CN114592177A - 一种钢领用pvd均匀镀膜工装设计 - Google Patents

一种钢领用pvd均匀镀膜工装设计 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计，涉及机械设计制造领域，包括真空室和钢领固定圈，钢领固定圈包括放置环和插接环，插接环固定在放置环的侧面，真空室的顶部转动连接的转盘，真空室的下侧设有第一电机和第二电机，第一电机的输出轴上套设有转筒且上端均贯穿真空室下侧，第一电机的输出上端固定有中心圆盘，转筒上端固定有中心齿轮，支撑轴的自由端与转盘的中部固定连接，转盘的边缘转动连接有曲杆，曲杆上套设有多个固定器，曲杆的下端固定有从动齿轮，从动齿轮与中心齿轮相啮合。采用本发明的技术方案能够利用公转与自转原理，使能量相同的离子均匀地、无差别地沉积到平放的钢领内、外跑道上，膜层均匀致密，结合力强，产品一致性好。

Description

一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计
技术领域
本发明涉及机械设计制造领域，尤其涉及一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计。
背景技术
钢领，是纺织机械专用精密器件，结构复杂，通常用电镀硬铬作耐磨层。但国内电镀工艺相对落后，不同位置镀膜不均，膜中有孔洞，产品一致性差，导致产品走熟期长，寿命短。而国外电镀工艺技术先进，膜层均匀、致密，产品一致性好，走熟期短或无走熟期，寿命是我国产品的几倍到十几倍，价格也是几倍到十几倍。高端产品市场100％被国外公司占有，国外公司因此获得高额利润。另外，由于电镀工艺不可避免存在电镀废液中重金属污染问题，已被我国列为淘汰或限制产业。因此，寻找替代电镀工艺的表面处理技术是近20年来很热的一个研究课题。此研究利用磁过滤阴极弧(FCVA)镀膜技术，避开电镀工艺，直接获得更高级产品，具有重要的应用价值。
现有PVD技术钢领镀膜工装都是采用吊挂式，会导致：1.不同位置镀膜厚度不同，膜的均匀性不好；2.到达钢领某些部位的粒子能量低，膜基结合力差；3.钢领摆放的前后位置差异，导致产品一致性差。因为以上缺点，PVD技术钢领表面镀膜技术产业化还未真正实现。
发明内容
本发明意在提供一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计，能够利用公转与自转原理，使能量相同的离子均匀地、无差别地沉积到平放的钢领内、外跑道上，膜层均匀致密，结合力强，产品一致性好。
为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计，包括真空室和钢领固定圈，所述钢领固定圈包括放置环和插接环，所述插接环固定在放置环的侧面，所述真空室的顶部转动连接的转盘，所述真空室的下侧外部设有第一电机和第二电机，所述第一电机的输出轴上套设有转筒且上端均贯穿真空室下侧，所述第一电机的输出上端固定有中心圆盘，所述转筒上端固定有中心齿轮，并置于中心圆盘的下侧，所述转筒的下端和第二电机的输出轴上均固定有相互之间通过传送带连接的传动轮，所述中心转盘的中部固定有支撑轴，所述支撑轴的自由端与转盘的中部固定连接，所述转盘的边缘转动连接有曲杆，所述曲杆上套设有多个固定器，所述插接环插接在固定器上，所述曲杆的下端固定有从动齿轮，所述从动齿轮与中心齿轮相啮合。
优选地，所述固定器包括壳体，所述壳体上设有贯通上下两侧的套孔，所述壳体的右侧开设有固定槽，所述固定槽的左端与套孔连通，所述固定槽内滑动连接有压板，所述固定槽的上侧开设有滑动槽，所述滑动槽内滑动连接嵌合器，所述嵌合器的上侧固定有第一弹片，所述第一弹片的自由端与滑动槽的内侧面固定连接，所述插接环从固定槽的右端插入，所述嵌合器的下端可嵌合进插接环内。
优选地，所述压板包括第一挤压板、第二挤压板和第二弹片，所述第二弹片的两端分别与第一挤压板和第二挤压板固定连接，所述第二挤压板的左端设有防滑纹并可与曲杆相抵触。
优选地，所述嵌合器的下端为半球形，且直径与插接环的直径相等。
优选地，所述嵌合器的上端固定有L型的拉杆，所述拉杆的一端贯穿壳体并置于壳体上侧。
优选地，所述中心圆盘和转盘上均开设有多个空洞。
本技术方案的原理及有益效果：
