CN114472648B - 一种直柱型单曲轴精密冲床 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及冲床技术领域，本发明公开了一种直柱型单曲轴精密冲床，包括冲床本体和滑动连接在所述冲床本体上的滑块，所述滑动限位块的上方安装有用于对所述滑块重力补偿拉伸的吸引拉力补偿组件，所述滑动限位块的下方安装有用于对所述滑块重力补偿施加顶力的排斥顶力补偿组件，所述补偿仓的内部安装有通过所述滑动限位块滑动对所述吸引拉力补偿组件、所述排斥顶力补偿组件的作用力调节实现动态补偿的动态调节组件；利用磁力的相对吸引以及相对排斥对滑块的上下往返运动进行重力补偿，利用滑块运动特性以及磁独有性质进行结合，利用磁距远近以及变阻变流调节磁力大小对滑块重力补偿，滑块上下运动时保持力平衡状态，使滑块上下运动更加平滑稳定。
Description
技术领域
本发明涉及冲床技术领域，具体是一种直柱型单曲轴精密冲床。
背景技术
曲轴冲床是通过曲轴的旋转运动通过传动机构带动滑块上下往复进行运动，进而配合模具形成冲压，而滑块上需要安装上模具，此时曲轴在做功时，传动机构会带动滑块上升，在滑块上升时，需要克服滑块的重量进行做功，因此曲轴转动至上方时，需要克服滑块重力，在曲轴转动至下方时，此时滑块重力做功，而对于精密冲床来说，为了克服滑块重量，会对滑块做出重力补偿。
例如在滑块的滑动空间内设置滑动阻尼层，通过摩擦力抵消重力影响，但是该种情况当重力较大时，此时摩擦力也增加，此时虽然可以减少重力的影响，但是摩擦力做功，使其产生无用功，并且使滑动并不顺畅，如果采用弹簧，弹簧虽然可以使滑块在上升时可以施加弹力抵消重力影响，由于当弹簧的压缩距离逐渐增加时，此时弹力越来越大，从而导致在滑块下降时，受到的阻力越来越大，使滑块的下降速度受到弹簧的阻力影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种直柱型单曲轴精密冲床，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种直柱型单曲轴精密冲床，包括冲床本体和滑动连接在所述冲床本体上的滑块，所述冲床本体的外部通过两个补偿仓固定连接有包围壳，所述滑块滑动连接在所述包围壳内部以及两个所述补偿仓之间，所述滑块的两侧均固定连接有滑动限位块，所述滑动限位块滑动连接在所述补偿仓的内部，所述滑动限位块的上方安装有用于对所述滑块重力补偿拉伸的吸引拉力补偿组件，所述滑动限位块的下方安装有用于对所述滑块重力补偿施加顶力的排斥顶力补偿组件，所述补偿仓的内部安装有通过所述滑动限位块滑动对所述吸引拉力补偿组件、所述排斥顶力补偿组件的作用力调节实现动态补偿的动态调节组件。
作为本发明再进一步的方案：所述吸引拉力补偿组件包括固定连接在所述补偿仓顶部的顶吸引电磁铁以及固定连接在所述滑动限位块顶面的顶吸引配合电磁铁，所述顶吸引电磁铁与所述顶吸引配合电磁铁的磁极不同。
作为本发明再进一步的方案：所述排斥顶力补偿组件包括固定连接在所述补偿仓底部的底排斥电磁铁以及固定连接在所述滑动限位块底部的底排斥配合电磁铁，所述底排斥电磁铁与所述底排斥配合电磁铁的磁极相同。
作为本发明再进一步的方案：所述动态调节组件包括四个分别连接在所述顶吸引电磁铁、所述顶吸引配合电磁铁、所述底排斥电磁铁、所述底排斥配合电磁铁电路上的滑动变阻器，与所述顶吸引电磁铁、所述顶吸引配合电磁铁连接的滑动变阻器随着所述滑动限位块下降电阻减小、上升电阻增加，与所述底排斥电磁铁、所述底排斥配合电磁铁连接的滑动变阻器随着所述滑动限位块的下降电阻增加、上升电阻减小。
作为本发明再进一步的方案：所述补偿仓的内部开设有两个对称分布的让位槽，所述让位槽的内部均转动连接有接触辊，所述滑动限位块与所述接触辊接触。
作为本发明再进一步的方案：所述补偿仓的内部开设有用于收纳所述动态调节组件的封闭腔，所述滑动限位块靠近所述动态调节组件的一端固定连接有延伸板，所述延伸板与滑动连接在所述动态调节组件上的调节块固定连接。
