属结构包括氟化锂或烃基锂中的至少一种材料。
第二个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括：如上述第一个方面提供的电致发光显示面板。
第三个方面，本申请实施例提供了一种电致发光显示面板的制备方法，包括：
在衬底基板的一侧制备包括阴极层的电致发光器件；阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区；
在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构；辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
在一些实施例中，在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构，包括：
在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构；透光斥金属结构在衬底基板的正投影与阴极层的显示单元区在衬底基板的正投影至少部分交叠；
在露出的阴极层上蒸镀金属材料，得到辅助阴极结构。
在一些实施例中，在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构，包括：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，得到透光斥金属结构；显示单元区包括至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区。
在一些实施例中，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区。
在一些实施例中，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区、以及显示单元区内的部分非显示区；显示单元区内的部分非显示区分别连接显示单元区内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区的非显示区。
本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
1、在电致发光器件的阴极层上增加辅助阴极结构，有利于增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件不同位置可能出现亮度差异的幅度，提高显示产品的视觉体验，尤其应用在大中尺寸电致发光显示产品中优化效果更为明显；
2、以至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区为最小图案化单元，不仅可以降低辅助阴极结构的图案复杂程度、降低其制作成本，还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，尤其是提高大视角场景下的视觉体验。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式一的截面结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式二的俯视结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式二的出光状态示意图；
图4为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式三的俯视结构示意图；
图5为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式三的出光状态示意图；
图6为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式四的截面结构示意图；
图7为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式四的亮度衰减曲线图；
图8为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式五的截面结构示意图；
图9为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的实施方式六的截面结构示意图；
图10为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的制备方法的流程示意图；
图11为本申请实施例提供的一种电致发光显示面板的制备方法中，在阴极层上制备与阴极层接触的辅助阴极结构的流程示意图。
图中：
100-电致发光显示面板；101-显示区；102-非显示区；103-显示单元区；104-亚像素；
110-电致发光器件；111-阳极层；112-电致发光层；113-阴极层；
120-辅助阴极结构；130-透光斥金属结构；140-衬底基板。
具体实施方式
下面结合本申请中的附图描述本申请的实施例。应理解，下面结合附图所阐述的实施方式，是用于解释本申请实施例的技术方案的示例性描述，对本申请实施例的技术方案不构成限制。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。应该理解，当我们称一个元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，该一个元件可以直接连接或耦接到另一元件，也可以指该一个元件和另一元件通过中间元件建立连接关系。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个，例如“A和/或B”可以实现为“A”，或者实现为“B”，或者实现为“A和B”。
