CN114596776A - 玻璃盖板、显示屏组件、电子设备及玻璃盖板加工方法 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供了一种玻璃盖板、显示屏组件、电子设备及玻璃盖板加工方法。该玻璃盖板应用于显示屏组件上，该玻璃盖板包括：基板、导电层以及功能层；基板包括镀膜面，导电层以及功能层依次层叠设置在镀膜面上，且导电层与镀膜面接触。这样，可以降低显示屏组件的表面的阻抗，从而可以改善显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
Description
技术领域
本申请涉及玻璃盖板技术领域，具体涉及一种玻璃盖板、显示屏组件、电子设备及玻璃盖板加工方法。
背景技术
随着科技的发展，电子设备的应用越来越广泛。通常电子设备包括显示屏组件，显示屏组件包括玻璃盖板。但相关技术中的玻璃盖板的表面的阻抗较大，从而导致在将玻璃盖板应用在显示屏组件上时，显示屏组件的边缘出现绿色的光晕的问题。
发明内容
本申请实施例提供了一种玻璃盖板、显示屏组件、电子设备及玻璃盖板加工方法，以解决相关技术中玻璃盖板的表面的阻抗较大，从而导致在将玻璃盖板应用在显示屏组件上时，显示屏组件的边缘出现绿色的光晕的问题。
为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：
第一方面，本申请实施例提供了一种玻璃盖板，应用于显示屏组件上，所述玻璃盖板包括：基板、导电层以及功能层；
所述基板包括镀膜面，所述导电层以及所述功能层依次层叠设置在所述镀膜面上，且所述导电层与所述镀膜面接触。
可选地，所述玻璃盖板还包括辅助过渡层；
辅助过渡层位于所述导电层与所述功能层之间，所述辅助过渡层用于增强所述功能层与所述镀膜面之间的粘合力，以使所述功能层牢固附着在所述镀膜面上。
可选地，所述辅助过渡层包括二氧化硅。
可选地，所述导电层包括氧化锆和氧化锌的混合物。
可选地，所述基板包括钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃中任一种。
第二方面、本申请实施例提供了一种显示屏组件，所述显示屏组件包括显示模组以及上述第一方面中任一项所述的玻璃盖板；
所述基板包括安装面，所述安装面和所述镀膜面位于基板相对的两个表面上，所述显示模组设置在所述基板的安装面上。
第三方面、本申请实施例提供了一种电子设备，所述电子设备包括壳体以及上述第二方面中所述的显示屏组件；
所述显示屏组件安装在所述壳体上。
第四方面、本申请实施例提供了一种玻璃盖板加工方法，所述加工方法包括：
获取基板，所述基板具有镀膜面；
在所述镀膜面上形成导电层；
在所述导电层上形成功能层，以得到所述玻璃盖板。
可选地，在所述镀膜面上形成导电层之前，所述加工方法还包括：
清除所述基板上的杂质，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
可选地，所述清除所述基板上的杂质，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度，包括：
通过碱液清洗所述基板；
通过等原子态的氩粒子轰击所述镀膜面，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
可选地，所述在所述导电层上形成功能层之前，所述加工方法还包括：
在所述导电层上形成辅助过渡层；
在所述辅助过渡层上形成所述功能层。
可选地，所述在所述导电层上形成辅助过渡层，包括：
获取第一目标靶材；
向所述第一目标靶材通入第一用量的氩气以及第二用量的氧气，以使所述氩气轰击所述第一目标靶材，所述氧气与从所述第一目标靶材上脱离的原子反应，以在所述导电层上淀积形成所述辅助过渡层；
其中，所述第一用量小于所述第二用量。
可选地，所述在所述辅助过渡层上形成所述功能层，包括：
在所述辅助过渡层上蒸镀所述目标材质，以使所述目标材质在所述辅助过渡层上淀积形成所述功能层。
可选地，所述在所述镀膜面上形成导电层，包括：
获取第二目标靶材；
向所述第二目标靶材通入第三用量的氩气以及第四用量的氧气，以使所述氩气轰击所述第二目标靶材，所述氧气与从所述第二目标靶材上脱离的原子反应，以在所述镀膜面上淀积形成所述导电层；