(1)本发明通过电机带动转盘转动，转盘带动曲杆做圆周运动，因曲杆下端的从动齿轮与中心齿轮啮合，因此，在曲杆做圆周运动的同时，控制第二电机的转速，也就是控制中心齿轮的转速，达到控制曲杆转速的目的，使固定在曲杆上端的待镀膜的钢领在公转的同时自传，使从靶材离化了的离子以相同的能量到达平放的钢领内、外跑道上，镀膜均匀，结合力强。
(2)本发明通过将钢领放置在钢领固定圈的放置环上，然后将插接环插入固定器的固定槽，插入时，会将嵌合器向上挤压，将压板向左挤压，直至嵌合器嵌入插接环中，此时弹片处于压缩状态，会使第二挤压板与挤压曲杆，将固定器固定在曲杆上，同时因为嵌合器嵌入插接环中，也能避免钢领固定环被压板弹出；当需要拆除钢领固定环时，可向上拉动拉杆，使嵌合器脱离插接环，压板将钢领固定圈弹出，同时压板不再与曲杆紧密接触，即可是固定器能上下自由滑动，调整位置。
附图说明
图1为本发明实施例提供的均匀镀膜工装设计的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的固定器的结构剖视图；
图3为本发明实施例提供的钢领固定圈的结构图；
图4为本发明实施例提供的A方向的剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明：
说明书附图中的附图标记包括：真空室1、第一电机2、转盘3、曲杆4、第二挤压板5、第二弹片6、第一挤压板7、第一弹片8、嵌合器9、钢领10、放置环11、插接环12、中心圆盘13、中心齿轮14、从动齿轮15、第二电机16、转筒17。
如图1至图4所示的一种钢领10用PVD均匀镀膜工装设计，包括真空室1和钢领10固定圈，钢领10固定圈包括放置环11和插接环12，插接环12固定在放置环11的侧面，真空室1的顶部转动连接的转盘3，真空室1的下侧外部设有第一电机2和第二电机16，第一电机2的输出轴上套设有转筒17且上端均贯穿真空室1下侧，第一电机2的输出上端固定有中心圆盘13，转筒17上端固定有中心齿轮14，并置于中心圆盘13的下侧，转筒17的下端和第二电机16的输出轴上均固定有相互之间通过传送带连接的传动轮，中心转盘3的中部固定有支撑轴，支撑轴的自由端与转盘3的中部固定连接，转盘3的边缘转动连接有曲杆4，曲杆4上套设有多个固定器，插接环12插接在固定器上，曲杆4的下端固定有从动齿轮15，从动齿轮15与中心齿轮14相啮合，从动齿轮15与中心齿轮14相啮合，中心圆盘13和转盘3上均开设有多个空洞，以减轻重量。
固定器包括壳体，壳体上设有贯通上下两侧的套孔，壳体的右侧开设有固定槽，固定槽的左端与套孔连通，固定槽内滑动连接有压板，压板包括第一挤压板7、第二挤压板5和第二弹片6，第二弹片6的两端分别与第一挤压板7和第二挤压板5固定连接，第二挤压板5的左端设有防滑纹并可与曲杆4相抵触，固定槽的上侧开设有滑动槽，滑动槽内滑动连接嵌合器9，嵌合器9的上侧固定有第一弹片8，第一弹片8的自由端与滑动槽的内侧面固定连接，插接环12从固定槽的右端插入，嵌合器9的下端为半球形，且直径与插接环12的直径相等，可嵌合进插接环12内。
具体实施过程如下：
在进行镀膜前，根据需求调整曲杆4上固定器的位置，调整好后将钢领10放置在钢领固定圈的放置环11上，然后将两个插接环12同时分别插入固定器的两个固定槽中，插入时，会将嵌合器9向上挤压，将压板向左挤压，直至嵌合器9嵌入插接环12中，此时第二弹片6处于压缩状态，会使第二挤压板5与挤压曲杆4，将固定器固定在曲杆4上，同时因为嵌合器9嵌入插接环12中，也能避免钢领10固定环被压板弹出。
待其他钢领10固定好位置后，关闭真空室1，抽真空，并在真空室中施加相应电场，使离子从真空室侧面的离子进入口以45°角斜射到纲领上，然后打开第一电机2和第二电机16，第一电机2带动转盘3转动，转盘3带动曲杆4做圆周运动，因曲杆4下端的从动齿轮15与中心齿轮14啮合，因此，在曲杆4做圆周运动的同时，自身会同步转动，使固定在曲杆4上端的待镀膜的钢领10在公转的同时沿自身中心轴线自转，使从靶材离化了的离子以相同的能量到达平放的钢领10内、外跑道上，镀膜均匀，结合力强，另外控制第二电机16的转速能控制中心齿轮14的转速，以此达到控制曲杆4自传的转速的目的。
以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体技术方案和/或特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明技术方案的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (5)

