CN114456884A - 一种icp组件清洗剂 - Google Patents

一种icp组件清洗剂 Download PDF

Info

Publication number
CN114456884A
CN114456884A CN202111667814.7A CN202111667814A CN114456884A CN 114456884 A CN114456884 A CN 114456884A CN 202111667814 A CN202111667814 A CN 202111667814A CN 114456884 A CN114456884 A CN 114456884A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
cleaning agent
icp
icp component
oxidation solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111667814.7A
Other languages
English (en)
Inventor
郝鹏超
郭斌
夏彧
俞阳
汤昱
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anlaibo Pharmaceutical Suzhou Co ltd
Original Assignee
Anlaibo Pharmaceutical Suzhou Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anlaibo Pharmaceutical Suzhou Co ltd filed Critical Anlaibo Pharmaceutical Suzhou Co ltd
Priority to CN202111667814.7A priority Critical patent/CN114456884A/zh
Publication of CN114456884A publication Critical patent/CN114456884A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/02—Inorganic compounds
    • C11D7/04—Water-soluble compounds
    • C11D7/08—Acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/02—Anionic compounds
    • C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
    • C11D1/28—Sulfonation products derived from fatty acids or their derivatives, e.g. esters, amides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/66—Non-ionic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/66—Non-ionic compounds
    • C11D1/83—Mixtures of non-ionic with anionic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
    • C11D3/0073—Anticorrosion compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/02—Inorganic compounds ; Elemental compounds
    • C11D3/04—Water-soluble compounds
    • C11D3/042—Acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2003—Alcohols; Phenols
    • C11D3/2041—Dihydric alcohols
    • C11D3/2048—Dihydric alcohols branched
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2068—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
    • C11D3/2079—Monocarboxylic acids-salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
    • C11D3/2082—Polycarboxylic acids-salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
    • C11D3/2075—Carboxylic acids-salts thereof
    • C11D3/2086—Hydroxy carboxylic acids-salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D3/28—Heterocyclic compounds containing nitrogen in the ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
    • C11D3/349—Organic compounds containing sulfur additionally containing nitrogen atoms, e.g. nitro, nitroso, amino, imino, nitrilo, nitrile groups containing compounds or their derivatives or thio urea
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
    • C11D3/365—Organic compounds containing phosphorus containing carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/37—Polymers
    • C11D3/3746—Macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C11D3/3769—(Co)polymerised monomers containing nitrogen, e.g. carbonamides, nitriles or amines
    • C11D3/3773—(Co)polymerised monomers containing nitrogen, e.g. carbonamides, nitriles or amines in liquid compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/39—Organic or inorganic per-compounds
    • C11D3/3942—Inorganic per-compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/02—Inorganic compounds
    • C11D7/04—Water-soluble compounds
    • C11D7/10—Salts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/261—Alcohols; Phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/263—Ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/265—Carboxylic acids or salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3263—Amides or imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D7/3281—Heterocyclic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/34—Organic compounds containing sulfur
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/36—Organic compounds containing phosphorus

Abstract

本发明提供一种ICP组件清洗剂，ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，强氧化溶液A包括以下组分：8～10份HNO3，1～4份HF，8～12份HCl、1～3份H2O2和71～82份H2O；清洗剂B包括以下组分：10～20份有机酸、10～20份氨水和1～3份巯基苯骈噻唑。本发明的ICP组件清洗剂，在ICP测试结束后对采样锥、截留锥及矩管清洗过程中，该清洁剂可以发挥高效、快速、可靠的清洁效果，从而在仪器测定结果的准确度和精密度方面，采样锥、截留锥及矩管的维护方面及降低元素残留污染等方面发挥重要作用。

