CN114815921B - 荧光原位杂交处理仪温控方法、装置、设备及存储介质 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种荧光原位杂交处理仪温控方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；根据温度采样值和第一目标温度确定温度控制参数，并根据温度控制参数同步对各目标反应槽和备份反应槽进行温度调节；在温度采样值达到第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。解决了由于目标反应槽前后摇晃导致无法连续采集温控液体温度的技术问题，提高了温度采样和目标反应槽温度控制的准确度。

Description

荧光原位杂交处理仪温控方法、装置、设备及存储介质

技术领域

本发明涉及医疗设备技术领域，尤其涉及一种荧光原位杂交处理仪温控方法、装置、设备及存储介质。

背景技术

全自动荧光原位杂交处理仪是在放射性原位杂交技术的基础上发展起来的一种非放射性的细胞分子标记技术，以荧光标记取代同位素标记而形成的一种新的原位杂交方法。一般的荧光原位杂交技术(Fluorescence in situ hybridization，FISH)操作流程依次如下：前处理：脱蜡→高温煮片→低温洗涤→酶消化→室温洗涤→脱水、杂交变性(高温保持、次高温保持)、杂交后洗涤(低温洗涤、次高温洗涤、再低温洗涤)。在上述过程中，要求的温度均不相同，基本是室温(15-25℃)至高温(约90℃)，中间涉及到低温(约37℃)、次高温(约45℃)多次升、降温，且要求温度控制精度在±0.5℃，这就需要恒定、持续的温度采样。但是在上述过程中的脱蜡、煮片和各种洗涤时，均需要前后摇晃反应槽(使洗涤的更加干净)，由于单边安装传感器会存在约计一个摇晃周期内一半的时间无法获得真实温控液体的温度，而双边安装传感器则需要实时了解摇晃的位置并进行传感器数据取样决策。同时，由于底面进行快速升温(制热)和快速降温(制冷)，可供传感器安装的位置非常有限，这为温度的连续、恒定的采样提出了挑战，若是温度采样不连续，精准的温度控制将很难实现。

上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

发明内容

本发明的主要目的在于提供了一种荧光原位杂交处理仪温控方法、装置、设备及存储介质，旨在解决现有技术对反应槽的温度控制准确度低的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种荧光原位杂交处理仪温控方法，所述方法包括以下步骤:

根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；

根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；

在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；

在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。

可选地，所述根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置之前，所述方法还包括：

根据温度设定指令确定各目标反应槽中温控液体对应的目标温度；

根据所述目标温度对各目标反应槽进行温度划分，并根据温度划分结果确定各目标反应槽所属的温控阶段。

可选地，所述在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度，包括：

在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期；

根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型；

根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度。

可选地，所述数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度，所述温度振荡稳定策略包括离线温度控制策略和PID控制策略；

所述根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度，包括：

在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；

在所述数据类型为温控液体采样温度时，根据所述温控液体采样温度通过PID控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；

在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度。

可选地，所述在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节，包括：

在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度在预设离线数据表中查找对应的离线温度控制参数；

根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数；

根据所述实际温度控制参数对所述目标反应槽进行温度调节。

可选地，所述根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数，包括：

根据所述离线温度控制参数和所述当前温度控制参数通过预设参数调节方法确定实际温度控制参数。

可选地，所述在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度之后，所述方法还包括：

在所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度时，根据所述温控阶段和对应的目标温度确定待调节目标反应槽对应的温度控制参数；

根据所述温度控制参数同步对所述备份反应槽和待调节目标反应槽进行分阶段温度调节；

在所述备份反应槽中液体的采样温度值达到温控阶段对应的目标温度时，通过温度振荡稳定策略使属于该温控阶段的待调节目标反应槽中温控液体的温度稳定至对应的目标温度。

此外，为实现上述目的，本发明还提出一种荧光原位杂交处理仪温控装置，所述装置包括：

确定模块，用于根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；

调节模块，用于根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；

判定模块，用于在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；

稳定模块，用于在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。

此外，为实现上述目的，本发明还提出一种荧光原位杂交处理仪温控设备，所述设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的荧光原位杂交处理仪温控程序，所述荧光原位杂交处理仪温控程序配置为实现如上文所述的荧光原位杂交处理仪温控方法的步骤。

此外，为实现上述目的，本发明还提出一种存储介质，所述存储介质上存储有荧光原位杂交处理仪温控程序，所述荧光原位杂交处理仪温控程序被处理器执行时实现如上文所述的荧光原位杂交处理仪温控方法的步骤。