作为本发明再进一步的方案：所述封闭腔靠近所述延伸板一侧固定连接有两个辅助滑条，所述延伸板上固定连接有两个与所述辅助滑条相配合的滑动辅助块，所述辅助滑条上开设有与所述滑动辅助块滑动配合的滑动辅助槽，所述延伸板与所述辅助滑条的接触面上贴附有铁氟龙薄膜。
作为本发明再进一步的方案：所述补偿仓的一侧可拆卸连接有与所述动态调节组件相对应的封闭盖板，所述封闭盖板与所述补偿仓之间通过四个手拧螺钉固定连接。
作为本发明再进一步的方案：所述滑动限位块的上下端均开设有用于安装所述顶吸引配合电磁铁、所述底排斥配合电磁铁的收纳槽，所述滑动限位块的上下端均固定连接有包围在所述收纳槽外部的接触圈，所述补偿仓的顶面、所述补偿仓的底面均固定连接有用于安装所述底排斥电磁铁、所述底排斥配合电磁铁的固定支撑套，所述固定支撑套靠近所述滑动限位块一侧均固定连接有缓冲圈。
作为本发明再进一步的方案，一种直柱型单曲轴精密冲床的使用流程:
滑块主要受到冲床本体内部凸轮机构影响上下滑动，而在滑块上下滑动时，滑动限位块滑动连接在补偿仓的内部，滑动限位块抬升时，通过顶吸引电磁铁与顶吸引配合电磁铁的吸引力降低滑动限位块重力的影响，通过底排斥电磁铁与底排斥配合电磁铁磁极相同的排斥力影响，进而对滑动限位块施加向上的推力，通过延伸板带动调节块在动态调节组件上滑动，从而改变顶吸引电磁铁、顶吸引配合电磁铁、底排斥电磁铁、底排斥配合电磁铁的电路电阻，进而使电流随之变化，而磁力的大小与间距呈反比，顶吸引电磁铁与顶吸引配合电磁铁在上升阶段，电阻不断的增加，电流缩小，磁力缩小，但是顶吸引电磁铁与顶吸引配合电磁铁的间距缩小，此时两者的作用磁力保持平衡，而在此阶段，底排斥电磁铁与底排斥配合电磁铁的距离增加，电阻不断减小，电流不断增加，磁力增大，但是由于距离增加的原因，使底排斥电磁铁与底排斥配合电磁铁之间的相对磁力依然保持平衡，进而使吸引拉力补偿组件和排斥顶力补偿组件在对滑块进行重力补偿时，使补偿作用力处于平衡状态，从而使滑动限位块上升至各个阶段时，受力一致，进而有效的抵消了重力造成曲轴转动时受力做功不均匀的情况，保证了使用的稳定性。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
滑动限位块抬升时，通过顶吸引电磁铁与顶吸引配合电磁铁的吸引力降低滑动限位块重力的影响，通过底排斥电磁铁与底排斥配合电磁铁磁极相同的排斥力影响，通过延伸板带动调节块在动态调节组件上滑动，从而改变顶吸引电磁铁、顶吸引配合电磁铁、底排斥电磁铁、底排斥配合电磁铁的电路电阻，进而使电流随之变化，利用磁力的相对吸引以及相对排斥对滑块的上下往返运动进行重力补偿，同时利用了滑块的运动特性以及磁的独有性质进行结合，利用磁距远近以及变阻变流调节磁力大小对滑块进行重力补偿，使滑块在上下运动时保持力平衡状态，使滑块的上下运动更加的平滑稳定。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一种直柱型单曲轴精密冲床的立体示意图；
图2为一种直柱型单曲轴精密冲床的补偿仓半剖立体示意图；
图3为一种直柱型单曲轴精密冲床的补偿仓半剖主视示意图；
图4为一种直柱型单曲轴精密冲床的半剖侧视透视示意图；
图5为一种直柱型单曲轴精密冲床的补偿仓俯视剖面示意图；
图中：1、冲床本体；11、滑块；12、滑动限位块；121、延伸板；122、滑动辅助块；13、收纳槽；14、接触圈；2、包围壳；3、补偿仓；31、封闭盖板；32、手拧螺钉；33、让位槽；34、封闭腔；341、辅助滑条；342、滑动辅助槽；35、接触辊；4、动态调节组件；41、调节块；5、吸引拉力补偿组件；51、顶吸引电磁铁；52、顶吸引配合电磁铁；6、排斥顶力补偿组件；61、底排斥电磁铁；62、底排斥配合电磁铁；7、固定支撑套；71、缓冲圈。
具体实施方式
为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
