CN114875381B - 真空镀膜腔和真空镀膜设备 - Google Patents

真空镀膜腔和真空镀膜设备 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种真空镀膜腔和真空镀膜设备。该真空镀膜腔包括真空腔体和冷却腔体,冷却腔体环绕真空腔体的周侧设置,且冷却腔体与真空腔体互不连通,真空腔体包括多个分隔件,多个分隔件间隔设置于冷却腔体内,并将冷却腔体分隔成多个流道,多个流道依次连通以形成冷却通道,冷却腔体设置有进液口和出液口,冷却通道的一端与进液口连通,冷却通道的另一端与出液口连通。冷却介质可以沿冷却流道分布在冷却腔体真空镀膜腔内,减少冷却介质分布不均匀而导致真空镀膜腔表面温度差异性较大的问题,从而提高真空镀膜的质量。

Description

真空镀膜腔和真空镀膜设备
技术领域
本发明涉及真空镀膜设备的技术领域,特别是涉及真空镀膜腔和真空镀膜设备。
背景技术
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在表面反应合成涂层或纳米材料的方法。在进行化学气相沉积时,可根据实际需求对工件表面进行镀附相应材质的膜层(或涂层)。比如,在一些应用情况下,可将金刚石涂层镀附于工件表面。
目前在对工件的表面进行镀膜时,通常采用真空镀膜装置进行镀膜。真空镀膜装置包括真空镀膜腔,真空镀膜腔内具有真空腔体。在使用真空镀膜装置时,将工件置于真空腔体内以进行镀膜。
然而,目前的真空镀膜装置在对工件进行镀膜时,由于真空腔体内的温度不均匀,影响镀膜质量。
发明内容
基于此,有必要针对真空镀膜装置的镀膜质量不佳的问题,提供一种真空镀膜腔和真空镀膜设备。
一种真空镀膜腔,包括真空腔体和冷却腔体,所述冷却腔体环绕所述真空腔体的周侧设置,且所述冷却腔体与所述真空腔体互不连通,所述真空腔体包括多个分隔件,多个分隔件间隔设置于所述冷却腔体内,并将所述冷却腔体分隔成多个流道,多个所述流道依次连通以形成冷却通道,所述冷却腔体设置有进液口和出液口,所述冷却通道的一端与所述进液口连通,所述冷却通道的另一端与所述出液口连通。
在其中一个实施例中,所述真空镀膜腔包括顶壁、底壁和内腔壁,所述内腔壁环绕设置于所述顶壁和所述底壁之间,且所述内腔壁与所述顶壁和底壁共同围合形成所述真空腔体;
所述真空镀膜腔包括外腔壁,所述外腔壁围设于所述内腔壁的周侧,所述冷却腔体形成于所述外腔壁与所述内腔壁之间。
在其中一个实施例中,至少部分所述外腔壁围设于所述顶壁的远离所述底壁的一侧,所述至少部分所述外腔壁与所述顶壁之间形成至少部分所述冷却腔体。
在其中一个实施例中,还包括隔片,所述隔片沿所述顶壁至所述底壁的方向设置,所述隔片位于所述冷却腔体内,所述隔片的一侧与所述外腔壁连接,所述隔片的另一侧与所述内腔壁连接;
沿所述顶壁至所述底壁的方向上,相邻的所述分隔件中,一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面连接,所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面之间形成空隙,另一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面之间形成空隙,所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面连接。
在其中一个实施例中,还包括隔流件,所述隔流件设置于所述冷却腔体内,所述隔流件的一端与所述外腔壁连接,所述隔流件的另一端与所述内腔壁连接;所述隔流件用于将所述冷却通道分割为至少两个不连通的分区冷却空间;各所述分区冷却空间均设置有进液口与出液口,各所述进液口独立设置,所述出液口至少部分独立设置。
在其中一个实施例中,所述隔流件沿所述外腔壁的底部至顶部的方向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
在其中一个实施例中,所述隔流件沿所述外腔壁的周向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
