CN114725023B - 基板组件、显示装置及基板组件的制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种基板组件、显示装置及基板组件的制作方法，基板组件包括：基板，具有第一表面；过渡层，层叠设置于基板的第一表面，过渡层包括第一膜层和第二膜层，第二膜层设置于第一膜层背向基板的一侧，第一膜层包括氮氧化硅，第二膜层包括二氧化硅；抗菌膜层，设置于第二膜层背向所述基板的一侧，抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。本申请能够实现较好的抗菌效果和较高的抗菌寿命，能够满足使用需求。

Description

基板组件、显示装置及基板组件的制作方法

技术领域

本申请涉及显示基板技术领域，具体涉及一种基板组件、显示装置及基板组件的制作方法。

背景技术

随着人们健康意识的提高，具有抗细菌、抗病毒性能的产品越来越受到市场的欢迎。

现有的产品多利用银离子来实现抗菌性能，抗菌性能受到使用环境限制，抗菌层易剥落，导致抗菌效果和寿命无法满足消费者的使用需求。

发明内容

本申请实施例提供一种基板组件、显示装置及基板组件的制作方法，抗菌效果好且抗菌寿命高，能够满足使用需求。

第一方面，本申请实施例提供一种基板组件，用于显示装置，包括：基板，具有第一表面；过渡层，层叠设置于所述基板的所述第一表面，所述过渡层包括第一膜层和第二膜层，所述第二膜层设置于所述第一膜层背向所述基板的一侧，所述第一膜层包括氮氧化硅，所述第二膜层包括二氧化硅；抗菌膜层，设置于所述第二膜层背向所述基板的一侧，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

第二方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括：显示面板，具有出光侧；基板组件，所述基板组件为如前任一实施例所述的基板组件，所述基板组件设置于所述显示面板的所述出光侧，且所述抗菌膜层位于所述基板背向所述显示面板的一侧。

第三方面，本申请实施例提供一种基板组件的制作方法，包括：提供基板；在所述基板上形成第一膜层，所述第一膜层包括氮氧化硅；在所述第一膜层上形成第二膜层，所述第二膜层包括二氧化硅；在所述第二膜层上形成抗菌膜层，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

本申请实施例提供的基板组件、显示装置及基板组件的制作方法，基板组件包括基板、过渡层和抗菌膜层，在掺杂材料的作用下，抗菌膜层中的主体材料能够有效杀灭细菌和病毒，抗菌效果好；由于抗菌膜层包括金属氧化物，金属氧化物膜层的折射通常大于二氧化硅膜层的折射率，二氧化硅膜层的折射率小于氮氧化硅膜层的折射率，使得抗菌膜层的折射率可以大于第二膜层的折射率，第二膜层的折射率可以小于第一膜层的折射率，抗菌膜层、第二膜层和第一膜层能够形成一个干涉膜系，起到降低光线反射率和提高光线透过率的作用，能够提高基板组件的光线透过率；抗菌膜层中的Si-O键与过渡层中第二膜层中的Si-O键能够结合，第二膜层中的Si-O键与第一膜层中的Si-O-N键能够结合，因此抗菌膜层与过渡层的附着力较高，能够提升抗菌膜层的使用寿命。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。

图1为本申请一实施例提供的显示装置的结构示意图；

图2为本申请一实施例提供的基板组件的结构示意图；

图3为本申请一实施例提供的基板组件的光路透射示意图；

图4为本申请另一实施例提供的基板组件的结构示意图；

图5为本申请另一实施例提供的基板组件的光路透射示意图；

图6为本申请又一实施例提供的基板组件的结构示意图；

图7为第一实验例和第一对比例对应的基板组件的光线透过率曲线示意图；

图8为第二实验例和第二对比例对应的基板组件随温度变化的应力强度和刚化深度的示意图；

图9为第四实验例和第四对比例对应的显示产品的显示色度示意图；

图10为本申请一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；

图11为本申请一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图；

图12为本申请另一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；

图13为本申请另一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图；

图14为本申请又一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；

图15为本申请又一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图。

附图标记说明：

10-基板组件；

110-基板；

120-过渡层；121-第一膜层；122-第二膜层；123-第三膜层；

130-抗菌膜层；

140-防指纹膜层；

20-显示面板。

具体实施方式

下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本申请，并不被配置为限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