Description

一种ICP组件清洗剂
技术领域
本发明涉及科学仪器技术领域，具体涉及一种ICP组件清洗剂。
背景技术
从第一台商品仪器问世至今,ICP-MS发展相当迅速，从最初在地质科学研究的应用迅速发展到环境、冶金、石油、生物、医学、半导体、核材料分析等领域，尽管ICP-MS技术已经是比较成熟的技术,但近年来有关仪器分析性能的研究和改进一直没有停止。
近年来，随着等离子体技术的发展，产生了大量高精度科学仪器，比如高分辨扇形磁场等离子体质谱仪(ICP-SFMS)、多接收器等离子体质谱仪(ICP-MCMS)、飞行时间等离子体质谱仪(ICP-TOFMS)以及离子阱三维四极等离子体质谱仪(DQMS)等；同时四极杆ICP-MS仪器也不断升级换代，由于诸如动态碰撞反应池(DRC)等技术的引入，分析性能大大改善。
接口是整个ICP系统最关键的部分，ICP对离子采集接口的要求是:(1)最大限度地让所生成的离子通过；(2)保持样品离子的完整性，即其电学性质基本不变；(3)氧化物和二次离子产率尽可能低；(4)等离子体的二次放电尽可能小；(5)不易堵塞；(6)产生热量尽可能少；(7)易于拆卸和维护，接口的功能是将等离子体中的离子有效传输到质谱仪。
ICP-MS的接口是由一个冷却的采样锥(大约1mm孔径)和截取锥(大约0.4～0.8mm孔径)组成的。
采样锥通常由Ni、Al、Cu和Pt等金属制成,但Ni锥用的最多。接口室采用水冷而且易散热的材料，比如铜或铝材料。
截取锥的材料与采样锥相同,锥孔小于采样锥,安装于采样锥后,并与其在同轴线上。两者相距6～7mm,通常也用镍材料制成。
采样锥、截取锥应该经常清洗,否则重金属基体沉积在其表面会再蒸发电离形成记忆效应；经常清洗截取锥和采样锥可使记忆效应和多原子离子干扰降低。截取锥顶部锋锐,在机械强度上不及采样锥坚固,所以更换清洗时必须十分小心,否则易于受损。
等离子体炬管外管内径为18mm,长大约100mm,中间管内径为13mm,样品注入管1.5mm,这两个管的开口端都短于外管的开口端。炬管的主要作用是使等离子体放电与负载线圈隔开以防止短路,并借助通入的外气流带走等离子体的热量和限制等离子体的大小，炬管的材料现在多用石英。
所以对于ICP测试来说，采样锥、截留锥及矩管的清洁程度将直接影响测定结果的准确度和精确度，但是由于复杂基质长期在高温条件下进行测试分析，部分元素富集沉积于采样锥、截留锥及矩管表面，传统清洁剂常常无法清洗干净，进而导致仪器分析能力的下降，甚至测定结果的偏离及采样锥、截留锥及矩管的无法使用，直接提升了测试的成本及时间。
现有的清洗溶液，一般为10％-20％硝酸浸泡过夜，对于长期沉积的残留污染物无法清除彻底，且长期浸泡过夜对ICP组件造成较大损害，导致锥孔增大，影响采集效果，进而造成分析误差。
发明内容
针对现有技术中存在的不足，本发明提供一种ICP组件清洗剂，可简单有效的清楚顽固残留，且通过擦拭的方法，有效的降低了传统清洗方式对ICP组件的损害问题。本发明采用的技术方案是：
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
所述强氧化溶液A包括以下组分：8～10份HNO3，1～4份HF，8～12份HCl、1～3份H2O2和71～82份H2O；
所述清洗剂B包括以下组分：10～20份有机酸、10～20份氨水和1～3份巯基苯骈噻唑。巯基苯骈噻唑可以减轻清洗剂对金属的腐蚀作用。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述强氧化溶液A还包括1～3份二甘醇单甲醚和0.01～0.1份亚硫酸钠。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述强氧化溶液A还包括0..5～1份2-羟基膦酰基乙酸。
2-羟基膦酰基乙酸作为渗透力增强剂，促进清洗剂进入ICP组件，提高其清洗效果，二甘醇单甲醚、2-羟基膦酰基乙酸协同作用，可促进各种ICP组件残留污染物的剥离和溶解。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述强氧化溶液A还包括0.5～1份聚丙烯酰胺。聚丙烯酰胺可以提高清洗的速度和清洗的完全程度。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述强氧化溶液A还包括0.5～1份二苯基甲烷二胺。苯基甲烷二胺可以减轻清洗剂对ICP组件的腐蚀作用。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述清洗剂B还包括3～5份2-甲基-1,3-丙二醇。
2-甲基-1,3-丙二醇减轻清洗剂对金属的腐蚀作用，以保持ICP组件表面结构，尽量使它近于原有状态。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述清洗剂B还包括3～5份丁二酸二异辛酯磺酸钠。
丁二酸二异辛酯磺酸钠可以促进各种残留污染物的剥离和溶解性能，从而促进ICP组件残留污染物的清洗，并可提高清洗剂B溶液的分散效果。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述清洗剂B还包括0.5～1份双甲代烯丙基聚醚。双甲代烯丙基聚醚可以提高清洗的干净程度，络合ICP组件中污垢的金属离子，防止沉积。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述清洗剂B还包括0.05～0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.1～0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸。
4-氨基吡咯-2-羧酸对各种残留污染物具有优良的螯合性能，并具有钝化的功效，甲基四氢邻苯二甲酸酐和4-氨基吡咯-2-羧酸可以进一步促进残留污染物的清洗。
优选的是，所述的ICP组件清洗剂，其中：所述有机酸选自甲酸、乙酸、柠檬酸的一种。
本发明的优点：
本发明的ICP组件清洗剂，在ICP测试结束后对采样锥、截留锥及矩管清洗过程中，该清洁剂可以发挥高效、快速、可靠的清洁效果，从而在仪器测定结果的准确度和精密度方面，采样锥、截留锥及矩管的维护方面及降低元素残留污染等方面发挥重要作用。
附图说明
图1为经过本实施例1清洗前后的采样锥、截流锥对比图。
图2为经过本实施例1清洗前后的新旧矩管对比图。
图3为传统清洗剂清洗效果图。
图4为本发明实施例1清洗剂清洗效果图。
图5为本发明实施例1清洗剂与传统清洗剂对矩管清洗效果对比图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2和71份H2O，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份2-羟基膦酰基乙酸，0.5份聚丙烯酰胺，0.5份二苯基甲烷二胺。
清洗剂B包括10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸。
强氧化溶液A的制备方法：取8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份2-羟基膦酰基乙酸，0.5份聚丙烯酰胺，0.5份二苯基甲烷二胺于71份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洁剂B的制备方法：取10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
实施例2
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2和80份H2O，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺，0.8份二苯基甲烷二胺。