在其中一个实施例中,各所述分区冷却空间所对应的所述进液口处设置流量控制装置。
在其中一个实施例中,所述分隔件设置扰流通孔;
和/或,所述分隔件设置扰流部。
一种真空镀膜装置,包括上述的真空镀膜腔。
采用上述真空镀膜腔进行真空镀膜时,产品置于真空腔体内。由于分隔件间隔设置于冷却腔体内,因此,在对产品进行真空镀膜时,可将冷却介质由进液口输入至冷却腔体内,然后冷却介质依次沿各流道流动至出液口。在上述过程中,冷却介质可以沿冷却流道分布在冷却腔体真空镀膜腔内,减少冷却介质分布不均匀而导致真空镀膜腔表面温度差异性较大的问题。也就是说,若真空镀膜腔未设置分隔件,那么位于进液口至出液口的冷却介质的流动性较好,位于远离进液口至出液口的冷却介质的流动性较差,从而导致不同位置处的真空镀膜腔的温度差异性较大。此外,冷却介质在由一个流道移动至另一流道时,分隔件的设置也可以对冷却介质进行扰流,提高流道内的冷却介质的均匀性,从而减少靠近冷却腔体的冷却介质的温度一直高于靠近流道中部的冷却介质的温度。
附图说明
图1为本发明的一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构示意图。
图2为图1中略去外腔壁的真空镀膜腔的结构示意图。
图3为本发明的一实施例提供的一种真空镀膜腔的截面示意图。
图4为本发明的一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
图5为本发明的另一实施例提供的一种真空镀膜腔的分隔件的结构示意图。
图6为本发明的另一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
图7为本发明的又一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
001、真空镀膜腔;100、外腔壁;110、进液口;120、出液口;200、内腔壁;210、顶壁;220、底壁;300、分隔件;310、扰流通孔;320、扰流部;400、冷却腔体;410、流道;420、分区冷却空间;430、冷却通道;500、真空腔体;600、隔片;610、第一表面;620、第二表面;700、隔流件。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
本发明的一实施例提供了一种真空镀膜装置。该真空镀膜装置可以镀附金刚石膜层,也可以根据实际需求更换膜层种类。真空镀膜装置包括真空镀膜腔001(图1中示出)。真空镀膜腔001可以安装有镀膜模块(图中未示出)。真空镀膜腔001内具有真空腔体500。在进行真空镀膜时,将待镀膜物品置于真空腔体500内,然后对真空腔体500进行抽真空的方式,降低其中的真空度,后使得镀膜模块工作,以实现对产品进行真空镀膜。
参阅图1-图4,本发明一实施例提供了一种真空镀膜腔001。真空镀膜腔001包括真空腔体500和冷却腔体400。冷却腔体400环绕真空腔体500的周侧设置,且冷却腔体400与真空腔体500互不连通。冷却腔体400可以供冷却介质流通,从而对真空腔体500进行冷却。其中,真空腔体500包括多个分隔件300,多个分隔件300间隔设置于冷却腔体400内,并将冷却腔体400分隔成多个流道410,多个流道410依次连通以形成冷却通道430,冷却腔体400设置有进液口110与出液口120,冷却通道430的一端与进液口110连通,冷却通道430的另一端与出液口120连通。冷却介质可由进液口110进入冷却通道430,并依次沿各流道410流动至出液口120,从而对真空腔体500进行冷却降温。冷却介质可以为冷却水,也可以为冷空气亦或是冷却油等,可根据实际情况进行选取。
在进行真空镀膜时,在一些实施例中,真空镀膜过程中反应温度可高达1000℃,因此,真空镀膜装置会产生较多的热量。在现有技术中,通常采用冷却介质直接通入冷却腔体400的方式进行冷却。然而,这种方式使得冷却介质在冷却介质进口到冷却介质出口之间的流动性较好,而远离冷却介质进口到冷却介质出口之间的冷却腔体400内的冷却介质流动性较差,从而使得真空镀膜腔001的不同位置处的温度差异较大,进而影响真空镀膜的质量。