为了更好地理解本申请，下面结合图1至图15对本申请实施例的基板组件、显示装置及基板组件的制作方法进行详细描述。

随着人们健康意识的提高，具有抗细菌、抗病毒性能的产品越来越受到市场的欢迎。现有的产品多利用银离子来实现抗菌性能，抗菌性能受到使用环境限制，抗菌层易剥落，导致抗菌效果和寿命无法满足消费者的使用需求。

基于上述问题，本申请实施例提供了一种基板组件及显示装置，抗菌效果好且抗菌寿命高，能够满足使用需求。

图1为本申请一实施例提供的显示装置的结构示意图。

本申请实施例提供的显示装置，包括显示面板20以及基板组件10，显示面板20具有出光侧，基板组件10设置于显示面板20的出光侧，通过基板组件10能够保护显示面板20。

图2为本申请一实施例提供的基板组件的结构示意图。

本申请实施例还提供一种基板组件10，该基板组件10可以用于显示装置，将基板组件10设置在显示装置的显示面板20的出光侧，能够保护显示面板20。当然，基板组件10也可以用于其他装置需要保护的位置，本申请对此不做具体限制。

如图2所示，本申请实施例提供的基板组件10，包括基板110、过渡层120和抗菌膜层130。基板110具有第一表面；过渡层120层叠设置于基板110的所述第一表面，过渡层120包括第一膜层121和第二膜层122，第二膜层122设置于第一膜层121背向基板110的一侧，第一膜层121包括氮氧化硅，第二膜层122包括二氧化硅；抗菌膜层130设置于第二膜层122背向基板110的一侧，抗菌膜层130包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

根据本申请实施例提供的基板组件10，基板110上层叠设置有过渡层120和抗菌膜层130，在掺杂材料的作用下，抗菌膜层130中的主体材料能够有效杀灭细菌和病毒，抗菌效果好；由于抗菌膜层130包括金属氧化物，金属氧化物膜层的折射通常大于二氧化硅膜层的折射率，二氧化硅膜层的折射率小于氮氧化硅膜层的折射率，使得抗菌膜层130的折射率可以大于第二膜层122的折射率，第二膜层122的折射率可以小于第一膜层121的折射率，抗菌膜层130、第二膜层122和第一膜层121能够形成一个干涉膜系，起到降低光线反射率和提高光线透过率的作用，能够提高基板组件10的光线透过率；抗菌膜层130包括硅氧化物，抗菌膜层130中的Si-O键与过渡层120的第二膜层122中的Si-O键能够共用电子并结合形成稳定的化学键，第二膜层122中的Si-O键与第一膜层121中的Si-O-N键能够共用电子并结合形成稳定的化学键，与不包含硅氧化物的抗菌方案相比，本申请实施例的基板组件10，其抗菌膜层130与过渡层120的附着力较高，因此能够提升抗菌膜层130的使用寿命。

需要说明的是，现有的银离子杀菌方案，主要是利用银离子的氧化还原性能，而银离子自然析出慢，杀菌率低，需要在高湿环境下才能具有优秀的抗菌性能，银离子所应用产品容易发黄，另外银离子只能杀灭细菌，并不能有效抗病毒。而本申请实施例提供的基板组件10的抗菌层，在自然环境条件下，氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴等金属氧化物能够发生电子跃迁并析出氧空位，氧空位能够与空气中的水及氧气反应生成羟基自由基，羟基自由基具有很强的氧化能力，能够杀灭细菌和病毒；而锆、铅、金、铑及钯等掺杂材料能够有效降低金属氧化物的禁带宽度，提高金属氧化物的电子跃迁率，提高抗菌层的杀菌能力。