本发明根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。由于本发明是根据固定放置的备份反应槽中液体的温度采样值和目标反应槽中温控液体的第一目标温度确定温度控制参数，根据温控参数同步对备份反应槽和目标反应槽进行温度调节，并在备份反应槽的温度采样值到达第一目标温度时，完成对应目标反应槽的温度调节，通过温度振荡稳定策略使对应目标反应槽的温度稳定至第一目标温度，能够根据固定放置的备份反应槽的温度采样值对目标反应槽进行温度调节，解决了由于目标反应槽前后摇晃导致无法连续采集温控液体温度的技术问题，提高了温度采样和目标反应槽温度控制的准确度。

附图说明

图1是本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的荧光原位杂交处理仪温控设备的结构示意图；

图2为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法第一实施例的流程示意图；

图3为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法一实施例中荧光原位杂交处理仪的硬件原理框图；

图4为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法一实施例中进行升温调节的示意图；

图5为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法第二实施例的流程示意图；

图6为本发明荧光原位杂交处理仪温控装置第一实施例的结构框图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参照图1，图1为本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的荧光原位杂交处理仪温控设备结构示意图。

如图1所示，该荧光原位杂交处理仪温控设备可以包括：处理器1001，例如中央处理器(Central Processing Unit，CPU)，通信总线1002、用户接口1003，网络接口1004，存储器1005。其中，通信总线1002用于实现这些组件之间的连接通信。用户接口1003可以包括显示屏(Display)、输入单元比如键盘(Keyboard)，可选用户接口1003还可以包括标准的有线接口、无线接口。网络接口1004可选的可以包括标准的有线接口、无线接口(如无线保真(Wireless-Fidelity，WI-FI)接口)。存储器1005可以是高速的随机存取存储器(RandomAccess Memory，RAM)，也可以是稳定的非易失性存储器(Non-Volatile Memory，NVM)，例如磁盘存储器。存储器1005可选的还可以是独立于前述处理器1001的存储装置。

本领域技术人员可以理解，图1中示出的结构并不构成对荧光原位杂交处理仪温控设备的限定，可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。

如图1所示，作为一种存储介质的存储器1005中可以包括操作系统、网络通信模块、用户接口模块以及荧光原位杂交处理仪温控程序。

在图1所示的荧光原位杂交处理仪温控设备中，网络接口1004主要用于与网络服务器进行数据通信；用户接口1003主要用于与用户进行数据交互；本发明荧光原位杂交处理仪温控设备中的处理器1001、存储器1005可以设置在荧光原位杂交处理仪温控设备中，所述荧光原位杂交处理仪温控设备通过处理器1001调用存储器1005中存储的荧光原位杂交处理仪温控程序，并执行本发明实施例提供的荧光原位杂交处理仪温控方法。

本发明实施例提供了一种荧光原位杂交处理仪温控方法，参照图2，图2为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法第一实施例的流程示意图。

本实施例中，所述荧光原位杂交处理仪温控方法包括以下步骤：

步骤S10：根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置。

需要说明的是，本实施例的执行主体可以是一种具有数据处理、网络通信以及程序运行功能的计算服务设备，例如平板电脑、个人电脑、手机等，或者是一种能够实现上述功能的电子设备、荧光原位杂交处理仪温控(以下简称温度控制器)等。以下以温度控制器为例，对本实施例及下述各实施例进行说明。

应该理解的是，如图3所示，假设荧光原位杂交处理仪一台设备共有3组反应槽模块(A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽)，每组模块有2个反应槽，因此共有6个反应槽，6组反应槽的一般同时添加的反应液是一致的，诸如：脱蜡剂、100％酒精、通透剂、乙醇或者水，每组模块可以设置不同的目标温度从而适用于不同的杂交探针，原有每一组反应槽的温度控制均有硬件的PWM驱动、半导体制冷片、温度传感等，每一组温度控制单独执行，均为独立任务，因此可在上述反应槽的基础之上，增加备份反应槽；上述A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽可视为目标反应槽。

可以理解的是，目标反应槽可以是进行试验的反应槽，目标反应槽可以有多个，温度控制器可同对多个目标反应槽进行温度调节，各目标反应槽的目标温度可以相同也可以不同；温控阶段可以是各目标反应槽所属的温度调节阶段；第一目标温度可以是与目标反应槽的当前温度的差值绝对值最小的目标温度。