在本申请的技术方案中,由于分隔件300将冷却腔体400分隔为冷却通道430。冷却介质需沿冷却通道430的延伸方向运动。因此,冷却介质在冷却通道430内的流动性较为均匀,从而使得整个真空镀膜腔001的冷却效果更好、冷却更均匀。此外,设置分隔件300的真空镀膜腔001可以延长冷却介质在冷却腔体400内的流动路程,对于同样体积的冷却介质来说,其停留在冷却腔体400内的时间更长,从而提高热交换效率。另外,分隔件300的设置具有一定的扰流作用,可以使得位于冷却腔体400内的冷却介质的热交换效果更佳,充分利用冷却介质对真空镀膜装置进行冷却。
具体的,在一些实施例中,真空镀膜腔001包括顶壁210、底壁220和内腔壁200。内腔壁200环绕设置于顶壁210和底壁220之间,且内腔壁200与顶壁210和底壁220共同围合形成真空腔体500。此外,真空镀膜腔001还包括外腔壁100,外腔壁100围设于内腔壁200的周侧。冷却腔体400形成于外腔壁100与内腔壁200之间。也就是说,内腔壁200与外腔壁100之间形成夹层结构,夹层部分为前述冷却腔体400。
在一些实施例中,真空腔体500仅围设在内腔壁200的外侧。如图2所示,在另一些实施例中,真空腔体500可以围设于内腔壁200的外侧,以及顶壁210的外侧。也就是说,在该实施例中,至少部分外腔壁100围设于顶壁210的远离底壁220的一侧,其余的外腔壁100围设于内腔壁200的周侧。前述至少部分外腔壁100与顶壁210之间形成冷却腔体400的至少部分。这样的设置方式可以对真空腔体500的顶部进行冷却,从而提升冷却腔体400对真空腔体500的冷却效果。
如图1与图4所示,在一些实施例中。外腔壁100设置有进液口110与出液口120。进液口110与出液口120均与冷却腔体400连通。冷却介质由进液口110进入冷却腔体400,经过冷却通道430后由出液口120流出。
在一些实施例中,沿顶壁210至底壁220的方向上,进液口110所设置的位置低于出液口120所设置的位置。这样的设置方式可以使得冷却介质在冷却腔体400内流动的过程中,克服重力从而提高冷却介质在冷却腔体400内的冷却时间。在其中一些实施例中,进液口110位于外腔壁100的侧壁靠近底壁220处,出液口120设置在外腔壁100的顶部处,即靠近顶壁210处。这样的设置方式不但可以使得冷却介质较好地在冷却腔体400内进行热交换,还可以对真空腔体400的顶部进行较好的冷却。
在一些实施例中,外腔壁100、内腔壁200、顶壁210以及底壁220均为金属材质制得,比如可以为不锈钢等金属材质制得。内腔壁200与顶壁210和底壁220均可以为固定连接,比如可以为焊接,也可以为其他的密封连接方式。
在冷却腔体400仅设置于内腔壁200的外侧的实施例中,外腔壁100可以与顶壁210以及底壁220固定密封连接,以使外腔壁100与内腔壁200之间形成冷却腔体400。
在冷却腔体400设置于内腔壁200的外侧以及顶壁210的外侧的实施例中,外腔壁100可以类似壳状或碗状结构。也就是说,外腔壁100套设于内腔壁200与顶壁210所形成的结构外。外腔壁100的靠近顶壁210的一侧与顶壁210形成部分冷却腔体400,外腔壁100靠近底壁220的一侧与底壁220连接。
在一些实施例中,外腔壁100与内腔壁200之间的间距为定值或近似定值。也就是说,在该实施例中,冷却腔体400的沿外腔壁100至内腔壁200方向上的厚度是定值或者近似为定值。这样的设置方式可以使得冷却介质的冷却时,冷却较为均匀。
在一些实施例中,分隔件300设置于冷却腔体400内。比如,分隔件300可以环设于冷却腔体400内。分隔件300的一侧与外腔壁100连接,分隔件300的另一侧与内腔壁200连接。在其中一些实施例中,分隔件300与外腔壁100焊接,分隔件300与内腔壁200焊接。在其中另一些实施例中,分隔件300与内腔壁200焊接,分隔件300与外腔壁100密封连接。比如,在一实施方式中,外腔壁100设置有连接槽(图中未示出),分隔件300可以卡入连接槽内。此外,在一些实施方式中,连接槽与分隔件300之间可以设置有密封件(如耐高温密封圈,图中未示出)以提高密封效果。