另外，现有的利用银离子杀菌的基板组件，其制作过程是将玻璃基板放入含有销酸银的高温熔盐中，使熔盐中的银离子与玻璃基板中钠离子进行置换，进而使玻璃基板表面形成含有银离子的膜层，含有银离子的膜层光线透过率差，另外在玻璃基板表面形成银离子膜层后无法再在玻璃基板上制作增透膜层，否则增透膜层覆盖玻璃基板含有银离子的表面，达不到抗菌效果；而如果先在玻璃基板上制作增透膜层，由于增透膜层不耐高温，因此并不能将带有增透膜层的基板组件10放入高温熔盐中，另外，由于增透膜层中没有钠离子，即使将带有增透膜层的基板组件10放入高温熔盐中，也无法实现银离子和钠离子的置换，更不能形成含有银离子的抗菌层。而本申请实施例提供的基板组件10，不仅具有较好的抗菌效果和较高的抗菌寿命，还能够保证基板组件10的光透过率。

本申请实施例提供的基板组件10用于显示装置时，基板组件10的抗菌膜层130位于基板110背向显示面板20的一侧，能够在保证光线透过率的情况下，满足显示装置的抗菌需求。

为保证抗菌膜层130的杀菌能力，抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比不能过低，以通过掺杂材料来提高金属氧化物的电子跃迁率，同时若抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比过高，则会影响抗菌膜层130的光线透过率。可选的，抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比可以设置在0.3％以上且5％以下，既能够保证抗菌膜层130的抗菌性能，又能够保证抗菌膜层130的光线透过率。

为了验证抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比对基板组件10的抗菌性能和线透过率的影响，设计了对比例1～2以及实验例1～3，对比例1～2以及实验例1～3均为设置有抗菌膜层130的基板组件10，不同点在于抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比不同。分别对对比例1～2以及实验例1～3所对应的基板组件10进行了抗菌测试和光线透过率测试，测试结果示于下表1中。需要说明的是，所述实验例仅用于帮助理解本申请，不应该视为对本申请的具体限制。

表1基板组件的抗菌率和光线透过率测试表

由表1可以看出，抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比设置在0.3％以上且在5％以下时，基板组件10的抗菌性能好且光线透过率高。

为了有效提高抗菌膜层130与过渡层120的附着力，抗菌膜层130中硅氧化物的质量百分比不能过低，同时若抗菌膜层130中掺杂材料的质量百分比过高，则会影响抗菌膜层130的抗菌性能。可选的，抗菌膜层130中硅氧化物的质量百分比可以设置在1％以上且5％以下，既能够保证抗菌膜层130的附着力，又不会明显影响抗菌膜层130的抗菌性能。

图3为本申请一实施例提供的基板组件的光路透射示意图。

如图3所示，光线由外界射入基板组件10中时，光线在折射率不同的相邻两膜层的界面处发生反射和折射，在一些可选的实施例中，为保证基板组件10的光线透过率，可以根据外界光线波长、各膜层的折射率等确定各膜层的厚度，使得反射光线L1、L2和L3能够发生干涉相消，反射出基板组件10外的光线最少，就能够确保进入基板110内的透射光线。可选的，抗菌膜层130的厚度的取值范围可以为150nm至200nm，第一膜层121的厚度的取值范围可以设置为10nm至25nm，第二膜层122的厚度的取值范围可以为150nm至200nm，以上取值范围均包括数据范围端点值，既能够避免基板组件10厚度过大，又有利于反射光线发生干涉相消，多次透射光线发生干涉加强，形成较强的透射光波，保证基板组件10的光线透过率。

