CN210030874U - 真空镀膜设备 - Google Patents
真空镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN210030874U CN210030874U CN201920716025.XU CN201920716025U CN210030874U CN 210030874 U CN210030874 U CN 210030874U CN 201920716025 U CN201920716025 U CN 201920716025U CN 210030874 U CN210030874 U CN 210030874U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cooling
- vacuum furnace
- vacuum
- wall surface
- liquid inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型涉及一种真空镀膜设备，包括真空炉、蒸发热源、冷却装置、以及旋转支架。真空炉内形成有镀膜腔室，蒸发热源设置在真空炉的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到镀膜腔室内。冷却装置包括在真空炉的外壁面周向分布的至少两组冷却组件，每一冷却组件包括在真空炉的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道、出液通道、以及在真空炉的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路，冷却支路一端连通进液通道，并由进液通道沿真空炉的外壁向下倾斜连通至出液通道。冷却液进入进液通道，再从各冷却支路分流流到出液通道流出，在冷却液流动过程中，可以将真空炉的热量带走，使真空炉内的温度保持在镀膜需求的范围内，还可开启适当数量的冷却组件冷却。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜领域，更具体地说，涉及一种真空镀膜设备。
背景技术
相关技术中的镀膜设备的真空炉外侧的冷却方式通常为自然冷，或采用气冷的方式，其冷却效率较低，会导致真空炉的温度过高，而影响镀膜的颜色和厚度，使镀膜效果不稳定。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题在于，提供一种改进的真空镀膜设备。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种真空镀膜设备，包括真空炉、蒸发热源、冷却装置、以及旋转支架；
所述真空炉内形成有镀膜腔室，所述蒸发热源设置在所述真空炉的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到所述镀膜腔室内；
所述冷却装置包括在所述真空炉的外壁面周向分布的至少两组冷却组件，每一冷却组件包括在所述真空炉的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道、出液通道、以及在所述真空炉的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路，所述冷却支路一端连通所述进液通道，并由所述进液通道沿所述真空炉的外壁向下倾斜连通至所述出液通道；
所述旋转支架可转动地安装在所述真空炉内，所述旋转支架包括竖直设置的旋转轴，所述旋转轴的轴向上分布有水平伸出的若干组安装臂，供工件安装后随所述旋转支架在所述镀膜腔室内转动，每一组所述安装臂包括在所述旋转轴的周向分布的至少两个安装臂。
优选地，所述冷却装置还包括套设在所述冷却组件外的隔离套，所述隔离套的内侧和所述真空炉的外壁面之间形成有冷却腔，供冷却介质流通通过。
优选地，所述进液通道的上端为冷却液进入所述进液通道的进液口，所述出液通道的下端为冷却液流出的出液口。
优选地，所述真空炉的外壁面周向均匀分布有四组所述冷却组件，且各所述冷却组件相对所述真空炉的轴线中心对称。
优选地，所述安装臂上设有可绕水平轴线转动地工件支架，所述工件支架上设有若干供工件安装的安装位，且各所述安装位在所述工件支架上绕所述工件支架的转动轴线中心对称分布。
优选地，所述安装臂上安装有供所述工件支架安装的驱动轴、以及带动所述驱动轴转动地驱动电机。
优选地，所述真空炉的底部设有与所述旋转轴的下端转动配合的承载座，以及带动所述旋转支架和承载座升降的升降台。
优选地，所述蒸发热源包括分布在所述真空炉的内壁面上、且位于上下两相邻所述安装臂之间的若干蒸发点。
实施本实用新型的真空镀膜设备，具有以下有益效果：冷却液可以先进入进液通道，再从各冷却支路分流流到出液通道，再从出液通道流出，在冷却液流动过程中，可以将真空炉的热量带走，使真空炉内的温度保持在镀膜需求的范围内。另外，可根据冷却的需求，选择开启适当数量的冷却组件，使真空炉内的温度适当降低，真空炉内温度高出较多时，可以开启多的冷却组件，真空炉内温度高出较少时，可以开启少的冷却组件，使得真空炉内的温度调节灵敏度更高。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：
图1是本实用新型实施例中的真空镀膜设备的内部结构示意图；
图2是本实用新型实施例中的真空镀膜设备的真空炉外壁上的冷却组件的排布示意图；
图3是图2中真空镀膜设备的俯视方向冷却组件和隔离套的组装示意图。
具体实施方式
为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。
如图1、图2所示，本实用新型一个优选实施例中的真空镀膜设备包括真空炉1、蒸发热源2、冷却装置3、以及旋转支架4。真空炉1内形成有镀膜腔室11，蒸发热源2设置在真空炉1的内壁面上，以在通电后将镀膜材料加热蒸发到镀膜腔室11内，可以沉积到工件表面镀膜。