如图4所示,分隔件300为间隔设置。相邻的分隔件300之间形成流道410,各流道410连通一形成前述冷却通道430。冷却通道430的一端与前述进液口110连通,冷却通道430的另一端与前述出液口120连通。冷却介质沿冷却通道430的流动方向如图4中的箭头所示。
在一些实施例中,分隔件300的厚度为定值或近似定值。此处分隔件300的厚度指的是分隔件300垂直于流道410中冷却介质流动的方向上的分隔件300的相背离的两个侧面之间的距离。前述近似定值指的是,分隔件300各处的厚度的差值不超过10%。
在一些实施例中,分隔件300的厚度小于外腔壁100的厚度。分隔件300的厚度小于内腔壁200的厚度。上述设置可以保证分隔件300的强度的同时,减少真空镀膜腔001的整体重量。此外,上述设置还可增加冷却腔体400中可承载的冷却介质的最大体积。
在一些实施例中,如图5所示,分隔件300可以设置有扰流通孔310。扰流通孔310的设置可以使得少量的冷却介质由垂直或近似垂直于流道410的延伸方向进入后续流道410中。这样的设置可以更多地扰动冷却通道430内的冷却介质,加快冷却介质之间的热交换,从而有效提高冷却效果。
在其中一些实施例中,扰流通孔310的孔径可以小于分隔件300的宽度的1/5。比如,在一些实施例中,扰流通孔310的孔径可以为分隔件300宽度的1/5、1/8、1/10或1/15等。前述分隔件300的宽度指的是分隔件300与外腔壁100连接的一端,至分隔件300与内腔壁200连接的一端之间的距离。扰流通孔310的孔径小于分隔件300的宽度的1/5,可以使得少量的冷却介质通过扰流通孔310以进行扰流,减少绝大部分的冷却介质由扰流通孔310流动至下一流道410而产生该流动内的冷却介质热交换效果降低的情况发生。
在一些实施例中,沿顶壁210至底壁220方向上,相邻的分隔件300所设置的扰流通孔310在外腔壁100底部所在平面的投影不重合。这样的设置可以增强扰流效果,从而提高冷却介质的冷却效果。
在一些实施例中,沿外腔壁100的顶壁210至底壁220的方向,各分隔件300所开设的扰流通孔310的孔径逐渐增大。这样的设置可以使得真空镀膜腔001的冷却效果提高。
在一些实施例中,沿外腔壁100的顶壁210至底壁220的方向,间隔设置开设有前述扰流通孔310的分隔件300,以及未开设有前述扰流通孔310的分隔件300。这样的设置可以减少部分冷却介质沿各分隔件300所设置的扰流通孔310移动至出液口120,从而提高冷却介质的冷却效率。
如图5所示,在一些实施例中,分隔件300可以设置有扰流部320。扰流部320凸出于分隔件300用于形成流道410侧壁的表面。扰流部320凸出于分隔件300的高度,小于流道410的高度。前述流道410的高度指的是相邻的两个分隔件300之间的距离。扰流部320的设置可以增加扰流效果,从而使得位于流道410内的冷却介质更加均匀,从而提高冷却效果。
在一些实施例中,分隔件300与扰流部320可以为固定设置,也可以为可拆卸设置。比如,分隔件300与扰流部320可以为焊接或一体成型设置。又比如,分隔件300与扰流部320可以为螺纹连接,即分隔件300设置有螺纹孔(图中未示出),扰流部320设置有与螺纹孔相配合的螺纹结构(图中未示出)。
在一些实施例中,至少部分的分隔件300均未设置扰流通孔310以及扰流部320。在一些实施例中,至少部分的分隔件300可以仅设置前述扰流通孔310。在一些实施例中,至少部分的分隔件300可以仅设置前述扰流部320。在一些实施例中,至少部分的分隔件300可以同时设置扰流通孔310以及扰流部320。其中,扰流通孔310与扰流部320可以间隔设置。这样的设置方式可以使得扰流效果更好。