需要说明的是，备份反应槽除了安装位置与目标反应槽不一样之外，其它配置均相同，例如加热和制冷方式、传感器安装位置等；备份反应槽整体安装在荧光原位杂交处理仪的壳体内，工作时不摇晃，若整体反应液体量较少，则不摇晃的备份反应槽与目标反应槽的温度变化一致；若反应液体量增加较大时，可针对备份反应槽安装鼓气系统，通过吹泡泡实现液体的均衡流动，从而平衡各点温度；实际在全自动荧光原位杂交处理仪上使用时，由于加热、传热接触面积较大，液体晃动和不晃动时温度的差别甚微。

应该理解的是，在目标反应槽的初始温度相同时，可设置一个备份反应槽，在目标反应槽的初始温度不同时，可针对不同的初始温度设置对应的备份反应槽。

步骤S20：根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节。

需要说明的是，温度的调节方式为：温度控制器输出频率固定、占空比不断变化的PWM脉冲，经过信号驱动后输出至MOS管上，从而控制加热或者制冷元件的导通和关断的时间比值，从而形成PWM控制以进行温度调节；温度控制参数可以是控制PWM脉冲占空比的参数。

可以理解的是，温度调节可以是控制备份反应槽和目标反应槽的温度上升，也可以是控制温度下降，本实施例对此不作限制。

应该理解的是，在同步对目标反应槽和备份反应槽进行温度调节的过程中，可采用PID温度控制算法实现，可直接使用备份反应槽的温度采样值和温度控制参数实现对目标反应槽的进行升温或降温的温度调节。

步骤S30：在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成。

在具体实现中，温度控制器在备份反应槽的温度采样值到达第一目标温度时，判定完成对属于该温控阶段的目标反应槽的温度调节。

步骤S40：在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。

可以理解的是，温度振荡稳定策略可以是将完成温度调节的目标反应槽的温度，稳定至目标温度附近的控制策略。

进一步地，由于目标反应槽的目标温度可能相同也可能不同，为了实现同时对具有不同目标温度的目标反应槽进行温度调节，所述步骤S10之前，所述方法还包括：根据温度设定指令确定各目标反应槽中温控液体对应的目标温度；根据所述目标温度对各目标反应槽进行温度划分，并根据温度划分结果确定各目标反应槽所属的温控阶段。

可以理解的是，温度设定指令可以是设定各目标反应槽对应的目标温度的指令；若各目标反应槽的目标温度相同，则温度调节的过程只要一个温控阶段；若存在不同的目标温度，则具有相同目标温度的目标反应槽属于同一温控阶段；温度控制器根据不同的温控阶段采用分步控制。

例如，可参照图4，对目标反应槽进行的温度调节为升温调节，有3组目标反应槽：A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽，A组反应槽和B组反应槽的目标温度为T1，C组反应槽的目标温度为T2，且T1<T2，则对目标反应槽进行温度划分的结果为：A组反应槽和B组反应槽属于第一温控阶段，C组反应槽属于第二温控阶段，温度控制器根据第一温控阶段确定A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽的第一目标温度为T1，温度控制器根据备份反应槽的温度采样值和第一目标温度确定温度控制参数，通过PID温度控制算法驱动备份反应槽、A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽朝着第一目标温度T1升温，在此过程中对A组反应槽、B组反应槽和C组反应槽的操作一致，各反应槽温度经历快速升温、波动后趋于稳定，直至反应槽的温度到达T1附近，此时温度控制器判定完成对A组反应槽和B组反应槽的温度调节，通过温度振荡稳定策略使A组反应槽和B组反应槽的温度稳定在T1的控制精度范围内，此时进入第二温控阶段，温度控制器更改备份反应槽的目标温度为T2，C组反应槽与备份反应槽温度相同，控制方式相同，温度控制器根据温度采样值和T2同步对备份反应槽和C组反应槽进行升温调节，直至C组反应槽中温控液体的温度达到T2，并稳定在T2附近。

本实施例根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。由于本实施例是根据固定放置的备份反应槽中液体的温度采样值和目标反应槽中温控液体的第一目标温度确定温度控制参数，根据温控参数同步对备份反应槽和目标反应槽进行温度调节，并在备份反应槽的温度采样值到达第一目标温度时，完成对应目标反应槽的温度调节，通过温度振荡稳定策略使对应目标反应槽的温度稳定至第一目标温度，能够根据固定放置的备份反应槽的温度采样值对目标反应槽进行温度调节，解决了由于目标反应槽前后摇晃导致无法连续采集温控液体温度的技术问题，提高了温度采样和目标反应槽温度控制的准确度。