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
本申请的研发思路包括：电致发光器件通常采用顶发光结构，即从顶部出光，为满足透光率的要求，位于电致发光器件顶部的阴极层需要控制其厚度在一个较薄的范围(例如：约10-15纳米)，阴极层的厚度越薄电阻越大，因此应用在大中尺寸产品中的电致发光器件不同位置易出现较为显著的亮度差异，影响显示产品的视觉体验。
为了减小阴极电阻，在阴极层的非显示区增加辅助阴极是可行的方案。
显示区通常包括对应红色、绿色、蓝色等亚像素的区域，由于不同颜色的亚像素的形状和面积不尽相同，若是以每一亚像素为最小图案化单元，一方面会导致辅助阴极的图案过于复杂，制作成本过高；另一方面，辅助阴极与发光像素的距离很近，辅助阴极在每两相邻的亚像素之间走线，则在大视角情况下辅助阴极会对光线产生阻挡，导致视角变差。
本申请提供的电致发光显示面板及其制备方法、显示装置，旨在解决现有技术的如上技术问题。
下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是，下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合，对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等，不再重复描述。
本申请实施例提供了一种电致发光显示面板100，该电致发光显示面板100的结构示意图如图1所示，包括但不限于：衬底基板140，电致发光器件110和辅助阴极结构120。
电致发光器件110位于衬底基板140的一侧，电致发光器件110包括但不限于阴极层113。阴极层113包括但不限于与亚像素104对应的显示区101和至少部分环绕显示区101的非显示区102，其中，至少两个相邻亚像素104对应的显示区101与位于至少两个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103。
辅助阴极结构120与阴极层113远离衬底基板140的一侧接触，且辅助阴极结构120在衬底基板140的正投影与阴极层113环绕显示单元区103的非显示区102在衬底基板140的正投影至少部分交叠。
本实施例提供的一种电致发光显示面板100，在电致发光器件110的阴极层113上增加辅助阴极结构120，有利于增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件110不同位置可能出现亮度差异的幅度，提高显示产品的视觉体验，尤其应用在大中尺寸电致发光显示产品中优化效果更为明显。
并且，辅助阴极结构120以至少两个相邻亚像素104对应的显示区101与位于至少两个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103为最小图案化单元，不仅可以降低辅助阴极结构120的图案复杂程度、降低其制作成本，还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，尤其是提高大视角场景下的视觉体验。
在一些示例中，电致发光器件110包括依次层叠的阳极层111、电致发光层112和阴极层113。
在一些示例中，辅助阴极结构120可以采用与阴极层113相同的材料，例如：ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)。
在一些可能的实施方式中，辅助阴极结构120的厚度不小于1纳米且不大于100纳米。这样有利于降低电致发光器件110的阴极电阻，也不会对电致发光器件110出射光线造成过度阻挡。
在一些示例中，如图2和图3所示，两个相邻亚像素104对应的显示区101与位于这两个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103，则可以控制辅助阴极结构120的厚度不小于1纳米且不大于4纳米。由于此情况下辅助阴极结构120的走线较为密集，可以获得较好的降低阴极电阻的效果，因此可以压缩辅助阴极结构120的厚度，一方面有利于实现器件减薄，另一方面也可以降低对光线的阻挡，有利于扩大可视角度。
在另一些示例中，如图4和图5所示，四个或十六个相邻亚像素104对应的显示区101与位于这四个或十六个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103，则可以控制辅助阴极结构120的厚度不小于2纳米且不大于100纳米。由于此情况下辅助阴极结构120的走线较为稀疏，这十分有利于降低对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，为保证较好的降低阴极电阻的效果，因此可以适当加厚辅助阴极结构120的厚度。
本申请的研发思路还包括，电致发光器件110通常包括不同颜色的亚像素104不同颜色的亚像素104在不同视角下的亮度衰减不尽相同，亮度衰减不一致会造成视角色偏问题。为此，本申请为电致发光显示面板100提供如下一种可能的实现方式：