本申请对基板110的具体材质不作限制，基板110可以为玻璃基板110或塑料基板110等。可选的，基板110为玻璃基板110，由于玻璃基板110中包括二氧化硅，过渡层120中第一膜层121中的Si-O-N键与玻璃基板中的Si-O键能够共用电子并结合形成稳定的化学键，使得过渡层120与基板110之间的附着力较高，能够提高抗菌膜层130的使用寿命。可选的，基板110为塑料基板110，具体可以选用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等材料，具有高透明度以及较好的力学性能，在塑料基板110上镀制过渡层120前，可以先对塑料基板110进行等离子清洗，以保证塑料基板110表面的清洁度，便于过渡层120在塑料基板110上的附着。

图4为本申请另一实施例提供的基板组件的结构示意图；图5为本申请另一实施例提供的基板组件的光路透射示意图。

如图4所示，在一些可选的实施例中，本申请实施例提供的基板组件10，过渡层120还可以包括第三膜层123，第三膜层123设置在第一膜层121与基板110之间，第一膜层121的折射率大于第三膜层123的折射率；在第一膜层121与基板110之间设置折射率小于第一膜层121的第三膜层123，使抗菌膜层130、第二膜层122、第一膜层121以及第三膜层123能够形成一个干涉膜系，起到降低光线反射率和提高光线透过率的作用，能够保证基板组件10的光透过率。

如图5所示，光线由外界射入基板组件10中时，光线在折射率不同的相邻两膜层的界面处发生反射和折射，在一些可选的实施例中，可以根据外界光线波长、各膜层的折射率等确定各膜层的厚度，使得反射光线L1、L2和L3能够发生干涉相消，反射出基板组件10外的光线较少，进入基板110内的透射光线较多。可选的，抗菌膜层130的厚度的取值范围可以设置为150nm至200nm，第一膜层121的厚度的取值范围可以为10nm至25nm，第二膜层122的厚度的取值范围可以为150nm至200nm，第三膜层123的厚度的取值范围可以为280nm至320nm，以上取值范围均包括数据范围端点值，既能够避免基板组件10厚度过大，又有利于反射光线发生干涉相消，多次透射光发生干涉加强，形成较强的透射光波。

可选的，第三膜层123可以包括二氧化硅，二氧化硅膜层的折射率小于氮氧化硅膜层的折射率，且二氧化硅膜层的光透过率较高，第一膜层121中的Si-O-N键与第三膜层123中的Si-O键能够共用电子并结合形成稳定的化学键，能够保证第三膜层123与第一膜层121之间的附着力和可靠性。

可选的，基板110为玻璃基板110，第三膜层123包括二氧化硅，第三膜层123和玻璃基板110的主要成份均为二氧化硅，则第三膜层123与玻璃基板110的膨胀系数大致相同，在外界环境变化时第三膜层123与玻璃基板110之间不易发生分离，因此第三膜层123与玻璃基板110之间的附着力更好，能够进一步提高过渡层120与基板110之间的附着力，进而提高抗菌膜层130的使用可靠性。

在一些可选的实施例中，过渡层120与基板110之间可以无界面结合，即过渡层120与基板110之间没有清晰的分界面，过渡层120的部分材料会渗入基板110中，能够进一步提高过渡层120与基板110之间的附着力。

可选的，可以采用磁控溅射方法在基板110上形成过渡层120的各膜层，进而使第三膜层123与基板110之间无界面结合，第一膜层121与第三膜层123无界面结合，第二膜层122与第一膜层121无界面结合。

可选的，抗菌膜层130与过渡层120可以无界面结合，即抗菌膜层130与过渡层120之间没有清晰的分界面，抗菌膜层130的部分材料渗入过渡层120，能够进一步提高抗菌膜层130与过渡层120之间的附着力。