在一些实施例中,冷却通道430可以为沿外腔壁100的顶壁210至底壁220的方向设置的螺旋形冷却通道。这样的设置可以使得冷却介质在沿冷却通道430流动过程中,更多地与内腔壁200进行热交换。在该实施例中,分隔件300可以首尾连接,以形成一个螺旋形的冷却通道430。
在一些实施例中,冷却通道430可以为沿外腔壁100的底部至顶部的方向往复设置的回廊型冷却通道。这样的设置可以将真空镀膜腔001的产热较大处设置进液口110,从而提高冷却均匀性,提高冷却效果。
回看图3与图4,在一些实施例中,真空镀膜腔001还包括隔片600。隔片600沿顶壁210至底壁220的方向设置。隔片600位于冷却腔体400内。隔片600的一侧与外腔壁100连接,隔片600的另一侧与内腔壁200连接。沿外腔壁100顶壁210至底壁220方向上,相邻的分隔件300中,一个分隔件300的第一侧与隔片600的第一表面610连接,分隔件300的第二侧与隔片600的第二表面620之间形成空隙,另一个分隔件300的第一侧与隔片600的第一表面610之间形成空隙,分隔件300的第二侧与隔片600的第二表面620连接。
冷却介质沿冷却通道430的流动方向如图4中的箭头所示。隔片600的设置可以使得冷却介质在沿冷却通道430流动时,运动至分隔件300与隔片600之间的空隙时,改变原流动方向,以进入另外两个分隔件300所形成的另一通道。在上述过程中,冷却介质在空隙处内部进行混合,混合效果较好。
在一些实施例中,隔片600沿第一表面610至第二表面620方向上的厚度,大于等于分隔件300的厚度。这样的设置可以使得隔片600的强度较高,减少了冷却介质在冲击隔片600时对隔片600造成损伤。在一些其他的实施例中,隔片600的厚度也可以小于分隔件300的厚度。
在一些实施例中,隔片600的长度方向与顶壁210至底壁220的方向一致,即如图4中所示。在另一些实施例中,隔片600的长度方向与顶壁210至底壁220的方向形成一定夹角,比如夹角可以为小于等于45°。在其他一些实施例中,隔片600的一侧与底壁220连接,隔片600的另一侧与顶壁210连接,隔片600的中部可以具有至少部分曲线段(图中未示出)。
如图6与图7所示,在一些实施例中,真空镀膜腔001还包括隔流件700。隔流件700设置于冷却腔体400内。隔流件700的一端与外腔壁100连接,隔流件700的另一端与内腔壁200连接。隔流件700用于将冷却通道430分割为至少两个不连通的分区冷却空间420。也就是说,隔流件700的设置可以使得冷却通道430形成至少两个分区冷却空间420。这样的设置可以便于分区调控冷却介质的通入量与通入速率,从而改变局部区域的冷却效果,提高真空腔体500的局部温度调控,使得冷却效果有所提升。
在一些实施例中,继续参看图6与图7,各分区冷却空间420的侧壁设置有对应的进液口110与出液口120。在其中一些实施例中,各分区冷却空间420对应的进液口110以及出液口120均为独立设置。在另一些实施例中,各分区冷却空间420对应的进液口110为独立设置,各分区冷却空间420对应的出液口120可以通过出液管(图中未示出)连通。这种设置方式可以便于冷却介质回收。
在一些实施例中,各分区冷却空间420所对应的进液口110处可以设置有流量控制装置(图中未示出),比如可以设置流量计,以控制进入对应分区冷却空间420内的冷却介质的流量与流速,从而控制相应区域的温度。
在一些实施例中,各分区冷却空间420内的冷却介质的温度可以相同也可以不同。在一些其他的实施例中,不同的分区冷却空间420也可以采用不同的冷却介质。比如在一些分区冷却空间420中,冷却介质选用冷却水,在另一些分区冷却空间420中,冷却介质可以选用冷空气。
在一些实施例中,不同的各分区冷却空间420的空间体积可以相同也可以不同,可根据实际情况进行调整。
具体的,在一些实施例中,隔流件700沿外腔壁100的底部至顶部的方向将冷却通道430分割为至少两个不连通的分区冷却空间420。