参考图5，图5为本发明荧光原位杂交处理仪温控方法第二实施例的流程示意图。

基于上述第一实施例，在本实施例中，所述步骤S40包括：

步骤S401：在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期。

可以理解的是，在FISH操作过程中需要摇晃目标反应槽，摇晃周期可以是目标反应槽在FISH操作过程中摇晃的周期。

步骤S402：根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型。

可以理解的是，受限于安转位置的限制，现有的目标反应槽一般是单边安装温度传感器，在目标反应槽一个摇晃周期内一半的时间温度传感器无法采集到温控液体的真实温度；数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度。

步骤S403：根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度。

在具体实现中，温度控制器在对目标反应槽完成温度调节后，获取完成温度调节的目标反应槽的摇晃周期，根据摇晃周期判断温度传感器采集到的温度数据的数据类型是温控液体采样温度还是非温控液体采样温度，根据温控液体采样温度和非温控液体采样温度通过温度振荡稳定策略使完成温度调节的目标反应槽中温控液体的温度稳定在第一目标温度附近。

进一步地，为了使目标反应槽中温控液体的温度稳定在第一目标温度附近，所述数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度，所述温度振荡稳定策略包括离线温度控制策略和PID控制策略；所述步骤S403，包括：

在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；在所述数据类型为温控液体采样温度时，根据所述温控液体采样温度通过PID控制策略对所述目标反应槽进行温度调节在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度。

可以理解的是，离线温度控制策略可以是温度传感器采集的温度数据为非温控液体采样温度时，使目标反应槽的温度保持稳定的控制策略，离线控制策略实质为基于离线标定控制量的温度控制策略。

应该理解的是，在温度传感器采集到的温度数据为温控液体采样温度时，通过PID控制算法进行温度控制；在目标反应槽的一个摇晃周期内，温度传感器采集到的温度数据为温控液体采样温度时，采用PID控制算法，温度传感器采集到的温度数据为非温控液体采样温度时，采用离线温度控制策略。

进一步地，为了在温度传感器采集到非温控液体采样温度时，仍能控制目标反应槽的温度保持稳定，所述在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节，包括：在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度在预设离线数据表中查找对应的离线温度控制参数；根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数；根据所述实际温度控制参数对所述目标反应槽进行温度调节。

可以理解的是，预设离线数据表可以是预先设定的通过标定获得的目标温度与占空比变化值之间对应关系的数据表；离线温度控制参数可以是通过标定获得的与目标温度对应的占空比变化值；当前温度控制参数可以是当前占空比的值。

进一步地，为了在温度传感器采集到非温控液体采样温度时，仍能控制目标反应槽的温度保持稳定，所述根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数，包括：根据所述离线温度控制参数和所述当前温度控制参数通过预设参数调节方法确定实际温度控制参数。

可以理解的是，温度控制器根据当前占空比的值和占空比变化值通过预设参数调节方法确定实际的控制目标反应槽温度的占空比的值；可将PWM波的一个周期进行均匀划分，占空比的值可以是高电平所占份数的值。

在具体实现中，在温度调节为升温调节时，预设参数调节算法可以是：进一平一退一，若第一目标温度为T1，根据第一目标温度在预设离线数据表中查找到的离线控制参数为ΔP1和ΔP2，假设当前t0时刻PWM占空比为P，则t1时刻占空比为P+ΔP1(ΔP1为正值，占空比升高，此时为“进一”)，t2时刻仍然保持为P+ΔP1(与t1时刻相同，此时为“平一”)，t3时刻占空比为P-ΔP2(ΔP2为正值，占空比降低，此时为“退一”)，可设定ΔP1>ΔP2。

例如，若温度调节为升温调节，在全自动荧光原位杂交处理仪的控制中，将PWM占空比最大值设定为5000(一般不用100表示，因为分辨率太小，精细控制中容易出现大幅度波动)，在快速升温时，PWM占空比很快接近于5000，每次控制的变化量约计±1000左右，预设离线数据表可参照表1，若第一目标温度为88℃，在维持88℃温度衰减阶段内时，在预设离线数据中可查到每次的占空比变化量在30～50之间，可取ΔP1＝50，ΔP2＝30，根据当前占空比值和ΔP1＝50，ΔP2＝30，通过进一平一退一的预设温度调节算法确定实际占空比值，根据实际占空比值控制目标反应槽的温度保持稳定。