其中，所述第三用量大于所述第四用量。
在本申请实施例中，由于基板具有镀膜面，导电层以及功能层依次层叠设置在镀膜面上，且导电层与镀膜面接触，因此，导电层位于功能层与基板之间，从而在将玻璃盖板应用在显示屏组件上之后，导电层可以降低玻璃盖板的表面的阻抗，即可以降低显示屏组件的表面的阻抗，从而可以改善显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
附图说明
图1表示本申请实施例提供的一种玻璃盖板的示意图之一；
图2表示本申请实施例提供的一种玻璃盖板的示意图之二；
图3表示本申请实施例提供的另一种玻璃盖板的示意图；
图4表示本申请实施例提供的一种玻璃盖板加工方法的流程图。
附图标记：
10：基板；20：导电层；30：功能层；40：辅助过渡层。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
参照图1，示出了本申请实施例提供的一种玻璃盖板的示意图之一；参照图2，示出了本申请实施例提供的一种玻璃盖板的示意图之二；参照图3，示出了本申请实施例提供的另一种玻璃盖板的示意图。该玻璃盖板应用于显示屏组件上。如图1至图3所示，该玻璃盖板包括：基板10、导电层20以及功能层30。
基板10具有镀膜面，导电层20以及功能层30依次层叠设置在镀膜面上，且导电层20与镀膜面接触。
在本申请实施例中，由于基板10具有镀膜面，导电层20以及功能层30依次层叠设置在镀膜面上，且导电层20与镀膜面接触，因此，导电层20位于功能层30与基板10之间，从而在将玻璃盖板应用在显示屏组件上之后，导电层20可以降低玻璃盖板的表面的阻抗，即可以降低显示屏组件的表面的阻抗，从而可以改善显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
需要说明的是，在本申请实施例中，功能层30可以为防指纹层，即在用户触摸玻璃盖板时，用户的指纹可以较少的或者不留在玻璃盖板上。其中，功能层30可以为AF防指纹材料。
还需要说明的是，在将玻璃盖板应用在显示屏组件上之后，用户在触摸显示屏组件时，即用户触摸玻璃盖板上的功能层30，从而用户的手指与显示屏组件之间产生摩擦，从而摩擦起电，显示屏组件中的器件便可以感应到该电流，从而执行相应的操作。而功能层30与玻璃盖板均属于导电能力较差的材质，从而使得显示屏组件的表面的阻抗较大，不利于该电流传递，且会使得显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。在本申请实施例中，通过在功能层30与玻璃盖板之间设置导电层20，从而导电层20可以增加显示屏组件的导电能力，从而降低显示屏组件的表面的阻抗，且避免显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
另外，在本申请实施例中，如图1和图2所示，基板10的表面可以平面，基板10的表面的边缘还可以为弧面，对此，本申请实施例在此不作限定。
另外，在本申请实施例中，导电层20可以包括金属氧化物，通过金属氧化物的导电作用，降低显示屏组件的表面的阻抗，即降低玻璃盖板的表面的阻抗。具体的，导电层20可以包括氧化锆、还可以包括氧化锌，还可以包括氧化锆与氧化锌的混合物。当然，导电层20还可以包括其他类型的金属氧化物，对此，本申请实施例在此不作限定。
当导电层20包括氧化锆与氧化锆的混合物时，此时，导电层20的导电能力合适，即导电层20具有相对较弱的导电能力，从而避免导电层20的导电能力太强，影响玻璃盖板的表面的阻抗的问题出现。
另外，在本申请实施例中，基板10可以包括钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃中任一种。当然，基板10还可以为其他类型的玻璃，例如，基板10为铅玻璃。对于基板10的具体类型，本申请实施例在此不作限定。
另外，在本申请实施例中，基板10的厚度可以为0.5毫米至0.6毫米中任一数值，例如，基板10的厚度为0.5毫米，还可以为0.55毫米，还可以为0.6毫米。
另外，在一些实施例中，玻璃盖板还可以包括辅助过渡层40。辅助过渡层40位于导电层20与功能层30之间，辅助过渡层40用于增强功能层30与镀膜面之间的粘合力，以使功能层30牢固附着在镀膜面上。