参考图1、图2、图3，在本方案的重力补偿实施例中，包括冲床本体1和滑动连接在冲床本体1上的滑块11，冲床本体1的外部通过两个补偿仓3固定连接有包围壳2，滑块11滑动连接在包围壳2内部以及两个补偿仓3之间，滑块11的两侧均固定连接有滑动限位块12，滑动限位块12滑动连接在补偿仓3的内部，滑动限位块12的上方安装有用于对滑块11重力补偿拉伸的吸引拉力补偿组件5，滑动限位块12的下方安装有用于对滑块11重力补偿施加顶力的排斥顶力补偿组件6，吸引拉力补偿组件5包括固定连接在补偿仓3顶部的顶吸引电磁铁51以及固定连接在滑动限位块12顶面的顶吸引配合电磁铁52，顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52的磁极不同，排斥顶力补偿组件6包括固定连接在补偿仓3底部的底排斥电磁铁61以及固定连接在滑动限位块12底部的底排斥配合电磁铁62，底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62的磁极相同；补偿仓3位于滑块11的两侧，滑块11主要受到冲床本体1内部凸轮机构影响上下滑动，而在滑块11上下滑动时，滑动限位块12滑动连接在补偿仓3的内部，此时滑动限位块12的顶部、补偿仓3的内部设置有吸引拉力补偿组件5，吸引拉力补偿组件5包括安装在补偿仓3顶部的顶吸引电磁铁51和安装在滑动限位块12顶部的顶吸引配合电磁铁52，顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52磁极不同，因此顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52处于吸引状态，进而在滑动限位块12抬升时，通过顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52的吸引力降低滑动限位块12重力的影响，而在滑动限位块12的底部、补偿仓3的内部设置有排斥顶力补偿组件6，排斥顶力补偿组件6包括安装在补偿仓3底部的底排斥电磁铁61和安装在滑动限位块12底部的底排斥配合电磁铁62，此时通过底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62磁极相同的排斥力影响，进而对滑动限位块12施加向上的推力，进而进一步降低滑动限位块12的重力影响，从而使滑块11抬升时更加稳定，使冲床本体1内部的曲轴受力均匀。
参考图1、图2、图3，图4、图5，在本方案的重力动态补偿实施例中，补偿仓3的内部安装有通过滑动限位块12滑动对吸引拉力补偿组件5、排斥顶力补偿组件6的作用力调节实现动态补偿的动态调节组件4，动态调节组件4包括四个分别连接在顶吸引电磁铁51、顶吸引配合电磁铁52、底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62电路上的滑动变阻器，与顶吸引电磁铁51、顶吸引配合电磁铁52连接的滑动变阻器随着滑动限位块12下降电阻减小、上升电阻增加，与底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62连接的滑动变阻器随着滑动限位块12的下降电阻增加、上升电阻减小；由于吸引拉力补偿组件5与排斥顶力补偿组件6目前的磁力不变，虽然对滑动限位块12的重力上升起到补偿作用，但是对滑动限位块12的下降实际上起到了干涉作用，由于磁力与距离呈反比，进而导致顶吸引电磁铁51和顶吸引配合电磁铁52、底排斥电磁铁61和底排斥配合电磁铁62之间靠近时磁力大幅度增加，从而使滑动限位块12在上升至顶点下降瞬间以及滑动限位块12下降至低点的上升瞬间需要更大的拉力，为了保证作用力的平均性，此时补偿仓3的内部设置有四个动态调节组件4，其中两个动态调节组件4与顶吸引电磁铁51、顶吸引配合电磁铁52的供电电路连接，另外两