如图6所示，本申请实施例的电致发光显示面板100中，至少两个相邻亚像素104对应的显示区101包括但不限于与至少两种亚像素104一一对应的显示子区。
辅助阴极结构120在衬底基板140的正投影还与阴极层113的显示单元区103内至少一个显示子区在衬底基板140的正投影至少部分交叠。
在本实施例中，利用辅助阴极结构120对至少一个显示子区至少部分覆盖，可以实现对至少一种亚像素104的亮度衰减的调节，以平衡不同颜色亚像素的亮度衰减，或加剧部分颜色亚像素的亮度衰减，从而满足应用场景需要。
可选地，显示子区可以包括与红色亚像素一一对应的显示子区；显示子区也可以包括与绿色亚像素一一对应的显示子区；显示子区还可以包括与蓝色亚像素一一对应的显示子区。当然在一些应用场景中，显示子区还可以包括与白色亚像素一一对应的显示子区。
在一些可能的实施方式中，至少一个显示子区与红色亚像素对应。
在本实施例中，在红色亚像素的出光侧有辅助阴极结构120覆盖，使得对应红色亚像素的阴极层113区域厚度比对应绿色、蓝色亚像素的阴极层113区域的厚度更厚，可以加强红色亚像素的微腔效应。如图7所示，随着视角改变，加快红色亚像素的亮度衰减，有效改善红色、绿色、蓝色亚像素亮度衰减不一致造成的视角色偏现象。
需要说明的是，图7中，横轴表示可视角度，纵轴表示发光效率，“-●-”线表示未被辅助阴极结构120覆盖的红色亚像素的亮度衰减曲线，“-■-”线表示未被辅助阴极结构120覆盖的绿色亚像素的亮度衰减曲线，“-▲-”线表示未被辅助阴极结构120覆盖的蓝色亚像素的亮度衰减曲线，“--●--”线表示覆盖有辅助阴极结构120的红色亚像素的亮度衰减曲线。
可选地，与红色亚像素对应的辅助阴极结构120的厚度不小于2纳米且不大于10纳米。可以有利于将红色亚像素亮度衰减调节至与绿色亚像素和蓝色亚像素相近的水平。
在另一些可能的实施方式中，辅助阴极结构120在衬底基板140的正投影还与阴极层113的显示单元区103内的部分非显示区102在衬底基板140的正投影至少部分交叠，显示单元区103内的部分非显示区102分别连接显示单元区103内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区103的非显示区102。
在本实施例中，将覆盖至少一个显示子区的辅助阴极结构120部分与环绕显示单元区103外围非显示区102的辅助阴极结构120部分连接起来，有利于降低该显示子区范围内的阴极层113的电阻，实现针对个别亚像素104的阴极电阻降低，从而提高该亚像素104的发光效率，即提高亮度。
本申请的研发思路还包括，电致发光器件110中的辅助阴极结构120主要在非显示区102走线，在制备过程中若采用常规的刻蚀实现图案化，可能会对显示区101的光致发光器件造成伤害。为此，本申请为电致发光显示面板100提供如下一种可能的实现方式：
如图8或图9所示，本申请实施例的电致发光显示面板100还包括但不限于：透光斥金属结构130。
透光斥金属结构130与阴极层113接触，且透光斥金属结构130在衬底基板140的正投影与阴极层113的显示单元区103在衬底基板140的正投影至少部分交叠。
在本实施例中，透光斥金属结构130一方面可以填充未被辅助阴极结构120覆盖的阴极层113显示区101，利于显示面板的平坦化；另一方面，透光斥金属结构130还可以对位于显示区101的亚像素104器件结构形成例如隔水阻氧的保护；再一方面，透光斥金属结构130可以在辅助阴极结构120的制备过程中充当掩膜板的角色，便于辅助阴极结构120的图案化。
并且，透光斥金属结构130的材料具备比较好的透光率、且具备较好的“疏金属”性能，有利于辅助阴极结构120通过蒸镀等沉积工艺即可同时实现图案化成型，减少刻蚀工序，降低生产成本，提高生产效率。
在一些可能的实施方式中，透光斥金属结构130包括但不限于氟化锂或烃基锂中的至少一种材料。这些材料具备较好的“有机-金属”互斥性能。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括但不限于：如前述各实施例提供的任一种电致发光显示面板100。
在本实施例中，由于显示装置包括了前述实施例提供的任一种电致发光显示面板100，其实现原理和有益效果相类似，此处不再赘述。
可选地，显示装置可以包括手机、平板电脑、移动终端、电子书、电子相框等等。
基于同一发明构思，本申请实施例提供了一种电致发光显示面板100的制备方法，该制备方法的流程示意图如图10所示，包括但不限于以下步骤S101-S102：
S101：在衬底基板的一侧制备包括但不限于阴极层的电致发光器件；阴极层包括但不限于与亚像素对应的显示区和至少部分环绕显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区形成显示单元区。
在一些示例中，本步骤S101中的提供包括但不限于阴极层113的电致发光器件110，可以在衬底上依次制备层叠的阳极层111、电致发光层112和阴极层113，得到电致发光器件110。
S102：在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构；辅助阴极结构在衬底基板的正投影与阴极层环绕显示单元区的非显示区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
在一些示例中，本步骤S101中的在阴极层113上制备与阴极层113接触的辅助阴极结构120，可以采用金属沉积和图案化的工艺制作。