可选的，可以采用磁控溅射方法在过渡层120背离基板110的一侧形成抗菌膜层130，进而使抗菌膜层130与过渡层120的第二膜层122之间无界面结合。

在一些可选的实施例中，本申请实施例提供的基板组件10，基板110朝向抗菌膜层130的一侧表面的粗糙度可以设置为小于0.25％，光泽度的取值范围为25％至140％，雾度的取值范围为1％至20％，以上取值范围均包括数据范围端点值，在保证基板110的光线透过率的基础上，使投射至基板110上的光线发生漫反射，能够有效避免眩光现象的发生，并提高过渡层120与基板110之间的附着力。

图6为本申请又一实施例提供的基板组件的结构示意图。

在一些可选的实施例中，本申请实施例提供的基板组件10，还可以包括防指纹膜层140，防指纹膜层140设置在抗菌膜层130背向基板110的一侧；防指纹膜层140能够起到淡化、分解指纹油脂的作用，设置防指纹膜层140能够减少指纹以及各种污渍在基板组件10上的附着，同时也有利于已附着的污渍的去除，基板组件10用于显示装置时，利用防指纹膜层140能够避免指纹等污渍影响显示装置的显示效果。

防指纹膜层140的材料有多种，可选的，防指纹膜层140可以包括含氟硅烷偶联剂，含氟硅烷偶联剂具有良好的疏水疏油特性，能够减少指纹以及各种污渍在膜层表面附着，同时也有利于已附着的污渍的去除；另外，含氟硅烷偶联剂制成的膜层网格状，具有大量透气微孔，能够使抗菌膜层130保持优秀的抗菌效果。

可选的，防指纹膜层140包括含氟硅烷偶联剂，含氟硅烷偶联剂中存在羟基，抗菌膜层130包括硅氧化物，则抗菌膜层130中存在Si-O键，抗菌膜层130中硅氧化物和偶联剂可以通过Si-O键和羟基键合，能够提高防指纹膜层140的附着力，进而提高防指纹膜层140的使用寿命。

为避免防指纹膜层140影响抗菌膜层130的抗菌效果，可以将防指纹膜层140的厚度设置为小于或等于10μm。可选的，防指纹膜层140的厚度可以设置在1μm至2μm之间，既能够达到防指纹效果，又能够减小防指纹膜层140对基板组件10厚度的影响。

图7为第一实验例和第一对比例对应的基板组件的光线透过率曲线示意图。图7中，横坐标为光线波长，纵坐标为光线透过率。

为了验证抗菌膜层130对基板组件10的光线透过率的影响，设计了第一实验例和第一对比例，第一实验例为设置有过渡层120和抗菌膜层130的基板组件10，第一对比例为仅设置有过渡层120的基板组件10。如图5所示，在550nm自然光线条件下，设置有抗菌膜层130的基板组件10的光线透过率大于或等于93％，设置有抗菌膜层130的基板组件10的光线透过率与未做抗菌处理的基板组件10的光线透过率基本一致，光线透过率较高。

为了验证抗菌膜层130的抗菌效果，分别依据JISZ 2801、ISO 22196标准，对设置有抗菌膜层130的基板组件10进行了抗菌测试，测试结果示于下表2中。

表2基板组件的抗菌率测试表

如表2所示，设置有抗菌膜层130的基板组件10对于常见细菌的抗菌率均超过了99.9％，抗菌效果较好。

图8为第二实验例和第二对比例对应的基板组件随温度变化的应力强度和刚化深度的示意图。图8中，横坐标为温度，两侧纵坐标分别为应力值和刚化深度值。

为了验证抗菌膜层130对基板组件10的结构性能的影响，设计了第二实验例和第二对比例，第二实验例为设置有抗菌膜层130的基板组件10，第二对比例为现有的未做抗菌处理的基板组件10。如图8所示，现有的基板组件10在经过表面抗菌处理后，应力和刚化深度不会发生较大变化，由此可知，设置有抗菌层的基板组件10仍具有较好的结构性能。