个动态调节组件4与底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62的供电电路连接，由于电磁铁的磁力大小与电流呈正比，而在相同的电压情况下，电流与电阻呈反比，此时当滑动限位块12在滑动时，通过延伸板121带动调节块41在动态调节组件4上滑动，从而改变顶吸引电磁铁51、顶吸引配合电磁铁52、底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62的电路电阻，进而使电流随之变化，而磁力的大小与间距呈反比，顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52在上升阶段，电阻不断的增加，电流缩小，磁力缩小，但是顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52的间距缩小，此时两者的作用磁力保持平衡，而在此阶段，底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62的距离增加，电阻不断减小，电流不断增加，磁力增大，但是由于距离增加的原因，使底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62之间的相对磁力依然保持平衡，进而使吸引拉力补偿组件5和排斥顶力补偿组件6在对滑块11进行重力补偿时，使补偿作用力处于平衡状态，从而使滑动限位块12上升至各个阶段时，受力一致，进而有效的抵消了重力造成曲轴转动时受力做功不均匀的情况，保证了使用的稳定性。
参考图1、图2、图3，图4、图5，在本方案的动态补偿的使用安装实施例中，补偿仓3的内部开设有两个对称分布的让位槽33，让位槽33的内部均转动连接有接触辊35，滑动限位块12与接触辊35接触，补偿仓3的内部开设有用于收纳动态调节组件4的封闭腔34，滑动限位块12靠近动态调节组件4的一端固定连接有延伸板121，延伸板121与滑动连接在动态调节组件4上的调节块41固定连接，封闭腔34靠近延伸板121一侧固定连接有两个辅助滑条341，延伸板121上固定连接有两个与辅助滑条341相配合的滑动辅助块122，辅助滑条341上开设有与滑动辅助块122滑动配合的滑动辅助槽342，延伸板121与辅助滑条341的接触面上贴附有铁氟龙薄膜；补偿仓3的内部开设有封闭腔34且靠近滑动限位块12一侧为开放结构，使补偿仓3的俯视截面形状呈凸字形，四个动态调节组件4安装在封闭腔34的内部，此时滑动限位块12靠近动态调节组件4的一侧固定有延伸板121，延伸板121不但与补偿仓3内部的腔体形成配合限位，同时延伸板121增加了固定面积，进而使与调节块41固定更加方便，而补偿仓3的开放端两侧开设有让位槽33，通过让位槽33内部的接触辊35与滑动限位块12滑动配合，将滑动摩擦力转换为滚动摩擦力，使滑动限位块12的滑动更加顺滑，减少了摩擦影响，由于延伸板121距离调节块41过近，因此延伸板121一旦发生位移很容易导致调节块41的滑杆发生变形影响滑动，因此在封闭腔34的内壁侧面固定了辅助滑条341，而辅助滑条341内开设有滑动辅助槽342，延伸板121靠近辅助滑条341一侧开设有嵌槽，辅助滑条341位于嵌槽内，通过滑动辅助块122与滑动辅助槽342配合滑动，为了降低摩擦阻力，此时滑动辅助槽342内部贴附有铁氟龙膜，滑动辅助块122同样为铁氟龙材质，进而使滑动辅助块122在滑动辅助槽342内滑动阻力降低，由于滑动辅助块122的长度不能大于滑动限位块12的高度，因此在延伸板121的嵌槽内部同样贴敷有铁氟龙膜降低滑动摩擦力，并且通过滑动辅助块122与滑动辅助槽342的二次配合，进一步对延伸板121进行限位保证延伸板121滑动的稳定性。
