CN114562874A - 一种用于晶圆清洗后烘干处理装置 - Google Patents

一种用于晶圆清洗后烘干处理装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种用于晶圆清洗后烘干处理装置，包括：一夹具，用于夹持所述晶圆；一供气机构；一烘干单元，其包括两个烘干组，两个烘干组沿所述晶圆的轴线布置于所述晶圆的两侧；所述烘干组包括：一第一供气件，其内设有第一供气腔，所述第一供气件上设有多个第一出气孔，多个所述第一出气孔均与所述第一供气腔连通，多个所述第一出气孔朝向所述晶圆；其中，所述第一供气腔与所述供气机构连通。在利用夹具夹持好清洗后的晶圆后，利用供气机构箱第一供气腔内通入高温气体，经过第一出气孔，对晶圆进行烘干处理。可以对晶圆的两个表面同时进行烘干处理，效率高。

Description

一种用于晶圆清洗后烘干处理装置
技术领域
本发明涉及晶圆处理技术领域，尤其涉及一种用于晶圆清洗后烘干处理装置。
背景技术
目前，随着半导体制造工艺技术的不断发展，器件的特征尺寸不断减少，纳米尺度的缺陷对晶圆造成的影响逐渐增加，对于晶圆清洗已然成为提高晶圆良率的关键。在对晶圆清洗后，需要及时的烘干。
在中国专利申请号：CN202010853888.9中公开了一种晶圆旋转烘干机构，包括主箱体，所述主箱体的左端板的左侧壁中部固定有旋转电机，旋转电机的输出轴穿过主箱体的左端板的右侧壁并固定有夹持块，夹持块上具有夹持凹槽，安装有晶圆的旋转架的左端板插入夹持凹槽中，主箱体的右端板的中部成型有安装通槽，右连接板固定在主箱体的右端板的右侧壁上，右连接板覆盖安装通槽，右连接板的中部铰接有传动轴，传动轴的左端穿过安装通槽并固定有右定位块，旋转架的右端板插套在右定位块的左侧壁上成型有定位槽中。
以上技术方案，烘干效率低，有待进一步改进。
发明内容
为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题，本发明提出一种用于晶圆清洗后烘干处理装置。
本发明提出的一种用于晶圆清洗后烘干处理装置，包括：
一夹具，用于夹持所述晶圆；
一供气机构；
一烘干单元，其包括两个烘干组，两个烘干组沿所述晶圆的轴线布置于所述晶圆的两侧；所述烘干组包括：
一第一供气件，其内设有第一供气腔，所述第一供气件上设有多个第一出气孔，多个所述第一出气孔均与所述第一供气腔连通，多个所述第一出气孔朝向所述晶圆；其中，所述第一供气腔与所述供气机构连通。
优选地，所述夹具包括：
一支撑座；
一第一横梁、两个第二横梁，平行布置，并均安装在所述支撑座上，两个所述第二横梁位于所述第一横梁的上方，并位于所述第一横梁的两侧，所述第一横梁、所述第二横梁上均设有安装轮，所述安装轮上设有安装槽，所述安装槽用于放置晶圆。
优选地，所述夹具还包括：
多个定位柱，设置在所述支撑座上，其中，多个所述定位柱分布于所述第一横梁的两侧；
两个支撑柱，分别与两个所述第二横梁连接，两个所述支撑柱上均设有与所述定位柱相配合的定位槽。
优选地，所述第一横梁与所述支撑座转动连接；
所述装置还包括电机，所述电机的输出端与所述第一横梁连接。
优选地，所述第一横梁、所述第二横梁上的所述安装轮均为多个，沿所述第一横梁的长度方向间隔布置；
所述烘干单元的数量为多个，与多个所述安装轮一样对应。
优选地，该装置还包括：
一管道；
一第二供气件，与多个所述第一供气件连接，所述第二供气件内设有第二供气腔，所述第二供气腔通过所述管道与所述供气机构连通，所述第二供气腔与所述第一供气腔连通。
优选地，所述第二供气件上设有第二出气孔，所述第二出气孔与所述第二供气腔连通，所述第二出气孔朝向所述晶圆的周向侧壁。
优选地，该装置还包括：
一支架，所述支架上设有沿竖直方向布置的滑槽；
一滑块，安装在所述第二供气件上，所述滑块与所述滑槽滑动连接。
优选地，该装置还包括第一弹性件，该第一弹性件一端与所述第二供气件连接，另一端与所述支架连接，所述第一弹性件用于对所述第二供气件提供向上的弹力。
优选地，该装置还包括一紧固件，所述紧固件用于将所述第二供气件固定。
本发明公开的一个方面带来的有益效果是：
在利用夹具夹持好清洗后的晶圆后，利用供气机构箱第一供气腔内通入高温气体，经过第一出气孔，对晶圆进行烘干处理。
可以对晶圆的两个表面同时进行烘干处理，效率高。
附图说明
图1为本发明公开的轴视图；
图2为本发明公开的轴视图；
图3为本发明公开的主视图；
图4为本发明公开的图3中A处的剖视图；
图5为本发明公开的图3中B处的剖视图；
图6为本发明公开的部分部件的轴视图；
图7为本发明公开的部分部件的轴视图；
图8为本发明公开的部分部件的轴视图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互的结合；下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”和“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定方位、以特定的方位构成和操作，因此不能理解为本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