也就是说,沿顶壁210至底壁220方向,冷却腔体400形成至少两个独立的分区冷却空间420。对应的,各分区冷却空间420的侧壁设置有对应的进液口110与出液口120。在一些实施例中,隔流件700可以沿外腔壁100的周向环形设置。即隔流件700的内环侧与内腔壁200密封连接,隔流件700的外环侧与外腔壁100密封连接。连接方式可以选用焊接。在其中一些实施例中,隔流件700可以设置于两个分隔件300之间。隔流件700两侧的冷却腔体400相互独立。
在一些实施方式中,各分区冷却空间420所对应的进液口110均位于对应出液口120的下方。这样的设置可以便于冷却过程中,冷却介质可以与真空腔体500进行较好的热交换。
在一些实施例中,至少部分分区冷却空间420内的分隔件300开设有扰流通孔310(图5中示出)。也就是说,至少部分分隔件300可以设置有扰流通孔310。具有扰流通孔310的分隔件300可以设置在同一分区冷却空间420内,也可以设置于不同的分区冷却空间420内,可以根据实际情况进行调整。设置有扰流通孔310的分隔件300可以使得对应分区冷却空间420内的冷却介质内部混合更加均匀,从而提高冷却效果。
如图6所示,在一些实施例中,至少部分分区冷却空间420内设置有隔片600。隔片600的设置可以使得对应分区冷却空间420内的冷却介质在流动时,冷却介质混合更加均匀。
参看图7,在一些实施例中,沿外腔壁100底部至顶部的方向,冷却腔体400形成至少两个独立的分区冷却空间420。各分区冷却空间420沿顶壁210至底壁220的方向的高度可以相同。各分区冷却空间420内所容置的分隔件300的数量可以相同。在另一些实施例中,各分区冷却空间420沿顶壁210至底壁220方向的高度可以部分相同,各分区冷却空间420内所容置的分隔件300的数量可以均相同。也就是说,在不同的各分区冷却空间420内所容置的分隔件300之间的间隙可以不同。在一些其他的实施例中,各分区冷却空间420沿顶壁210至底壁220方向的高度可以不相同,各分区冷却空间420内所容置的分隔件300的数量可以不相同,也就是说,各分区冷却空间420内的相邻的分隔件300之间的间距可以不同。上述设置可以根据真空镀膜腔001不同部分所需冷却程度不同而进行改变。
如图6所示,在另一些实施例中,隔流件700沿外腔壁100的周向将冷却通道430分割为至少两个不连通的分区冷却空间420。
也就是说,沿外腔壁100的周向具有至少两个独立的分区冷却空间420。对应的,各分区冷却空间420的侧壁设置有对应的进液口110与出液口120。在一些实施例中,隔流件700可以沿外腔壁100底部至顶部的方向设置。隔流件700的数量为至少两个。相邻的隔流件700形成一个前述分区冷却空间420。
在其他一些实施例中,隔流件700可以将冷却通道430分割为至少两个不连通的不规则的分区冷却空间420。隔流件700的部分侧壁围设形成对应分区冷却空间420的壁面。比如,在一些实施例中,隔流件700可以将冷却通道430分割为两个不连通的不规则的分区冷却空间420。隔流件700为环形隔流件700。隔流件700内环形状可以为不规则形状。隔流件700内环形成其中一个分区冷却空间420。隔流件700外环与外腔壁100及内腔壁200围设形成另一个分区冷却空间420。
本发明所公开的真空镀膜腔001在对真空腔体500进行冷却时,将冷却介质由进液口110通入至冷却通道430,然后冷却介质沿冷却通道430由出液口120流出。在上述过程中,冷却介质沿冷却通道430均匀分布在冷却腔体400内,提高冷却均匀性。分隔件300可以对冷却介质进行扰流,使得冷却介质在冷却腔体400内混合较为均匀,从而提高冷却效果。在其中一些实施例中,分隔件300配合隔片600,可以使得冷却介质在冷却通道430流动时,扰流混合均匀效果更好,且可以增加冷却介质在冷却腔体400内的移动路径长度,从而提高对真空腔体500的冷却效果。