参考图1、图5，在本方案的动态调节组件维护实施例中，补偿仓3的一侧可拆卸连接有与动态调节组件4相对应的封闭盖板31，封闭盖板31与补偿仓3之间通过四个手拧螺钉32固定连接；由于整个动态调节组件4安装在补偿仓3的内部，导致实际维护时比较繁琐，因此在补偿仓3的侧壁开设有阶梯槽，通过封闭盖板31与阶梯槽配合通过手拧螺钉32进行固定，即可将封闭盖板31安装在补偿仓3的侧面，当动态调节组件4磨损后，可以将手拧螺钉32拆卸，将封闭盖板31进行拆卸，此时即可将四个动态调节组件4完全露出，从而达到对动态调节组件4进行维护更换的目的。
参考图3，在本方案的排斥顶力补偿组件与吸引拉力补偿组件的使用实施例中，滑动限位块12的上下端均开设有用于安装顶吸引配合电磁铁52、底排斥配合电磁铁62的收纳槽13，滑动限位块12的上下端均固定连接有包围在收纳槽13外部的接触圈14，补偿仓3的顶面、补偿仓3的底面均固定连接有用于安装底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62的固定支撑套7，固定支撑套7靠近滑动限位块12一侧均固定连接有缓冲圈71；为了避免电磁铁相互接触造成磁铁损坏，因此在滑动限位块12的上下端部开设有收纳顶吸引配合电磁铁52、底排斥配合电磁铁62的收纳槽13，顶吸引配合电磁铁52、底排斥配合电磁铁62安装在收纳槽13内部，同时在滑动限位块12端部设置了包围在收纳槽13四周的接触圈14，同时补偿仓3的顶面和底面安装有用于盛放底排斥电磁铁61、顶吸引电磁铁51的固定支撑套7，固定支撑套7的端部固定有与接触圈14相配合的缓冲圈71，就算底排斥电磁铁61和顶吸引电磁铁51、底排斥配合电磁铁62和顶吸引配合电磁铁52相互靠近，此时受到了接触圈14与缓冲圈71的影响使电磁铁相互不会接触，保证使用的稳定性。
工作流程：滑块11主要受到冲床本体1内部凸轮机构影响上下滑动，而在滑块11上下滑动时，滑动限位块12滑动连接在补偿仓3的内部，顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52磁极不同，因此顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52处于吸引状态，进而在滑动限位块12抬升时，通过顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52的吸引力降低滑动限位块12重力的影响，通过底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62磁极相同的排斥力影响，进而对滑动限位块12施加向上的推力，进而进一步降低滑动限位块12的重力影响，从而使滑块11抬升时更加稳定，使冲床本体1内部的曲轴受力均匀，通过延伸板121带动调节块41在动态调节组件4上滑动，从而改变顶吸引电磁铁51、顶吸引配合电磁铁52、底排斥电磁铁61、底排斥配合电磁铁62的电路电阻，进而使电流随之变化，而磁力的大小与间距呈反比，顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52在上升阶段，电阻不断的增加，电流缩小，磁力缩小，但是顶吸引电磁铁51与顶吸引配合电磁铁52的间距缩小，此时两者的作用磁力保持平衡，而在此阶段，底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62的距离增加，电阻不断减小，电流不断增加，磁力增大，但是由于距离增加的原因，使底排斥电磁铁61与底排斥配合电磁铁62之间的相对磁力依然保持平衡，进而使吸引拉力补偿组件5和排斥顶力补偿组件6在对滑块11进行重力补偿时，使补偿作用力处于平衡状态，从而使滑动限位块12上升至各个阶段时，受力一致，进而有效的抵消了重力造成曲轴转动时受力做功不均匀的情况，保证了使用的稳定性。