表1

可以理解的是，若温度调节为降温调节，目标反应槽的目标温度不同，则表1中占空比变化量为负值，调节过程与上述升温调节过程类似，本实施例在此不再赘述。

进一步地，为了实现对具有不同目标温度的目标反应槽进行温度调节，所述在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度之后，所述方法还包括：在所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度时，根据所述温控阶段和对应的目标温度确定待调节目标反应槽对应的温度控制参数；根据所述温度控制参数同步对所述备份反应槽和待调节目标反应槽进行分阶段温度调节；在所述备份反应槽中液体的采样温度值达到温控阶段对应的目标温度时，通过温度振荡稳定策略使属于该温控阶段的待调节目标反应槽中温控液体的温度稳定至对应的目标温度。

在具体实现中，在处于第一温控阶段的目标反应槽的温度稳定至第一目标温度时，温度控制器获取下一温控阶段对应的目标温度，根据该目标温度和备份槽的温度采样值对属于下一温控阶段的目标反应槽进行温度调节，在该阶段的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使该温控阶段的目标反应槽的温度稳定至目标温度，再进行下一温控阶段的温度调节吗，直至将所有目标反应槽中温控液体的温度调节至对应的目标温度。

本实施例在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期；根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型；根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度。能够使目标反应槽中温控液体的温度稳定在目标温度附近，提高了温度采样和目标反应槽温度控制的准确度。

此外，本发明实施例还提出一种存储介质，所述存储介质上存储有荧光原位杂交处理仪温控程序，所述荧光原位杂交处理仪温控程序被处理器执行时实现如上文所述的荧光原位杂交处理仪温控方法的步骤。

参照图6，图6为本发明荧光原位杂交处理仪温控装置第一实施例的结构框图。

如图6所示，本发明实施例提出的荧光原位杂交处理仪温控装置包括：确定模块10、调节模块20、判定模块30和稳定模块40。

所述确定模块10，用于根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；

所述调节模块20，用于根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；

所述判定模块30，用于在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；

所述稳定模块40，用于在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。

本实施例根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置；根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度。由于本实施例是根据固定放置的备份反应槽中液体的温度采样值和目标反应槽中温控液体的第一目标温度确定温度控制参数，根据温控参数同步对备份反应槽和目标反应槽进行温度调节，并在备份反应槽的温度采样值到达第一目标温度时，完成对应目标反应槽的温度调节，通过温度振荡稳定策略使对应目标反应槽的温度稳定至第一目标温度，能够根据固定放置的备份反应槽的温度采样值对目标反应槽进行温度调节，解决了由于目标反应槽前后摇晃导致无法连续采集温控液体温度的技术问题，提高了温度采样和目标反应槽温度控制的准确度。

基于本发明上述荧光原位杂交处理仪温控装置第一实施例，提出本发明荧光原位杂交处理仪温控装置的第二实施例。

在本实施例中，所述确定模块10，还用于根据温度设定指令确定各目标反应槽中温控液体对应的目标温度；根据所述目标温度对各目标反应槽进行温度划分，并根据温度划分结果确定各目标反应槽所属的温控阶段。

所述稳定模块40，还用于在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期；根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型；根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度。

所述稳定模块40，还用于在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；在所述数据类型为温控液体采样温度时，根据所述温控液体采样温度通过PID控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度；所述数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度，所述温度振荡稳定策略包括离线温度控制策略和PID控制策略。

所述稳定模块40，还用于在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度在预设离线数据表中查找对应的离线温度控制参数；根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数；根据所述实际温度控制参数对所述目标反应槽进行温度调节。

所述稳定模块40，还用于根据所述离线温度控制参数和所述当前温度控制参数通过预设参数调节方法确定实际温度控制参数。

所述稳定模块40，还用于在所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度时，根据所述温控阶段和对应的目标温度确定待调节目标反应槽对应的温度控制参数；根据所述温度控制参数同步对所述备份反应槽和待调节目标反应槽进行分阶段温度调节；在所述备份反应槽中液体的采样温度值达到温控阶段对应的目标温度时，通过温度振荡稳定策略使属于该温控阶段的待调节目标反应槽中温控液体的温度稳定至对应的目标温度。