1.一种钢领用PVD均匀镀膜工装设计，包括真空室和钢领固定圈，其特征在于：所述钢领固定圈包括放置环和插接环，所述插接环固定在放置环的侧面，所述真空室的顶部转动连接的转盘，所述真空室的下侧外部设有第一电机和第二电机，所述第一电机的输出轴上套设有转筒且上端均贯穿真空室下侧，所述第一电机的输出上端固定有中心圆盘，所述转筒上端固定有中心齿轮，并置于中心圆盘的下侧，所述转筒的下端和第二电机的输出轴上均固定有相互之间通过传送带连接的传动轮，所述中心转盘的中部固定有支撑轴，所述支撑轴的自由端与转盘的中部固定连接，所述转盘的边缘转动连接有曲杆，所述曲杆上套设有多个固定器，所述插接环插接在固定器上，所述曲杆的下端固定有从动齿轮，所述从动齿轮与中心齿轮相啮合。
2.根据权利要求1所述的钢领用PVD均匀镀膜工装设计，其特征在于：所述固定器包括壳体，所述壳体上设有贯通上下两侧的套孔，所述壳体的右侧开设有固定槽，所述固定槽的左端与套孔连通，所述固定槽内滑动连接有压板，所述固定槽的上侧开设有滑动槽，所述滑动槽内滑动连接嵌合器，所述嵌合器的上侧固定有第一弹片，所述第一弹片的自由端与滑动槽的内侧面固定连接，所述插接环从固定槽的右端插入，所述嵌合器的下端可嵌合进插接环内。
3.根据权利要求2所述的钢领用PVD均匀镀膜工装设计，其特征在于：所述压板包括第一挤压板、第二挤压板和第二弹片，所述第二弹片的两端分别与第一挤压板和第二挤压板固定连接，所述第二挤压板的左端设有防滑纹并可与曲杆相抵触。
4.根据权利要求2所述的钢领用PVD均匀镀膜工装设计，其特征在于：所述嵌合器的下端为半球形，且直径与插接环的直径相等。
5.根据权利要求1所述的钢领用PVD均匀镀膜工装设计，其特征在于：所述中心圆盘和转盘上均开设有多个空洞。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010235971A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Shinmaywa Industries Ltd 真空成膜装置
CN108315707A (zh) * 2018-04-19 2018-07-24 浙江银之源贵金属有限公司 一种金属饰品镀膜装置
CN208308952U (zh) * 2018-03-29 2019-01-01 青岛华磊真空镀膜有限公司 镀膜均匀的真空镀膜装置
CN208844188U (zh) * 2018-09-21 2019-05-10 沈阳爱科斯科技有限公司 镀膜托盘及镀膜系统
CN208917295U (zh) * 2018-10-25 2019-05-31 金山莱宝(厦门)科技有限公司 一种立式数控真空镀膜机
CN208995584U (zh) * 2018-09-27 2019-06-18 佛山科学技术学院 一种真空镀膜装置的传动机构
CN210281453U (zh) * 2019-07-08 2020-04-10 天津润德锐金属制品有限公司 一种改进型的长钻尾螺钉钻尾加工装置
CN214160270U (zh) * 2020-11-30 2021-09-10 东莞市奥瑞康精工有限公司 一种搅拌杆的镀膜设备
CN214991815U (zh) * 2021-07-12 2021-12-03 温州宇顺电镀有限公司 一种金属眼镜架加工用真空离子镀膜机
CN215481239U (zh) * 2021-08-09 2022-01-11 无锡茂源科技有限公司 一种真空镀膜靶材用钢管

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010235971A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Shinmaywa Industries Ltd 真空成膜装置
CN208308952U (zh) * 2018-03-29 2019-01-01 青岛华磊真空镀膜有限公司 镀膜均匀的真空镀膜装置
CN108315707A (zh) * 2018-04-19 2018-07-24 浙江银之源贵金属有限公司 一种金属饰品镀膜装置
CN208844188U (zh) * 2018-09-21 2019-05-10 沈阳爱科斯科技有限公司 镀膜托盘及镀膜系统
CN208995584U (zh) * 2018-09-27 2019-06-18 佛山科学技术学院 一种真空镀膜装置的传动机构
CN208917295U (zh) * 2018-10-25 2019-05-31 金山莱宝(厦门)科技有限公司 一种立式数控真空镀膜机
CN210281453U (zh) * 2019-07-08 2020-04-10 天津润德锐金属制品有限公司 一种改进型的长钻尾螺钉钻尾加工装置
CN214160270U (zh) * 2020-11-30 2021-09-10 东莞市奥瑞康精工有限公司 一种搅拌杆的镀膜设备
CN214991815U (zh) * 2021-07-12 2021-12-03 温州宇顺电镀有限公司 一种金属眼镜架加工用真空离子镀膜机
CN215481239U (zh) * 2021-08-09 2022-01-11 无锡茂源科技有限公司 一种真空镀膜靶材用钢管

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