CN114871225A - 一种铜箔电解池自动清理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种铜箔电解池自动清理装置，涉及电解池清理技术领域。本发明包括基板，基板上侧装设有侧板，侧板一侧滑动配合有两个轴杆、以及活动配合有杆体、两个转杆，杆体位于轴杆与转杆之间，轴杆周侧转动配合有转动组件，杆体周侧装设有第二防滑层，转杆周侧装设有毛刷层，其中一个转杆一端装设有海绵块，基板上侧滑动配合有支撑杆。本发明通过第二防滑层便于杆体转动带动电解池转动，通过转动组件转动，降低电解池转动与转动组件之间摩擦产生划痕的概率，通过限位组件降低电解池清洁时从装置上脱落的概率，通过毛刷层、海绵块、限位组件对电解池进行全方位清洁，减少电解铜箔杂质在电解池上的附着。

Description

一种铜箔电解池自动清理装置
技术领域
本发明属于电解池清理技术领域，特别是涉及一种铜箔电解池自动清理装置。
背景技术
电解铜箔是覆铜板及印制电路板、锂离子电池制造的重要的材料，在当今电子信息产业高速发展中，电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”。
现有的铜箔电解过程中，电解池内会有电解铜箔杂质，若不及时处理，会影响铜箔电解效率，影响产品质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种铜箔电解池自动清理装置，解决了现有的铜箔电解过程中，电解池内会有电解铜箔杂质，若不及时处理，会影响铜箔电解效率，影响产品质量的技术问题。
为达上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：
一种铜箔电解池自动清理装置，包括基板，基板上侧装设有侧板，侧板一侧滑动配合有两个轴杆、以及活动配合有杆体、两个转杆，杆体、转杆均位于两个轴杆之间，杆体位于轴杆与转杆之间，轴杆周侧转动配合有转动组件，杆体周侧装设有第二防滑层，转杆周侧装设有毛刷层，其中一个转杆一端装设有海绵块，基板上侧滑动配合有支撑杆，支撑杆上端装设有第三电机，第三电机输出端装设有限位组件，限位组件位于轴杆、杆体、转杆与第三电机之间。
可选的，侧板一侧开设有两个第一滑槽，第一滑槽内壁一侧开设有第一槽道，侧板内装设有两个第一电动推杆，第一电动推杆输出端装设有滑动配合在第一槽道内的第一滑块，第一滑块位于两个第一电动推杆之间，轴杆一端装设在第一滑块的一侧，轴杆贯穿第一滑槽，转动组件包括转动配合在轴杆周侧的转筒，转筒周侧装设有第一防滑层。
可选的，侧板一侧开设有第二滑槽，第二滑槽位于两个第一滑槽之间，第二滑槽内壁一侧开设有第二槽道，侧板内装设有第二电动推杆，第二电动推杆输出端装设有滑动配合在第二槽道内的第一电机，杆体一端装设在第一电机的输出端，杆体贯穿第二滑槽。
可选的，侧板一侧开设有第三滑槽，第三滑槽位于第二滑槽的上方，第三滑槽内壁一侧开设有第三槽道，侧板内装设有两个第三电动推杆，第三电动推杆输出端装设有第二电机，两个第二电机均滑动配合在第三槽道内，第二电机位于两个第三电动推杆之间，转杆一端装设在第二电机的输出端，转杆贯穿第三滑槽，侧板一侧装设有两个喷嘴，喷嘴位于第二滑槽的上方，第三滑槽位于两个喷嘴之间，喷嘴与毛刷层相对应。
可选的，基板上侧开设有第四滑槽，第四滑槽内壁下侧开设有第四槽道，基板内装设有第四电动推杆，第四电动推杆输出端装设有滑动配合在第四槽道内的第二滑块，支撑杆下端装设在第二滑块的上侧，支撑杆贯穿第四滑槽，限位组件包括装设在第三电机输出端的圆板，圆板一端装设有清洁层，圆板位于清洁层与第三电机之间。
本发明的实施例具有以下有益效果：
本发明的一个实施例通过第二防滑层便于杆体转动带动电解池转动，通过转动组件转动，降低电解池转动与转动组件之间摩擦产生划痕的概率，通过限位组件降低电解池清洁时从装置上脱落的概率，通过毛刷层、海绵块、限位组件对电解池进行全方位清洁，减少电解铜箔杂质在电解池上的附着，降低电解铜箔杂质对铜箔电解效率和产品质量的影响。
当然，实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为本发明一实施例的立体结构示意图；
图2为图1中A处结构示意图；
图3为图1中B处结构示意图；
图4为本发明一实施例的剖面结构示意图。
其中，上述附图包括以下附图标记：
基板1，侧板101，第一滑槽102，第一槽道103，第二滑槽104，第二槽道105，第三滑槽106，第三槽道107，第四滑槽108，第一电动推杆2，第一滑块201，轴杆202，转筒3，第一防滑层301，第二电动推杆4，第一电机401，杆体402，第二防滑层403，第三电动推杆5，第二电机501，转杆502，毛刷层503，海绵块504，喷嘴6，第四电动推杆7，支撑杆701，第三电机702，圆板8，清洁层801。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