本实施例提供的一种电致发光显示面板100的制备方法，经过步骤S101-S102，可以实现在电致发光器件110的阴极层113上增加辅助阴极结构120，这样有利于增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件110不同位置可能出现亮度差异的幅度，提高显示产品的视觉体验，尤其应用在大中尺寸电致发光显示产品中优化效果更为明显。
并且，辅助阴极结构120以至少两个相邻亚像素104对应的显示区101与位于至少两个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103为最小图案化单元，不仅可以降低辅助阴极结构120的图案复杂程度、降低其制作成本，还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，尤其是提高大视角场景下的视觉体验。
在一些可能的实施方式中，如图11所示，上述步骤S102中在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的辅助阴极结构，包括但不限于步骤S201-S202：
S201：在阴极层远离衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构；透光斥金属结构在衬底基板的正投影与阴极层的显示单元区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
经过步骤S201获得的透光斥金属结构130可以在后续辅助阴极结构120的制备过程中充当掩膜板的角色，便于辅助阴极结构120的图案化。
在一些可能的实施方式中，上述步骤S201中在阴极层远离所述衬底基板的一侧制备与阴极层接触的透光斥金属结构，包括但不限于：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，得到透光斥金属结构。该显示单元区包括但不限于至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的非显示区。
在本实施例中，利用掩膜板采用蒸镀的工艺方式制作透光斥金属结构130，该掩膜板上的镂空图案与后续将要制备的辅助阴极结构120的图案相互补。
可选地，为匹配工艺公差，掩膜板的上图案的开口尺寸比亚像素104尺寸大2纳米及以上。
可选地，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括但不限于：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区。
在本实施例中，利用掩膜板遮住显示单元区103内的至少一个显示子区，使得完成透光斥金属结构130的制备后能够露出该至少一个显示子区，有利于在后续制备辅助阴极结构120的过程中，利用辅助阴极结构120对至少一个显示子区至少部分覆盖，可以实现对至少一种亚像素104的亮度衰减的调节，以平衡不同颜色亚像素的亮度衰减，或加剧部分颜色亚像素的亮度衰减，从而满足应用场景需要。
在一些示例中，每个显示单元区103内包括对应红色亚像素的显示子区、对应绿色亚像素的显示子区和对应蓝色亚像素的显示子区。在蒸镀透光斥金属材料的过程中，利用掩膜板遮住显示单元区103内对应红色亚像素的显示子区，这样制备得到的透光斥金属结构130可以覆盖对应绿色亚像素的显示子区和对应蓝色亚像素的显示子区，而露出对应红色亚像素的显示子区。这样，后续以透光斥金属结构130为掩膜板制备得到的辅助阴极结构120能够覆盖对应红色亚像素的显示子区，使得对应红色亚像素的阴极层113区域厚度比对应绿色、蓝色亚像素的阴极层113区域的厚度更厚，可以加强红色亚像素的微腔效应。
可选地，利用掩膜板在阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括但不限于：
利用掩膜板在阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个显示子区、以及显示单元区内的部分非显示区。该显示单元区内的部分非显示区分别连接显示单元区内的至少一个显示子区、以及至少部分环绕显示单元区的非显示区。
在本实施例中，利用掩膜板遮住显示单元区103内的至少一个显示子区以及部分非显示区102，使得完成透光斥金属结构130的制备后能够露出该至少一个显示子区及部分非显示区102，有利于在后续制备辅助阴极结构120的过程中，利用辅助阴极结构120对至少一个显示子区至少部分覆盖，并将覆盖该至少一个显示子区的辅助阴极结构120部分与环绕显示单元区103外围非显示区102的辅助阴极结构120部分连接起来，不仅可以实现对至少一种亚像素104的亮度衰减的调节，以平衡不同颜色亚像素的亮度衰减，或加剧部分颜色亚像素的亮度衰减，从而满足应用场景需要，还有利于降低该显示子区范围内的阴极层113的电阻，实现针对个别亚像素104的阴极电阻降低，从而提高该亚像素104的发光效率，即提高亮度。
S202：在露出的阴极层上蒸镀金属材料，得到辅助阴极结构。
由于经上述步骤S201在阴极层113上制得了具备较好的“疏金属”性能且已图案化的透光斥金属结构130，因此本步骤S202可以透光斥金属结构130作为掩膜板进行蒸镀即可获得图案化的辅助阴极结构120，减少刻蚀工序，降低生产成本，提高生产效率。