在其中另一些实施例中,通过隔流件700的设置,使得不同区域可以控制不同的冷却效果,从而针对真空腔体500进行局域性的针对冷却,使得真空镀膜腔001的温度均匀。比如,可以针对真空腔体500发热量较高的区域进行单独调控,增加冷却介质的流动,从而便于提高该部分的冷却效果,从而使得真空镀膜腔001的整体温度较为均匀。配合分隔件300的设置,可以使得各分区冷却空间420内的冷却介质均较为均匀,减少靠近内腔壁200的冷却介质的温度一直高于靠近外腔壁100的冷却介质的温度,从而提高真空腔体500的冷却效果,使得产品上所镀的膜层的质量较好。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种真空镀膜腔,其特征在于,包括真空腔体和冷却腔体,所述冷却腔体环绕所述真空腔体的周侧与顶侧设置,且所述冷却腔体与所述真空腔体互不连通,所述真空腔体包括多个分隔件,多个分隔件间隔设置于所述冷却腔体内,并将所述冷却腔体分隔成多个流道,多个所述流道依次连通以形成冷却通道,所述冷却腔体设置有进液口和出液口,所述进液口所设置的位置低于所述出液口所设置的位置,所述冷却通道的一端与所述进液口连通,所述冷却通道的另一端与所述出液口连通;
所述真空镀膜腔包括顶壁、底壁和内腔壁,所述内腔壁环绕设置于所述顶壁和所述底壁之间,且所述内腔壁与所述顶壁和底壁共同围合形成所述真空腔体;所述真空镀膜腔包括外腔壁,所述外腔壁围设于所述内腔壁的周侧与顶侧,所述冷却腔体形成于所述外腔壁与所述内腔壁之间;
所述真空镀膜腔还包括隔片,所述隔片沿所述顶壁至所述底壁的方向设置,所述隔片位于所述冷却腔体内,所述隔片的一侧与所述外腔壁连接,所述隔片的另一侧与所述内腔壁连接;沿所述顶壁至所述底壁的方向上,相邻的所述分隔件中,一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面连接,所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面之间形成空隙,另一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面之间形成空隙,所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面连接;
所述真空镀膜腔还包括隔流件,所述隔流件设置于所述冷却腔体内,所述隔流件的一端与所述外腔壁连接,所述隔流件的另一端与所述内腔壁连接;所述隔流件用于将所述冷却通道分割为至少两个不连通的分区冷却空间;各所述分区冷却空间均设置有进液口与出液口,各所述进液口独立设置,所述出液口至少部分独立设置。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述出液口设置于所述冷却腔体的顶部。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,至少部分所述外腔壁围设于所述顶壁的远离所述底壁的一侧,所述至少部分所述外腔壁与所述顶壁之间形成至少部分所述冷却腔体。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述冷却通道沿外腔壁的底部至顶部的方向往复设置并呈回廊型。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述隔流件沿所述外腔壁的底部至顶部的方向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
6.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述隔流件沿所述外腔壁的周向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,各所述分区冷却空间所对应的所述进液口处设置流量控制装置。
8.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述分隔件设置扰流通孔。
9.根据权利要求1所述的真空镀膜腔,其特征在于,所述分隔件设置扰流部。
10.一种真空镀膜装置,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的真空镀膜腔。
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