为了保持本发明实施例的以下说明清楚且简明，本发明省略了已知功能和已知部件的详细说明。
请参阅图1-4所示，在本实施例中提供了一种铜箔电解池自动清理装置，包括：基板1，基板1上侧装设有侧板101，侧板101一侧滑动配合有两个轴杆202、以及活动配合有杆体402、两个转杆502，杆体402、转杆502均位于两个轴杆202之间，杆体402位于轴杆202与转杆502之间，轴杆202周侧转动配合有转动组件，杆体402周侧装设有第二防滑层403，转杆502周侧装设有毛刷层503，其中一个转杆502一端装设有海绵块504，基板1上侧滑动配合有支撑杆701，支撑杆701上端装设有第三电机702，第三电机702输出端装设有限位组件，限位组件位于轴杆202、杆体402、转杆502与第三电机702之间。
本实施例一个方面的应用为：使用时，将电解池开口对准杆体402和带有海绵块504的转杆502套入，此时，杆体402和带有海绵块504的转杆502位于电解池内部，而轴杆202和另一个转杆502位于电解池的外部，然后，根据电解池直径，两个轴杆202滑动调整距离，根据电解池厚度，杆体402下移使第二防滑层403与两个转动组件夹持电解池的杯壁，然后带有海绵块504的转杆502上移。使其毛刷层503与电解池内壁接触，另一个转杆502下移，使其毛刷层503与电解池外壁接触，支撑杆701滑动带动限位组件抵触电解池的杯底，然后杆体402带动第二防滑层403转动，第二防滑层403转动带动电解池转动，第三电机702工作带动限位组件与电解池同步转动，然后转杆502转动带动毛刷层503旋转对电解池的内外壁进行清洁，当电解池内外侧壁清洁完成时，带有海绵块504的转杆502上下位移并旋转，同时第二防滑层403带动电解池转动，使海绵块504对电解池内壁底部进行清洁，最后，第二防滑层403停止转动，限位组件转动对电解池的杯底进行清洁。需要注意的是，本申请中所涉及的用电设备均可通过蓄电池供电或外接电源。
通过第二防滑层403便于杆体402转动带动电解池转动，通过转动组件转动，降低电解池转动与转动组件之间摩擦产生划痕的概率，通过限位组件降低电解池清洁时从装置上脱落的概率，通过毛刷层503、海绵块504、限位组件对电解池进行全方位清洁，减少电解铜箔杂质在电解池上的附着，降低电解铜箔杂质对铜箔电解效率和产品质量的影响。
如图2-4所示，本实施例的侧板101一侧开设有两个第一滑槽102，第一滑槽102内壁一侧开设有第一槽道103，侧板101内装设有两个第一电动推杆2，第一电动推杆2输出端装设有滑动配合在第一槽道103内的第一滑块201。第一滑块201位于两个第一电动推杆2之间，轴杆202一端装设在第一滑块201的一侧，轴杆202贯穿第一滑槽102，通过第一电动推杆2伸缩带动第一滑块201在第一槽道103内滑动，从而调整两个轴杆202之间的距离。转动组件包括转动配合在轴杆202周侧的转筒3，转筒3周侧装设有第一防滑层301，通过第一防滑层301提高电解池转动带动转筒3转动的概率。
如图2-4所示，本实施例的侧板101一侧开设有第二滑槽104，第二滑槽104位于两个第一滑槽102之间，第二滑槽104内壁一侧开设有第二槽道105，侧板101内装设有第二电动推杆4，第二电动推杆4输出端装设有滑动配合在第二槽道105内的第一电机401，杆体402一端装设在第一电机401的输出端，杆体402贯穿第二滑槽104，通过第二电动推杆4伸缩带动第一电机401在第二槽道105内滑动，从而调整杆体402与轴杆202之间的位置关系，通过第一电机401工作带动杆体402转动。
如图2-4所示，本实施例的侧板101一侧开设有第三滑槽106，第三滑槽106位于第二滑槽104的上方，第三滑槽106内壁一侧开设有第三槽道107，侧板101内装设有两个第三电动推杆5，第三电动推杆5输出端装设有第二电机501，两个第二电机501均滑动配合在第三槽道107内。第二电机501位于两个第三电动推杆5之间，转杆502一端装设在第二电机501的输出端，转杆502贯穿第三滑槽106，通过第三电动推杆5伸缩带动第二电机501在第三槽道107内滑动，通过第二电机501工作带动转杆502转动，进而带动毛刷层503或海绵块504转动。
如图2所示，本实施例的侧板101一侧装设有两个喷嘴6，喷嘴6位于第二滑槽104的上方，第三滑槽106位于两个喷嘴6之间，喷嘴6与毛刷层503相对应，工作时，喷嘴6对毛刷层503方向进行喷水，对毛刷层503和电解池的内壁或外壁进行清洗。
如图1-4所示，本实施例的基板1上侧开设有第四滑槽108，第四滑槽108内壁下侧开设有第四槽道，基板1内装设有第四电动推杆7，第四电动推杆7输出端装设有滑动配合在第四槽道内的第二滑块，支撑杆701下端装设在第二滑块的上侧，支撑杆701贯穿第四滑槽108，通过第四电动推杆7伸缩带动第二滑块在第四槽道内滑动。限位组件包括装设在第三电机702输出端的圆板8，圆板8一端装设有清洁层801，圆板8位于清洁层801与第三电机702之间，通过清洁层801转动对电解池的杯底进行清洁。