经过上述步骤S201-S202可以使得最终得到的电致发光显示面板100的阴极层113上覆盖透光斥金属结构130和辅助阴极结构120。
其中，透光斥金属结构130可以填充未被辅助阴极结构120覆盖的阴极层113显示区101，利于显示面板的平坦化；透光斥金属结构130还可以对位于显示区101的亚像素104器件结构形成例如隔水阻氧的保护。
需要说明的是，在步骤S202之后也选择可以去除透光斥金属结构130，根据实际需要填充其他控光材料。可以理解的是，如果计划在制备得到辅助阴极结构120后去除透光斥金属结构130，则制作透光斥金属结构130的时候可以无需考虑材料的透光性，这样可以有更大的选材范围。
应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：
1、在电致发光器件110的阴极层113上增加辅助阴极结构120，有利于增加局部阴极的厚度，有效降低阴极电阻，降低电致发光器件110不同位置可能出现亮度差异的幅度，提高显示产品的视觉体验，尤其应用在大中尺寸电致发光显示产品中优化效果更为明显。
2、以至少两个相邻亚像素104对应的显示区101与位于至少两个相邻亚像素104对应的显示区101之间的非显示区102形成显示单元区103为最小图案化单元，不仅可以降低辅助阴极结构120的图案复杂程度、降低其制作成本，还能有效减少对光线的阻挡，有利于扩大可视角度，尤其是提高大视角场景下的视觉体验。
3、辅助阴极结构120的厚度不小于1纳米且不大于100纳米，这样有利于降低电致发光器件110的阴极电阻，也不会对电致发光器件110出射光线造成过度阻挡。
4、利用辅助阴极结构120对至少一个显示子区至少部分覆盖，可以实现对至少一种亚像素104的亮度衰减的调节，以平衡不同颜色亚像素的亮度衰减，或加剧部分颜色亚像素的亮度衰减，从而满足应用场景需要。
5、在红色亚像素的出光侧有辅助阴极结构120覆盖，使得对应红色亚像素的阴极层113区域厚度比对应绿色、蓝色亚像素的阴极层113区域的厚度更厚，可以加强红色亚像素的微腔效应，加快红色亚像素的亮度衰减，有效改善红色、绿色、蓝色亚像素亮度衰减不一致造成的视角色偏现象。
6、将覆盖至少一个显示子区的辅助阴极结构120部分与环绕显示单元区103外围非显示区102的辅助阴极结构120部分连接起来，有利于降低该显示子区范围内的阴极层113的电阻，实现针对个别亚像素104的阴极电阻降低，从而提高该亚像素104的发光效率，即提高亮度。
7、透光斥金属结构130一方面可以填充未被辅助阴极结构120覆盖的阴极层113显示区101，利于显示面板的平坦化；另一方面，透光斥金属结构130还可以对位于显示区101的亚像素104器件结构形成例如隔水阻氧的保护；再一方面，透光斥金属结构130可以在辅助阴极结构120的制备过程中充当掩膜板的角色，便于辅助阴极结构120的图案化。
8、透光斥金属结构130的材料具备比较好的透光率、且具备较好的“疏金属”性能，有利于辅助阴极结构120通过蒸镀等沉积工艺即可同时实现图案化成型，减少刻蚀工序，降低生产成本，提高生产效率。
本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中，词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系，为基于附图所示的示例性的方向或位置关系，是为了便于描述或简化描述本申请的实施例，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤的实施顺序并不受限于箭头所指示的顺序。除非本文中有明确的说明，否则在本申请实施例的一些实施场景中，各流程中的步骤可以按照需求以其他的顺序执行。而且，各流程图中的部分或全部步骤基于实际的实施场景，可以包括多个子步骤或者多个阶段。这些子步骤或者阶段中的部分或全部可以在同一时刻被执行，也可以在不同的时刻被执行在执行时刻不同的场景下，这些子步骤或者阶段的执行顺序可以根据需求灵活配置，本申请实施例对此不限制。
以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请的方案技术构思的前提下，采用基于本申请技术思想的其他类似实施手段，同样属于本申请实施例的保护范畴。
Claims (15)
1.一种电致发光显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
电致发光器件，位于所述衬底基板的一侧，包括阴极层；所述阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕所述显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于所述至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的所述非显示区形成显示单元区；
辅助阴极结构，与所述阴极层远离所述衬底基板的一侧接触，且所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影与所述阴极层环绕所述显示单元区的所述非显示区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。
2.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于100纳米。