结合图1至图3所示，进一步地，冷却装置3包括在真空炉1的外壁面周向分布的至少两组冷却组件31，每一冷却组件31包括在真空炉1的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道311、出液通道312、以及在真空炉1的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路313，冷却支路313一端连通进液通道311，并由进液通道311沿真空炉1的外壁向下倾斜连通至出液通道312。
冷却液可以先进入进液通道311，再从各冷却支路313分流流到出液通道 312，再从出液通道312流出，在冷却液流动过程中，可以将真空炉1的热量带走，使真空炉1内的温度保持在镀膜需求的范围内。另外，可根据冷却的需求，选择开启适当数量的冷却组件31，使真空炉1内的温度适当降低，真空炉1内温度高出较多时，可以开启多的冷却组件31，真空炉1内温度高出较少时，可以开启少的冷却组件31，使得真空炉1内的温度调节灵敏度更高。
优选地，进液通道311的上端为冷却液进入进液通道311的进液口314，接上管道让冷却液流入进液通道311，出液通道312的下端为冷却液流出的出液口315，让冷却液流动时可以依靠重力自动流下，经管道排出，不会在内部产生残留，使吸收的余热排出更充分。
在本实施例中，真空炉1的外壁面周向均匀分布有四组冷却组件31，且各冷却组件31相对真空炉1的轴线中心对称，可以根据冷却需求开启适当的冷却组件31，利于控制冷却的效率，保证能按需求冷却。冷却组件31还可以与真空炉1拆分开，更换不同结构的冷却组件31。
进一步地，旋转支架4可转动地安装在真空炉1内，旋转支架4包括竖直设置的旋转轴41，旋转轴41的轴向上分布有水平伸出的若干组安装臂42，安装臂42可供工件安装后随旋转支架4在镀膜腔室11内转动，让工件上沉积蒸发的镀膜材料。
优选地，每一组安装臂42包括在旋转轴41的周向分布的至少两个安装臂 42，可以在旋转轴41周向上分布的安装臂42上装上工件，提升生产效率。
在一些实施例中，蒸发热源2包括分布在真空炉1的内壁面上、且位于上下两相邻安装臂42之间的若干蒸发点21，各蒸发点21可分别加热蒸发镀膜材料，使蒸发的镀膜材料在镀膜腔室11内分布的更加均匀，同时，蒸发点21 也相对各安装臂42的位置分布更加均匀，利于在各不同位置的工件上沉积厚度均匀的沉积膜。
进一步地，冷却装置3还包括套设在冷却组件31外的隔离套32，隔离套 32的内侧和真空炉1的外壁面之间形成有冷却腔33，供冷却介质流通通过。冷却腔33内可以供冷却气体、冷却液等冷却介质流通通过，进一步带走多余的热量。冷却腔33内流通冷却介质的冷却方式可以与采用冷却组件31冷却的冷却方式同时进行，也可分别进行。
在一些实施例中，安装臂42上设有可绕水平轴线转动地工件支架43，工件支架43上设有若干供工件安装的安装位431，且各安装位431在工件支架 43上绕工件支架43的转动轴线中心对称分布。工件支架43在安装臂42上转动时，可以让工件支架43不同位置的工件交换高度位置，以能让不同位置的工件沉积更加均匀的镀膜厚度，不会产生较大差异。
进一步地，安装臂42上安装有供工件支架43安装的驱动轴、以及带动驱动轴转动的驱动电机，在进行镀膜作业时，驱动电机可以带动驱动轴转动，进一步带动工件支架43转动。也可在外部电机的运转下，通过齿轮传动等机构带动工件支架43的转动。
在一些实施例中，真空炉1的底部设有与旋转轴41的下端转动配合的承载座5，以及带动旋转支架4和承载座5升降的升降台6，升降台6可由电机、油缸等驱动，调节旋转支架4的高度时，也调节了工件相对蒸发点21的高度位置，进而可以调节沉积到工件上的镀膜厚度，满足不同的镀膜厚度需求。
可以理解地，上述各技术特征可以任意组合使用而不受限制。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括真空炉(1)、蒸发热源(2)、冷却装置(3)、以及旋转支架(4)；
所述真空炉(1)内形成有镀膜腔室(11)，所述蒸发热源(2)设置在所述真空炉(1)的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到所述镀膜腔室(11)内；
所述冷却装置(3)包括在所述真空炉(1)的外壁面周向分布的至少两组冷却组件(31)，每一冷却组件(31)包括在所述真空炉(1)的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道(311)、出液通道(312)、以及在所述真空炉(1)的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路(313)，所述冷却支路(313)一端连通所述进液通道(311)，并由所述进液通道(311)沿所述真空炉(1)的外壁向下倾斜连通至所述出液通道(312)；
所述旋转支架(4)可转动地安装在所述真空炉(1)内，所述旋转支架(4)包括竖直设置的旋转轴(41)，所述旋转轴(41)的轴向上分布有水平伸出的若干组安装臂(42)，供工件安装后随所述旋转支架(4)在所述镀膜腔室(11)内转动，每一组所述安装臂(42)包括在所述旋转轴(41)的周向分布的至少两个安装臂(42)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述冷却装置(3)还包括套设在所述冷却组件(31)外的隔离套(32)，所述隔离套(32)的内侧和所述真空炉(1)的外壁面之间形成有冷却腔(33)，供冷却介质流通通过。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述进液通道(311)的上端为冷却液进入所述进液通道(311)的进液口(314)，所述出液通道(312)的下端为冷却液流出的出液口(315)。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空炉(1)的外壁面周向均匀分布有四组所述冷却组件(31)，且各所述冷却组件(31)相对所述真空炉(1)的轴线中心对称。
5.根据权利要求1至4任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述安装臂(42)上设有可绕水平轴线转动地工件支架(43)，所述工件支架(43)上设有若干供工件安装的安装位(431)，且各所述安装位(431)在所述工件支架(43)上绕所述工件支架(43)的转动轴线中心对称分布。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述安装臂(42)上安装有供所述工件支架(43)安装的驱动轴、以及带动所述驱动轴转动地驱动电机。