为了验证抗菌膜层130对基板组件10的显示性能的影响，设计了第三实验例和第三对比例，第三实验例为搭载有抗菌基板的显示产品，第三对比例为搭载有未做抗菌处理的基板的显示产品。第三实验例和第三对比例所对应的显示产品的色差检测结果示于下表3中。

表3第三实验例和第三对比例对应的显示产品的色差对照表

表3中，L代表光亮度，a和b代表色度坐标，其中a代表红-绿轴，b代表黄-蓝轴，ΔE表示第三实验例和第三对比例所对应的显示产品的色差，ΔE数值越大，说明色差越大。

如表3所示，现有的显示产品在经过表面抗菌处理后，色差变化小于0.2，由此可知，抗菌膜层130并不会对产品的显示性能产生影响。

为了验证抗菌膜层130对基板组件10的显示性能的影响，还设计了第四实验例和第四对比例，第四实验例为搭载有抗菌基板的显示产品，第四对比例为搭载有未做抗菌处理的基板的显示产品。

图9为第四实验例和第四对比例对应的显示产品的显示色度示意图。图9中，x表示红色分量，y表示绿色分量，环绕在颜色空间边沿的颜色是光谱色，边界上的数字表示光谱色的波长，自然界中各种实际颜色都位于颜色空间边界的闭合曲线内。如图9所示，第四实验例和第四对比例对应的显示产品的显示色度基本一致，由此可知，抗菌层并不会对产品的色度产生影响。

另外，本申请实施例还提供了一种基板组件10的制作方法，利用该制作方法所制作的基板组件10，不仅具有较好的抗菌效果和较高的抗菌寿命，还能够保证基板组件10的光透过率。

在基板110上设置抗菌层以达到杀灭细菌和病毒的作用，现有的利用银离子杀菌的基板组件，其制作过程是将玻璃基板放入含有销酸银的高温熔盐中，使熔盐中的银离子与玻璃基板中钠离子进行置换，进而使玻璃基板表面形成含有银离子的膜层，含有银离子的膜层光线透过率差，另外在玻璃基板表面形成银离子膜层后无法再在玻璃基板上制作增透膜层，否则增透膜层覆盖玻璃基板含有银离子的表面，达不到抗菌效果；而如果先在玻璃基板上制作增透膜层，由于增透膜层不耐高温，因此并不能将带有增透膜层的基板组件10放入高温熔盐中，另外，由于增透膜层中没有钠离子，即使将带有增透膜层的基板组件10放入高温熔盐中，也无法实现银离子和钠离子的置换，更不能形成含有银离子的抗菌层。

图10为本申请一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；图11为本申请一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图。

如图10和图11所示，本申请实施例还提供的基板组件10的制作方法，包括步骤S100至S400。

在步骤S100中，提供基板110。

本申请对基板110的具体材质不作限制，基板110可以为玻璃基板110或塑料基板110等。可选的，基板110为玻璃基板110，透光性较好。

在步骤S200中，在基板110上形成第一膜层121，第一膜层121包括氮氧化硅。

在步骤S300中，在第一膜层121上形成第二膜层122，第二膜层122包括二氧化硅。

在步骤S400中，在第二膜层122上形成抗菌膜层130，抗菌膜层130包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

根据本申请实施例提供的基板组件10的制作方法，在基板110上依次形成第一膜层121、第二膜层122和抗菌膜层130进而形成基板组件10，在掺杂材料的作用下，抗菌膜层130中的主体材料能够有效杀灭细菌和病毒，抗菌效果好；由于抗菌膜层130包括金属氧化物，金属氧化物膜层的折射通常大于二氧化硅膜层的折射率，二氧化硅膜层的折射率小于氮氧化硅膜层的折射率，使得抗菌膜层130的折射率可以大于第二膜层122的折射率，第二膜层122的折射率可以小于于第一膜层121的折射率，抗菌膜层130、第二膜层122和第一膜层121能够形成一个干涉膜系，起到降低光线反射率和提高光线透过率的作用，能够提高基板组件10的光线透过率；抗菌膜层130中的Si-O键与过渡层120中第二膜层122中的Si-O键能够结合，第二膜层122中的Si-O键与第一膜层121中的Si-O-N键能够结合，因此抗菌膜层130与过渡层120的附着力较高，能够提升抗菌膜层130的使用寿命。因此，利用本申请实施提供的制作方法所制作的基板组件10，不仅具有较好的抗菌效果和较高的抗菌寿命，还能够保证基板组件10的光透过率。