参照图1-8，本发明提出的一种用于晶圆清洗后烘干处理装置，包括：
一夹具，用于夹持所述晶圆J；一供气机构1；一烘干单元，其包括两个烘干组，两个烘干组沿所述晶圆J的轴线布置于所述晶圆J的两侧；所述烘干组包括：
一第一供气件2，其内设有第一供气腔201，所述第一供气件2上设有多个第一出气孔202，多个所述第一出气孔202均与所述第一供气腔201连通，多个所述第一出气孔202朝向所述晶圆J；其中，所述第一供气腔201与所述供气机构1连通。
在利用夹具夹持好清洗后的晶圆J后，利用供气机构1箱第一供气腔201内通入高温气体，经过第一出气孔202，对晶圆J进行烘干处理。
可以对晶圆J的两个表面同时进行烘干处理，效率高。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述夹具包括：
一支撑座3；一个第一横梁4、两个第二横梁5，平行布置，并均安装在所述支撑座3上，两个所述第二横梁5位于所述第一横梁4的上方，并位于所述第一横梁4的两侧，所述第一横梁4、所述第二横梁5上均设有安装轮401、501，所述安装轮401、501上设有安装槽4011、5011，所述安装槽4011、5011用于放置晶圆J。
将晶圆J放置在安装槽4011、5011内，利用一个第一横梁4、两个第二横梁5有效支撑晶圆J。设置安装槽4011、5011避免晶圆J向两侧晃动。
方便放置、方便取下晶圆J。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述夹具还包括：
多个定位柱6，设置在所述支撑座3上，其中，多个所述定位柱6分布于所述第一横梁4的两侧；两个支撑柱7，分别与两个所述第二横梁5连接，两个所述支撑柱7上均设有与所述定位柱6相配合的定位槽。
为了适用不同尺寸的晶圆J，可以将支撑柱7插在不同的定位柱6上，调整两个第二支撑柱7之间的间距，方便放置不同尺寸晶圆J。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述第一横梁4与所述支撑座3转动连接；所述装置还包括电机8，所述电机8的输出端与所述第一横梁4连接。利用电机8带动第一横梁4转动，带动晶圆J转动，提高烘干均匀性，提高效率。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述第一横梁4、所述第二横梁5上的所述安装轮401、501均为多个，沿所述第一横梁4的长度方向间隔布置；所述烘干单元的数量为多个，与多个所述安装轮401、501一样对应。可以同时对对晶圆J烘干处理，效率高。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括：
一管道9；一第二供气件10，与多个所述第一供气件2连接，所述第二供气件10内设有第二供气腔1001，所述第二供气腔1001通过所述管道9与所述供气机构1连通，所述第二供气腔1001与所述第一供气腔201连通。
管道9可以为软管。
供气机构1提供的气体经过管道9进入第二供气腔1001，而后进入第一供气腔201，经过第一出气孔202排出，对晶圆J烘干处理。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述第二供气件10上设有第二出气孔1002，所述第二出气孔1002与所述第二供气腔1001连通，所述第二出气孔1002朝向所述晶圆J的周向侧壁。第二供气腔1001内的气体经过第二出气孔1002排出，对晶圆J的周向侧壁进行烘干，晶圆J烘干更加全面，效果好。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括：
一支架11，所述支架11上设有沿竖直方向布置的滑槽1102；一滑块12，安装在所述第二供气件10上，所述滑块12与所述滑槽1102滑动连接。
在烘干作业时，向下移动滑块12，让第一出气孔202位于晶圆J两侧，让第二出气孔1002靠近晶圆J的周向侧壁。而后进行烘干处理。在烘干完成后，向上移动滑块12，将第二供气件10移开。方便取走晶圆J。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括第一弹性件13，该第一弹性件13一端与所述第二供气件10连接，另一端与所述支架11连接，所述第一弹性件13用于对所述第二供气件10提供向上的弹力。
作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括一紧固件，所述紧固件用于将所述第二供气件10固定。