以上所述的，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种直柱型单曲轴精密冲床，包括冲床本体(1)和滑动连接在所述冲床本体(1)上的滑块(11)，其特征在于：所述冲床本体(1)的外部通过两个补偿仓(3)固定连接有包围壳(2)，所述滑块(11)滑动连接在所述包围壳(2)内部以及两个所述补偿仓(3)之间，所述滑块(11)的两侧均固定连接有滑动限位块(12)，所述滑动限位块(12)滑动连接在所述补偿仓(3)的内部，所述滑动限位块(12)的上方安装有用于对所述滑块(11)重力补偿拉伸的吸引拉力补偿组件(5)，所述滑动限位块(12)的下方安装有用于对所述滑块(11)重力补偿施加顶力的排斥顶力补偿组件(6)，所述补偿仓(3)的内部安装有通过所述滑动限位块(12)滑动对所述吸引拉力补偿组件(5)、所述排斥顶力补偿组件(6)的作用力调节实现动态补偿的动态调节组件(4)，所述吸引拉力补偿组件(5)包括固定连接在所述补偿仓(3)顶部的顶吸引电磁铁(51)以及固定连接在所述滑动限位块(12)顶面的顶吸引配合电磁铁(52)，所述顶吸引电磁铁(51)与所述顶吸引配合电磁铁(52)的磁极不同，所述排斥顶力补偿组件(6)包括固定连接在所述补偿仓(3)底部的底排斥电磁铁(61)以及固定连接在所述滑动限位块(12)底部的底排斥配合电磁铁(62)，所述底排斥电磁铁(61)与所述底排斥配合电磁铁(62)的磁极相同，所述动态调节组件(4)包括四个分别连接在所述顶吸引电磁铁(51)、所述顶吸引配合电磁铁(52)、所述底排斥电磁铁(61)、所述底排斥配合电磁铁(62)电路上的滑动变阻器，与所述顶吸引电磁铁(51)、所述顶吸引配合电磁铁(52)连接的滑动变阻器随着所述滑动限位块(12)下降电阻减小、上升电阻增加，与所述底排斥电磁铁(61)、所述底排斥配合电磁铁(62)连接的滑动变阻器随着所述滑动限位块(12)的下降电阻增加、上升电阻减小。
2.根据权利要求1所述的一种直柱型单曲轴精密冲床，其特征在于：所述补偿仓(3)的内部开设有两个对称分布的让位槽(33)，所述让位槽(33)的内部均转动连接有接触辊(35)，所述滑动限位块(12)与所述接触辊(35)接触。
3.根据权利要求1所述的一种直柱型单曲轴精密冲床，其特征在于：所述补偿仓(3)的内部开设有用于收纳所述动态调节组件(4)的封闭腔(34)，所述滑动限位块(12)靠近所述动态调节组件(4)的一端固定连接有延伸板(121)，所述延伸板(121)与滑动连接在所述动态调节组件(4)上的调节块(41)固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种直柱型单曲轴精密冲床，其特征在于：所述封闭腔(34)靠近所述延伸板(121)一侧固定连接有两个辅助滑条(341)，所述延伸板(121)上固定连接有两个与所述辅助滑条(341)相配合的滑动辅助块(122)，所述辅助滑条(341)上开设有与所述滑动辅助块(122)滑动配合的滑动辅助槽(342)，所述延伸板(121)与所述辅助滑条(341)的接触面上贴附有铁氟龙薄膜。
5.根据权利要求1所述的一种直柱型单曲轴精密冲床，其特征在于：所述补偿仓(3)的一侧可拆卸连接有与所述动态调节组件(4)相对应的封闭盖板(31)，所述封闭盖板(31)与所述补偿仓(3)之间通过四个手拧螺钉(32)固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种直柱型单曲轴精密冲床，其特征在于：所述滑动限位块(12)的上下端均开设有用于安装所述顶吸引配合电磁铁(52)、所述底排斥配合电磁铁(62)的收纳槽(13)，所述滑动限位块(12)的上下端均固定连接有包围在所述收纳槽(13)外部的接触圈(14)，所述补偿仓(3)的顶面、所述补偿仓(3)的底面均固定连接有用于安装所述底排斥电磁铁(61)、所述底排斥配合电磁铁(62)的固定支撑套(7)，所述固定支撑套(7)靠近所述滑动限位块(12)一侧均固定连接有缓冲圈(71)。
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