当辅助过渡层40位于导电层20与功能层30之间时，此时，辅助过渡层40可以增强功能层30与镀膜面之间的粘合力，从而使得功能层30牢固附着在镀膜面上，使得在将玻璃盖板应用在显示屏组件之后，由于功能层30牢固附着在镀膜面上，因此，可以使得显示屏组件可以承受用户的长时间摩擦，使得显示屏组件的使用寿命延长，也使得用户使用显示屏组件的使用体验提高。即通过设置辅助过渡层40，可以使得玻璃盖板的抗摩擦性能提高，进而使得显示屏组件可以承受用户的日常摩擦。
另外，在一些实施例中，辅助过渡层40可以包括二氧化硅。
在相关技术中，在玻璃上设置功能层30时，当功能层30包括AF防指纹材料时，此时，AF防指纹材料中O键与玻璃中的Si-O键结合稳定，形成O-Si-O，从而使得AF防指纹材料可以较为牢固的附着在玻璃上。而在本申请实施例中，导电层20包括金属氧化物，即导电层20中没有Si-O键存在，从而需要在导电层20与功能之间增加Si-O键，使得功能层30中O键与Si-O键结合稳定，从而使得AF防指纹材料可以较为牢固的附着。因此，在本申请实施例中，辅助过渡层40包括二氧化硅，从而二氧化硅可以提供Si-O键，从而可以使得AF防指纹材料中的O键与Si-O键结合，增加辅助过渡层40与导电层20表层的附着力，从而增加功能层30在镀膜面上的附着力，使得导电层20牢固附着在镀膜面。
另外，在本申请实施例中，玻璃盖板可以应用在电子设备的显示屏组件上，电子设备包括但不限于手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、车载终端、可穿戴设备、以及计步器等。
在本申请实施例中，由于基板10具有镀膜面，导电层20以及功能层30依次层叠设置在镀膜面上，且导电层20与镀膜面接触，因此，导电层20位于功能层30与基板10之间，从而在将玻璃盖板应用在显示屏组件上之后，导电层20可以降低玻璃盖板的表面的阻抗，即可以降低显示屏组件的表面的阻抗，从而可以改善显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
本申请实施例提供了一种显示屏组件，该显示屏组件包括显示模组以及上述实施例中任一实施例中的玻璃盖板。
基板包括安装面，安装面和镀膜面位于基板相对的两个表面上，显示模组设置在基板的安装面上。
在本申请实施例中，由于显示模组安装在基板的安装面上，因此，在使用显示屏组件时，用户在功能层上触摸，且显示模组显示的图像可以通过基板被用户看到。
需要说明的是，显示模组可以包括显示面板和背光面板，其中，显示面板用于确定显示屏组件的亮度、对比度、色彩、可视角度，显示面板可以包括彩色滤光片、配向膜、液晶等膜层。背光面板可以包括光源、导光板、光学用膜片以及其他结构件。背光面板可以根据灯珠和功耗来控制亮度，如果需要亮度高的就可以根据背光面板的结构进行更改，则可以通过背光面板调整显示屏组件的亮度。此外，显示模组可以包括电路板以及散热膜层等结构。
另外，在本申请实施例中，可以通过OCA粘接胶将显示模组粘接在安装面上。
本申请实施例提供了一种电子设备，该电子设备包括壳体以及上述实施例中的显示屏组件。显示屏组件安装在壳体上。
需要说明的是，在本申请实施例中，电子设备包括但不限于手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、车载终端、可穿戴设备、以及计步器等。
参照图4，示出了本申请实施例提供的一种玻璃盖板加工方法，如图3所示，该加工方法包括：
步骤401：获取基板，基板具有镀膜面。
在对玻璃盖板加工时，通常需要获取基板，且基板具有镀膜面，从而可以在镀膜面上进行相应的加工，从而形成玻璃盖板。
其中，基板可以包括钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃中任一种。当然，基板还可以为其他类型的玻璃，例如，基板为铅玻璃。对于基板的具体类型，本申请实施例在此不作限定。
另外，在本申请实施例中，基板的厚度可以为0.5毫米至0.6毫米中任一数值，例如，基板的厚度为0.5毫米，还可以为0.55毫米，还可以为0.6毫米。
步骤402：在镀膜面上形成导电层。
其中，在镀膜面上形成导电层之后，导电层具有一定的导电能力，从而使得玻璃盖板的表面的阻抗降低。