3.根据权利要求2所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述辅助阴极结构的厚度不小于1纳米且不大于4纳米；
或，所述辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于100纳米。
4.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述至少两个相邻亚像素对应的显示区包括与至少两种亚像素一一对应的显示子区；
所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影还与所述阴极层的所述显示单元区内至少一个所述显示子区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。
5.根据权利要求4所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影还与所述阴极层的所述显示单元区内部分所述非显示区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠，所述显示单元区内的部分所述非显示区分别连接所述显示单元区内的所述至少一个所述显示子区、以及至少部分环绕所述显示单元区的非显示区。
6.根据权利要求4或5所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述至少一个所述显示子区与红色亚像素对应。
7.根据权利要求6所述的电致发光显示面板，其特征在于，与所述红色亚像素对应的所述辅助阴极结构的厚度不小于2纳米且不大于10纳米。
8.根据权利要求1所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述电致发光显示面板还包括：透光斥金属结构；
所述透光斥金属结构与所述阴极层接触，且所述透光斥金属结构在所述衬底基板的正投影与所述阴极层的所述显示单元区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。
9.根据权利要求8所述的电致发光显示面板，其特征在于，所述透光斥金属结构包括氟化锂或烃基锂中的至少一种材料。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如上述权利要求1-9中任一所述的电致发光显示面板。
11.一种电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的一侧制备包括阴极层的电致发光器件；所述阴极层包括与亚像素对应的显示区和至少部分环绕所述显示区的非显示区，其中，至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于所述至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的所述非显示区形成显示单元区；
在所述阴极层远离所述衬底基板的一侧制备与所述阴极层接触的辅助阴极结构；所述辅助阴极结构在所述衬底基板的正投影与所述阴极层环绕所述显示单元区的所述非显示区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述在所述阴极层远离所述衬底基板的一侧制备与所述阴极层接触的辅助阴极结构，包括：
在所述阴极层远离所述衬底基板的一侧制备与所述阴极层接触的透光斥金属结构；所述透光斥金属结构在所述衬底基板的正投影与所述阴极层的所述显示单元区在所述衬底基板的正投影至少部分交叠；
在露出的阴极层上蒸镀金属材料，得到所述辅助阴极结构。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，包括：所述在所述阴极层远离所述衬底基板的一侧制备与所述阴极层接触的透光斥金属结构，包括：
利用掩膜板在所述阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，得到所述透光斥金属结构；所述显示单元区包括至少两个相邻亚像素对应的显示区与位于所述至少两个相邻亚像素对应的显示区之间的所述非显示区。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，包括：所述利用掩膜板在所述阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
利用掩膜板在所述阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出所述显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个所述显示子区。
15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，包括：所述利用掩膜板在所述阴极层的显示单元区内蒸镀透光斥金属材料，包括：
利用掩膜板在所述阴极层的显示单元区内部分区域蒸镀透光斥金属材料，露出所述显示单元区内与至少两种亚像素一一对应的显示子区中的至少一个所述显示子区、以及所述显示单元区内的部分所述非显示区；所述显示单元区内的部分所述非显示区分别连接所述显示单元区内的所述至少一个所述显示子区、以及至少部分环绕所述显示单元区的非显示区。
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