上述实施例可以相互结合。
需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
在本发明的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

Claims (10)

1.一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，包括：基板(1)，基板(1)上侧装设有侧板(101)，侧板(101)一侧滑动配合有两个轴杆(202)、以及活动配合有杆体(402)、两个转杆(502)，杆体(402)位于轴杆(202)与转杆(502)之间，轴杆(202)周侧转动配合有转动组件，杆体(402)周侧装设有第二防滑层(403)，转杆(502)周侧装设有毛刷层(503)，其中一个转杆(502)一端装设有海绵块(504)，基板(1)上侧滑动配合有支撑杆(701)，支撑杆(701)上端装设有第三电机(702)，第三电机(702)输出端装设有限位组件。
2.如权利要求1所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，侧板(101)一侧开设有两个第一滑槽(102)，第一滑槽(102)内壁一侧开设有第一槽道(103)，侧板(101)内装设有两个第一电动推杆(2)，第一电动推杆(2)输出端装设有滑动配合在第一槽道(103)内的第一滑块(201)。
3.如权利要求2所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，第一滑块(201)位于两个第一电动推杆(2)之间，轴杆(202)一端装设在第一滑块(201)的一侧，轴杆(202)贯穿第一滑槽(102)。
4.如权利要求3所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，转动组件包括转动配合在轴杆(202)周侧的转筒(3)，转筒(3)周侧装设有第一防滑层(301)。
5.如权利要求4所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，侧板(101)一侧开设有第二滑槽(104)，第二滑槽(104)位于两个第一滑槽(102)之间，第二滑槽(104)内壁一侧开设有第二槽道(105)，侧板(101)内装设有第二电动推杆(4)，第二电动推杆(4)输出端装设有滑动配合在第二槽道(105)内的第一电机(401)，杆体(402)一端装设在第一电机(401)的输出端，杆体(402)贯穿第二滑槽(104)。
6.如权利要求5所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，侧板(101)一侧开设有第三滑槽(106)，第三滑槽(106)位于第二滑槽(104)的上方，第三滑槽(106)内壁一侧开设有第三槽道(107)，侧板(101)内装设有两个第三电动推杆(5)，第三电动推杆(5)输出端装设有第二电机(501)，两个第二电机(501)均滑动配合在第三槽道(107)内。
7.如权利要求6所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，第二电机(501)位于两个第三电动推杆(5)之间，转杆(502)一端装设在第二电机(501)的输出端，转杆(502)贯穿第三滑槽(106)。
8.如权利要求7所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，侧板(101)一侧装设有两个喷嘴(6)，喷嘴(6)位于第二滑槽(104)的上方，第三滑槽(106)位于两个喷嘴(6)之间，喷嘴(6)与毛刷层(503)相对应。
9.如权利要求1所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，基板(1)上侧开设有第四滑槽(108)，第四滑槽(108)内壁下侧开设有第四槽道，基板(1)内装设有第四电动推杆(7)，第四电动推杆(7)输出端装设有滑动配合在第四槽道内的第二滑块，支撑杆(701)下端装设在第二滑块的上侧，支撑杆(701)贯穿第四滑槽(108)。
10.如权利要求9所述的一种铜箔电解池自动清理装置，其特征在于，限位组件包括装设在第三电机(702)输出端的圆板(8)，圆板(8)一端装设有清洁层(801)，圆板(8)位于清洁层(801)与第三电机(702)之间。
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