另外，在一些实现方式中，步骤402的实现方式可以为：获取第二目标靶材；向第二目标靶材通入第三用量的氩气以及第四用量的氧气，以使氩气轰击第二目标靶材，氧气与从第二目标靶材上脱离的原子反应，以在镀膜面上淀积形成导电层；其中，第三用量大于第四用量。
其中，第二目标靶材可以为金属氧化物，具体的，第二目标靶材可以为锌锆合金，当然，第二目标靶材还可以为其他金属合金，对此，本申请实施例在此不作限定。
另外，在向第二目标靶材通入第三用量的氩气以及第四用量的氧气之后，氩气便会轰击第二目标靶材，使得第二目标靶材表面的原子与第二目标靶材分离。在第二目标靶材的原子与第二目标靶材分离之后，氧气便会与从第二目标靶材上脱离的原子反应，从而生成相应的氧化物，且氧化物在镀膜面上淀积，最终形成导电层。即相当于通过溅射工艺，在镀膜面上形成导电层。
例如，当第二目标靶材为锌锆合金时，在氩气轰击在锌锆合金的表面时，锌原子以及锆原子便会从锌锆合金的表面分离，从而锌原子和锆原子向镀膜面运动。在锌原子与锆原子从锌锆合金的表面分离之后，锌原子与锆原子分别与氧气结合，形成氧化锌以及氧化锆，从而氧化锌以及氧化锆在镀膜面上淀积，最终形成导电层。
需要说明的是，第三用量以及第四用量均可以根据实际需要进行设定，只需确保第三用量大于第四用量即可，即氩气的用量大于氧气的用量。例如，在通入氩气和氧气时，氩气的流量可以为140毫升每分钟，氧气的流量可以为20毫升每分钟，通入相同的时长，即最终氩气的用量大于氧气的用量。
另外，在获取到基板之后，基板的表面可能具有杂质，影响在镀膜面上形成导电层。其中，如果镀膜面上具有杂质，在镀膜面上形成导电层之后，相当于导电层部分附着在杂质上，影响导电层在镀膜面上的附着。为了避免这种问题出现，在一些实现方式中，在步骤402之前，该玻璃盖板加工方法还可以包括：清除基板上的杂质，以使镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
其中，可以清除基板上的杂质，在将基板上的杂质清除之后，镀膜面的清洁度便会提高，即镀膜面上的杂质减少，甚至镀膜面上没有杂质，从而在镀膜面上形成导电层时，导电层的附着效果较好。
另外，清除基板上的杂质，以使镀膜面的清洁度达到预设清洁度的实现方式可以为：通过碱液清洗基板；通过等原子态的氩粒子轰击镀膜面，以使镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
其中，可以通过碱液清洗基板，从而碱液可以去除基板上的油污，使得基板的清洁度提高。
需要说明的是，碱液可以为氢氧化钾溶液、氢氧化钠溶液、碳酸氢钠溶液等，对于碱液的具体类型，本申请实施例在此不作限定。
另外，在通过碱液清洗基板之后，镀膜面上可能存在有碱液清洗不了的杂质，从而通过等离子态的氩粒子轰击镀膜面，即氩粒子在镀膜面上撞击，镀膜面上的杂质有氩粒子的撞击作用，从镀膜面上掉落，从而使得镀膜面上的杂质减少，镀膜面的清洁度提高。
需要说明的是，预设清洁度可以根据实际需要进行设定，对于预设清洁度的具体数值，本申请实施例在此不作限定。
步骤403：在导电层上形成功能层，以得到玻璃盖板。
其中，在导电层上形成功能层之后，功能层具有防指纹的作用，从而可以使得在将玻璃盖板应用在显示屏组件之后，提高显示屏组件的抗摩擦性能。
另外，在导电层上形成功能的实现方式可以为：通过蒸镀工艺形成功能层。即获取目标材质，之后将目标材质蒸发，使得目标材质挥发并附着在导电层上，以形成功能层。其中，目标材质可以为AF防指纹材料。
另外，为了使得功能层可以更好的附着在镀膜面上，在一些实现方式中，在步骤403之前，该玻璃盖板加工方法还可以包括：在导电层上形成辅助过渡层；在辅助过渡层上形成功能层。
其中，在玻璃盖板上形成辅助过渡层之后，辅助过渡层便可以提高功能层与镀膜面之间的粘合力，使得功能层可以较为牢固的附着在镀膜面上。其中，辅助过渡层可以包括二氧化硅。
另外，在一些实现方式中，在导电层上形成辅助过渡层的实现方式可以为：获取第一目标靶材；向第一目标靶材通入第一用量的氩气以及第二用量的氧气，以使氩气轰击第一目标靶材，氧气与从第一目标靶材上脱离的原子反应，以在导电层上淀积形成辅助过渡层；其中，第一用量小于第二用量。
其中，第一目标靶材可以为多晶硅。