图12为本申请另一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；图13为本申请另一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图。

如图12和图13所示，在一些可选的实施例中，本申请实施例提供的基板组件10的制作方法，在步骤S200之前，还包括步骤S500。

在步骤S500中，在基板110上形成第三膜层123，第三膜层123包括二氧化硅。

可以理解的是，在步骤S200中，在第三膜层123上形成第一膜层121。

根据本申请实施例提供的基板组件10的制作方法，在基板110上依次形成第三膜层123、第一膜层121、第二膜层122和抗菌膜层130，且抗菌膜层130的折射率可以大于第二膜层122的折射率，第二膜层122的折射率可以小于第一膜层121的折射率，第一膜层121的折射率大于第三膜层123的折射率，使得抗菌膜层130、第二膜层122、第一膜层121以及第三膜层123能够形成一个干涉膜系，起到降低光线反射率和提高光线透过率的作用，能够提高基板组件10的光线透过率。

可选的，采用磁控溅射方法在基板110上形成第三膜层123，制作时，将基板110和硅靶放置在真空腔室内，同时向真空腔室内通入氧气和氩气，成膜速率高，且部分材料能够渗入基板110中，实现第三膜层123与基板110之间的无界面结合，使得第三膜层123与基板110之间的附着力较好。

可选的，基板110为玻璃基板110，第三膜层123包括二氧化硅，使得第三膜层123和玻璃基板110的主要成份均为二氧化硅，则第三膜层123与玻璃基板110的膨胀系数大致相同，在外界环境变化时第三膜层123与玻璃基板110之间不易发生分离，第三膜层123与玻璃基板110之间的附着力更好。

可选的，采用磁控溅射方法在第三膜层123上形成第一膜层121，制作时，将硅靶和具有第三膜层123的基板110放置在真空腔室内，同时向真空腔室内通入氮气、氧气和氩气，成膜速率高，且第一膜层121的部分材料能够渗入第三膜层123，实现第一膜层121与第三膜层123之间的无界面结合，第一膜层121与第三膜层123之间的附着力较好。

可选的，采用磁控溅射方法在第一膜层121上形成第二膜层122，制作时，将硅靶以及具有第三膜层123和第一膜层121的基板110放置在真空腔室内，同时向真空腔室内通入氧气和氩气，成膜速率高，且第二膜层122的部分材料能够渗入基板110中，实现第二膜层122与第一膜层121之间的无界面结合，使得第二膜层122与第一膜层121之间的附着力较好。

可选的，采用磁控溅射方法在第二膜层122上形成抗菌膜层130，成膜速率高，且抗菌膜层130的部分材料能够渗入基板110中，实现抗菌膜层130与第二膜层122之间的无界面结合，使得抗菌膜层130与第二膜层122之间的附着力较好。制作时，将硅靶、主体材料和掺杂材料制作的金属靶以及具有第三膜层123、第一膜层121和第二膜层122的基板110放置在真空腔室内，同时向真空腔室内通入氧气和氩气。