在烘干作业时，克服第一弹性件13的弹力，向下移动第二供气件10，移动至合适位置后，利用紧固件将第二供气件10固定。在烘干完成后，打开紧固件，在第一弹性件13的弹力下，第二供气件10、滑块12上升，不需要外力，更加省力、方便。
在支架11上设置通孔1101。
紧固件包括：
一定位件14，可以在通孔1101内移动；所述定位件14的上表面设有一斜面1401，该上表面位于滑块12的移动路径上，在受到滑块12自上往下的挤压时，上表面向通孔1101方向收缩。
第二弹性件15，一端与所述定位件14连接，另一端与支架11连接。在斜面1401受到挤压时，对所述定位件14提供相反方向的作用力。第二弹性件15、第一弹性件14可以为弹力绳、弹簧等。
如图3、5、8所示。
操作人员可以利用手带动第二供气件10下降。在滑块12下降时，在与斜面1401接触后，挤压斜面1401。对的斜面1401、定位件14向右移动。此时，第二弹性件15对定位件14向右的弹力。
在滑块12与斜面1401分离后，继续下降。定位件14的前端面与滑块12抵靠。
在滑块12与定位件14分离后，定位件14在第二弹性件15的弹力的作用下，斜面1401、定位件14复位。
操作人员松开手后，在第一弹性件13的弹力作业上，滑块12上升，与定位件14的下表面抵靠，滑块12被限制。
在烘干完成后，操作人员向右拉动定位件14，在定位件14的下表面与滑块12分离后，在第一弹性件13的弹力下，第二供气件10、滑块12上升。
如此，方便限定第二供气件10，方便烘干处理。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，包括：
一夹具，用于夹持所述晶圆；
一供气机构；
一烘干单元，其包括两个烘干组，两个烘干组沿所述晶圆的轴线布置于所述晶圆的两侧；所述烘干组包括：
一第一供气件，其内设有第一供气腔，所述第一供气件上设有多个第一出气孔，多个所述第一出气孔均与所述第一供气腔连通，多个所述第一出气孔朝向所述晶圆；其中，所述第一供气腔与所述供气机构连通。
2.根据权利要求1所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，所述夹具包括：
一支撑座；
一第一横梁、两个第二横梁，平行布置，并均安装在所述支撑座上，两个所述第二横梁位于所述第一横梁的上方，并位于所述第一横梁的两侧，所述第一横梁、所述第二横梁上均设有安装轮，所述安装轮上设有安装槽，所述安装槽用于放置晶圆。
3.根据权利要求2所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，所述夹具还包括：
多个定位柱，设置在所述支撑座上，其中，多个所述定位柱分布于所述第一横梁的两侧；
两个支撑柱，分别与两个所述第二横梁连接，两个所述支撑柱上均设有与所述定位柱相配合的定位槽。
4.根据权利要求2所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，所述第一横梁与所述支撑座转动连接；
所述装置还包括电机，所述电机的输出端与所述第一横梁连接。
5.根据权利要求1所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，所述第一横梁、所述第二横梁上的所述安装轮均为多个，沿所述第一横梁的长度方向间隔布置；
所述烘干单元的数量为多个，与多个所述安装轮一样对应。
6.根据权利要求5所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，该装置还包括：
一管道；
一第二供气件，与多个所述第一供气件连接，所述第二供气件内设有第二供气腔，所述第二供气腔通过所述管道与所述供气机构连通，所述第二供气腔与所述第一供气腔连通。
7.根据权利要求6所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，所述第二供气件上设有第二出气孔，所述第二出气孔与所述第二供气腔连通，所述第二出气孔朝向所述晶圆的周向侧壁。
8.根据权利要求6所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，该装置还包括：
一支架，所述支架上设有沿竖直方向布置的滑槽；
一滑块，安装在所述第二供气件上，所述滑块与所述滑槽滑动连接。
9.根据权利要求8所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，该装置还包括第一弹性件，该第一弹性件一端与所述第二供气件连接，另一端与所述支架连接，所述第一弹性件用于对所述第二供气件提供向上的弹力。
10.根据权利要求9所述的用于晶圆清洗后烘干处理装置，其特征在于，该装置还包括一紧固件，所述紧固件用于将所述第二供气件固定。
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