另外，在向第一目标靶材通入第一用量的氩气以及第二用量的氧气之后，氩气便会轰击第一目标靶材，使得第一目标靶材表面的原子与第一目标靶材分离。在第一目标靶材的原子与第一目标靶材分离之后，氧气便会与从第一目标靶材上脱离的原子反应，从而生成相应的氧化物，且氧化物在镀膜面上淀积，最终形成辅助过渡层。即相当于通过溅射工艺，在导电层上形成辅助过渡层。
例如，当第一目标靶材为多晶硅时，在氩气轰击在多晶硅的表面时，硅原子便会从多晶硅的表面分离，从而硅原子向导电层运动。在硅原子从多晶硅的表面分离之后，硅原子与氧气结合，形成二氧化硅，从而二氧化硅在导电层淀积，最终形成辅助过渡层。
需要说明的是，第一用量以及第二用量均可以根据实际需要进行设定，只需确保第一用量小于第二用量即可，即氩气的用量小于氧气的用量。例如，在通入氩气和氧气时，氩气的流量可以为140毫升每分钟，氧气的流量可以为220毫升每分钟，通入相同的时长，即最终氩气的用量小于氧气的用量。
还需要说明的是，在导电层上形成辅助过渡层时，通入的氧气的用量大于氩气的用量，氧气不仅可以起到反应的作用，即氧气与第二目标靶材上脱离的原子反应，氧气还可以起到防止玻璃盖板的表面镀膜发黄的作用，即防止二氧化碳形成的辅助过渡层发黄的作用。这是由于在溅射的过程中，氩气的轰击会产生氧空穴，即二氧化硅在淀积在导电层上之后，由于氩粒子的轰击作用会产生氧空穴，而大量的氧气中的氧原子便可以填充氧空穴，使得二氧化硅膜不会发黄，进而使得玻璃盖板的表面的镀膜不会发黄。
例如，下面的表1、表2以及表3是在实际加工玻璃盖板时进行测量得到的数据。其中，表1、表2以及表3，均是进行Lab测试，即测试玻璃盖板的颜色，其中，Lab色彩模型是由亮度(L)和有关色彩的a，b三个要素组成。L表示明度，a表示从洋红色至绿色的范围，b表示从黄色至蓝色的范围。而字母b所在的一列的数字越小，表明玻璃盖板的黄色效果越小，玻璃盖板的质量越好。
另外，在得到表1中数据之前，在加工玻璃盖板时，在形成辅助过渡层时，通入的氩气流量100SCCM，氧气流量150SCCM；在得到表2中数据之前，在加工玻璃盖板时，在形成辅助过渡层时，通入的氩气流量140SCCM，氧气流量210SCCM；在得到表3中数据之前，在加工玻璃盖板时，在形成辅助过渡层时，通入的氩气流量180SCCM，氧气流量270SCCM。其中，在得到表1、表2和表3的数据时，在形成导电层时，直流靶溅射功率均为4.5KW，通入的氩气流量均为300SCCM，通入的氧气流量均为20SCCM。
从表1至表3中的结果得出，在表1中，字母b所在一列中的数字大于表2中字母b所在的一列中的数字，表2中字母b所在一列中的数字大于表3中字母b所在的一列中的数字，即表1至表3，字母b所在的一列的数字逐渐减小，表明玻璃盖板的黄色效果逐渐减小，玻璃盖板的质量逐渐变好。且表1至表3，玻璃盖板的透光率，即透过光线的效率逐渐增大。
从而可以通过调节氧气流量/(氧气流量+氩气流量)比值来调整LAB值，从而调整辅助过渡层，进而调整功能层在镀膜面上的附着效果，提高玻璃盖板的耐磨性。
表1
表2
表3
另外，一些实现方式中，在辅助过渡层上形成功能层的实现方式可以为：在辅助过渡层上蒸镀目标材质，以使目标材质在辅助过渡层上淀积形成功能层。
其中，可以通过蒸镀工艺，即将目标材质加热，使得目标材质挥发，挥发之后的目标材质便可以在辅助过渡层上淀积，形成功能层。其中，目标材质可以为AF防指纹材料。
在本申请实施例中，获取基板，基板具有镀膜面；在镀膜面上形成导电层；在导电层上形成功能层，以得到玻璃盖板。从而使得导电层位于功能层与基板之间，从而在将玻璃盖板应用在显示屏组件上之后，导电层可以降低玻璃盖板的表面的阻抗，即可以降低显示屏组件的表面的阻抗，从而可以改善显示屏组件的边缘出现绿色光晕的问题。
需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
尽管已描述了本申请实施例的可选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括可选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体与另一个实体区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。
以上对本申请所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的原理及实现方式，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (14)