图14为本申请又一实施例提供的基板组件的制作方法的流程图；图15为本申请又一实施例提供的基板组件的制作方法的操作过程示意图。

如图14和图15所示，在一些可选的实施例中，本申请实施例提供的基板组件10的制作方法，在步骤S400之后，还可以包括步骤S600。

在步骤S600中，在抗菌膜层130上形成防指纹膜层140。

在抗菌膜层130上形成防指纹膜层140，使得基板组件10包括防指纹膜层140，通过防指纹膜层140能够减少指纹以及各种污渍在所形成的基板组件10上的附着，同时也有利于已附着的污渍的去除，基板组件10用于显示装置时，利用防指纹膜层140能够避免指纹等污渍影响显示装置的显示效果。

形成防指纹膜层140的方式有多种，可选的，可以选用喷涂或蒸镀等方式在抗菌膜层130形成防指纹膜层140。

可选的，防指纹膜层140可以包括含氟硅烷偶联剂，含氟硅烷偶联剂制成的膜层网格状，具有大量透气微孔，能够使抗菌膜层130保持优秀的抗菌效果。

依照本申请如上文所述的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该申请仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本申请的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (17)

1.一种基板组件，用于显示装置，其特征在于，包括：

基板，具有第一表面；

过渡层，层叠设置于所述基板的所述第一表面，所述过渡层包括第一膜层和第二膜层，所述第二膜层设置于所述第一膜层背向所述基板的一侧，所述第一膜层包括氮氧化硅，所述第二膜层包括二氧化硅；

抗菌膜层，设置于所述第二膜层背向所述基板的一侧，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

2.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层中所述掺杂材料的质量百分比为0.3％-5％。

3.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层中所述硅氧化物的质量百分比为1％-5％。

4.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述过渡层还包括第三膜层，所述第三膜层设置于所述第一膜层与所述基板之间，所述第一膜层的折射率大于所述第三膜层的折射率。

5.根据权利要求4所述的基板组件，其特征在于，所述第三膜层包括二氧化硅。

6.根据权利要求5所述的基板组件，其特征在于，所述基板为玻璃基板或塑料基板。

7.根据权利要求4所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层的厚度为150nm-200nm，所述第一膜层的厚度为10nm-25nm，所述第二膜层的厚度为150nm-200nm，所述第三膜层的厚度为280nm-320nm。

8.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层与所述过渡层无界面结合；所述过渡层与所述基板无界面结合。

9.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，还包括防指纹膜层，所述防指纹膜层设置在所述抗菌膜层背向所述基板的一侧。

10.根据权利要求9所述的基板组件，其特征在于，所述防指纹膜层包括含氟硅烷偶联剂；所述抗菌膜层还包括硅氧化物。

11.根据权利要求9所述的基板组件，其特征在于，所述防指纹膜层的厚度小于或等于10μm。

12.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述基板朝向所述抗菌膜层的一侧表面的粗糙度小于0.25％，光泽度为25％-140％，雾度为1％-20％。

13.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示面板，具有出光侧；

基板组件，所述基板组件为权利要求1-12任一项所述的基板组件，所述基板组件设置于所述显示面板的所述出光侧，且所述抗菌膜层位于所述基板背向所述显示面板的一侧。

14.一种基板组件的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成第一膜层，所述第一膜层包括氮氧化硅；

在所述第一膜层上形成第二膜层，所述第二膜层包括二氧化硅；

在所述第二膜层上形成抗菌膜层，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

15.根据权利要求14所述的基板组件的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上形成第一膜层之前，所述制作方法还包括：

在所述基板上形成第三膜层，所述第三膜层包括二氧化硅。

16.根据权利要求14所述的基板组件的制作方法，其特征在于，所述在所述第二膜层上形成抗菌膜层之后，所述制作方法还包括：

在所述抗菌膜层上形成防指纹膜层。

17.根据权利要求14-16任一项所述的基板组件的制作方法，其特征在于，采用磁控溅射方法在所述基板上形成第一膜层；和/或，

采用磁控溅射方法在所述第一膜层上形成第二膜层；和/或，采用磁控溅射方法在所述第二膜层上形成抗菌膜层。