7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空炉(1)的底部设有与所述旋转轴(41)的下端转动配合的承载座(5)，以及带动所述旋转支架(4)和承载座(5)升降的升降台(6)。
8.根据权利要求1至4任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述蒸发热源(2)包括分布在所述真空炉(1)的内壁面上、且位于上下两相邻所述安装臂(42)之间的若干蒸发点(21)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920716025.XU CN210030874U (zh) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | 真空镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920716025.XU CN210030874U (zh) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | 真空镀膜设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN210030874U true CN210030874U (zh) | 2020-02-07 |
Family
ID=69366526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201920716025.XU Expired - Fee Related CN210030874U (zh) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | 真空镀膜设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN210030874U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114875381A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-09 | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 | 真空镀膜腔和真空镀膜设备 |
-
2019
- 2019-05-17 CN CN201920716025.XU patent/CN210030874U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114875381A (zh) * | 2022-05-13 | 2022-08-09 | 东莞市华升真空镀膜科技有限公司 | 真空镀膜腔和真空镀膜设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100433264C (zh) | 半导体制造装置 | |
| CN107058697B (zh) | 一种大型封头的水冷淬火装置 | |
| CN210030874U (zh) | 真空镀膜设备 | |
| CN113621920B (zh) | 一种真空镀膜机的真空镀膜方法 | |
| SE447830B (sv) | Sett och apparat for samtidig forstoftning av ett flertal cylindrar | |
| CN112029970B (zh) | 一种用于齿圈的淬火系统 | |
| CN102560432A (zh) | 一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备 | |
| CN103602950B (zh) | 蒸发源装置及蒸发源设备 | |
| CN108422198A (zh) | 多工位钻攻加工中心 | |
| CN109423629B (zh) | 圆盘类零件一次性全表面沉积用工件驱动装置及气相沉积炉 | |
| CN211471545U (zh) | 一种化学气相沉积行星托盘装置 | |
| CN115247230B (zh) | 一种基于风电法兰生产用热处理设备及其方法 | |
| CN109423623B (zh) | 气相沉积炉的均匀供气装置及气相沉积炉 | |
| CN115928045A (zh) | 一种刀具涂层喷涂装置及其喷涂工艺 | |
| CN216192518U (zh) | 一种轴承保持架加工用淬火装置 | |
| CN106661725B (zh) | 一种真空镀膜设备 | |
| KR101208995B1 (ko) | 증착용기를 구비하는 증착장치 | |
| CN105339522A (zh) | 一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法 | |
| CN109234503A (zh) | 一种用于桶形工件的淬火装置 | |
| CN213480718U (zh) | 一种pvdf装饰膜生产用冷却装置 | |
| KR101077946B1 (ko) | 일면 코팅 지그를 갖는 다 기판 연속 코팅장치 | |
| CN204022935U (zh) | 一种真空镀膜设备 | |
| CN210304952U (zh) | 一种用于零件清洗后风干的装置 | |
| CN208322678U (zh) | 多工位钻攻加工中心 | |
| CN113476870A (zh) | 一种卧式锥形降膜蒸发器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20200207 Termination date: 20210517 |