本发明荧光原位杂交处理仪温控装置的其他实施例或具体实现方式可参照上述各方法实施例，此处不再赘述。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者系统不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者系统中还存在另外的相同要素。

上述本发明实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。

通过以上的实施方式的描述，本领域的技术人员可以清楚地了解到上述实施例方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现，当然也可以通过硬件，但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质(如只读存储器/随机存取存储器、磁碟、光盘)中，包括若干指令用以使得一台终端设备(可以是手机，计算机，服务器，空调器，或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。

以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种荧光原位杂交处理仪温控方法，其特征在于，所述方法包括：

根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置，所述备份反应槽除了安装位置与所述目标反应槽不一致外，其他配置均相同；

根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；

在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；

在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度；

所述在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度，包括：

在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期；

根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型；

根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度；

所述数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度，所述温度振荡稳定策略包括离线温度控制策略和PID控制策略；

所述根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度，包括：

在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；

在所述数据类型为温控液体采样温度时，根据所述温控液体采样温度通过PID控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；

在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置之前，所述方法还包括：

根据温度设定指令确定各目标反应槽中温控液体对应的目标温度；

根据所述目标温度对各目标反应槽进行温度划分，并根据温度划分结果确定各目标反应槽所属的温控阶段。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节，包括：

在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度在预设离线数据表中查找对应的离线温度控制参数；

根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数；

根据所述实际温度控制参数对所述目标反应槽进行温度调节。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述离线温度控制参数和当前温度控制参数确定实际温度控制参数，包括：

根据所述离线温度控制参数和所述当前温度控制参数通过预设参数调节方法确定实际温度控制参数。

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度之后，所述方法还包括：

在所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度时，根据所述温控阶段和对应的目标温度确定待调节目标反应槽对应的温度控制参数；

根据所述温度控制参数同步对所述备份反应槽和待调节目标反应槽进行分阶段温度调节；

在所述备份反应槽中液体的采样温度值达到温控阶段对应的目标温度时，通过温度振荡稳定策略使属于该温控阶段的待调节目标反应槽中温控液体的温度稳定至对应的目标温度。

6.一种荧光原位杂交处理仪温控装置，其特征在于，所述装置包括：

确定模块，用于根据温控阶段确定各目标反应槽中温控液体的第一目标温度，并获取备份反应槽中液体的温度采样值，所述备份反应槽固定放置，所述备份反应槽除了安装位置与所述目标反应槽不一致外，其他配置均相同；

调节模块，用于根据所述温度采样值和所述第一目标温度确定温度控制参数，并根据所述温度控制参数同步对各目标反应槽和所述备份反应槽进行温度调节；

判定模块，用于在所述温度采样值达到所述第一目标温度时，判定对应的目标反应槽温度调节完成；

稳定模块，用于在对应的目标反应槽的温度调节完成时，通过温度振荡稳定策略使对应的目标反应槽中温控液体的温度稳定至所述第一目标温度；

所述稳定模块，还用于在对应的目标反应槽的温度调节完成时，获取所述目标反应槽的摇晃周期；根据所述摇晃周期确定设置于所述目标反应槽上的温度传感器采集的温度数据的数据类型；根据所述数据类型通过温度振荡稳定策略使所述目标反应槽的温度稳定至所述第一目标温度；

所述稳定模块，还用于在所述数据类型为非温控液体采样温度时，根据所述目标温度通过离线温度控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；在所述数据类型为温控液体采样温度时，根据所述温控液体采样温度通过PID控制策略对所述目标反应槽进行温度调节；在所述目标反应槽的摇晃周期内，通过所述离线温度控制策略和所述PID控制策略使所述目标反应槽中温控液体的温度稳定至第一目标温度；所述数据类型包括温控液体采样温度和非温控液体采样温度，所述温度振荡稳定策略包括离线温度控制策略和PID控制策略。

7.一种荧光原位杂交处理仪温控设备，其特征在于，所述设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的荧光原位杂交处理仪温控程序，所述荧光原位杂交处理仪温控程序配置为实现如权利要求1至5中任一项所述的荧光原位杂交处理仪温控方法的步骤。

8.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质上存储有荧光原位杂交处理仪温控程序，所述荧光原位杂交处理仪温控程序被处理器执行时实现如权利要求1至5任一项所述的荧光原位杂交处理仪温控方法的步骤。