1.一种玻璃盖板，应用于显示屏组件上，其特征在于，所述玻璃盖板包括：基板、导电层以及功能层；
所述基板包括镀膜面，所述导电层以及所述功能层依次层叠设置在所述镀膜面上，且所述导电层与所述镀膜面接触。
2.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板还包括辅助过渡层；
辅助过渡层位于所述导电层与所述功能层之间，所述辅助过渡层用于增强所述功能层与所述镀膜面之间的粘合力，以使所述功能层牢固附着在所述镀膜面上。
3.根据权利要求2所述的玻璃盖板，其特征在于，所述辅助过渡层包括二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述导电层包括氧化锆和氧化锌的混合物。
5.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述基板包括钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃中任一种。
6.一种显示屏组件，其特征在于，所述显示屏组件包括显示模组以及权利要求1-5中任一项所述的玻璃盖板；
所述基板包括安装面，所述安装面和所述镀膜面位于基板相对的两个表面上，所述显示模组设置在所述基板的安装面上。
7.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括壳体以及权利要求6所述的显示屏组件；
所述显示屏组件安装在所述壳体上。
8.一种玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述加工方法包括：
获取基板，所述基板具有镀膜面；
在所述镀膜面上形成导电层；
在所述导电层上形成功能层，以得到所述玻璃盖板。
9.根据权利要求8所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，在所述镀膜面上形成导电层之前，所述加工方法还包括：
清除所述基板上的杂质，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
10.根据权利要求9所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述清除所述基板上的杂质，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度，包括：
通过碱液清洗所述基板；
通过等原子态的氩粒子轰击所述镀膜面，以使所述镀膜面的清洁度达到预设清洁度。
11.根据权利要求8所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述在所述导电层上形成功能层之前，所述加工方法还包括：
在所述导电层上形成辅助过渡层；
在所述辅助过渡层上形成所述功能层。
12.根据权利要求11所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述在所述导电层上形成辅助过渡层，包括：
获取第一目标靶材；
向所述第一目标靶材通入第一用量的氩气以及第二用量的氧气，以使所述氩气轰击所述第一目标靶材，所述氧气与从所述第一目标靶材上脱离的原子反应，以在所述导电层上淀积形成所述辅助过渡层；
其中，所述第一用量小于所述第二用量。
13.根据权利要求11所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述在所述辅助过渡层上形成所述功能层，包括：
在所述辅助过渡层上蒸镀所述目标材质，以使所述目标材质在所述辅助过渡层上淀积形成所述功能层。
14.根据权利要求8所述的玻璃盖板加工方法，其特征在于，所述在所述镀膜面上形成导电层，包括：
获取第二目标靶材；
向所述第二目标靶材通入第三用量的氩气以及第四用量的氧气，以使所述氩气轰击所述第二目标靶材，所述氧气与从所述第二目标靶材上脱离的原子反应，以在所述镀膜面上淀积形成所述导电层；
其中，所述第三用量大于所述第四用量。
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