强氧化溶液A的制备方法：取9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺，0.8份二苯基甲烷二胺于80份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洗剂B包括15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，4份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸。
清洁剂B的制备方法：取15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，4份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
实施例3
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
所述强氧化溶液A包括10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2和82份H2O，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺。
强氧化溶液A的制备方法：取10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺于82份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
所述清洗剂B包括20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，1份双甲代烯丙基聚醚，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸。
清洁剂B的制备方法：取20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，1份双甲代烯丙基聚醚，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml，即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例1
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2和71份H2O，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份聚丙烯酰胺，0.5份二苯基甲烷二胺。
清洗剂B包括10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸。
强氧化溶液A的制备方法：取8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份聚丙烯酰胺，0.5份二苯基甲烷二胺于71份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洁剂B的制备方法：取10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例2
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2和71份H2O，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份2-羟基膦酰基乙酸，0.5份二苯基甲烷二胺。
清洗剂B包括10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸。
强氧化溶液A的制备方法：取8份HNO3，1份HF，8份HCl、1份H2O2，1份二甘醇单甲醚，0.01份亚硫酸钠，0.5份2-羟基膦酰基乙酸，0.5份二苯基甲烷二胺于71份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洁剂B的制备方法：取10份甲酸、10份氨水和1份巯基苯骈噻唑，3份2-甲基-1,3-丙二醇，3份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.5份双甲代烯丙基聚醚，0.05份甲基四氢邻苯二甲酸酐，0.1份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例3
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2和80份H2O，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺。
强氧化溶液A的制备方法：取9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺于80份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洗剂B包括15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，4份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸。
清洁剂B的制备方法：取15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，4份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例4
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
强氧化溶液A包括9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2和80份H2O，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺，0.8份二苯基甲烷二胺。
强氧化溶液A的制备方法：取9份HNO3，3份HF，10份HCl、2份H2O2，2份二甘醇单甲醚，0.05份亚硫酸钠，0.8份2-羟基膦酰基乙酸，0.6份聚丙烯酰胺，0.8份二苯基甲烷二胺于80份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
清洗剂B包括15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸。
清洁剂B的制备方法：取15份乙酸、12份氨水和2份巯基苯骈噻唑，4份2-甲基-1,3-丙二醇，0.7份双甲代烯丙基聚醚，0.07份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.2份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml,即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例5
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
所述强氧化溶液A包括10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2和82份H2O，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺。
强氧化溶液A的制备方法：取10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺于82份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
所述清洗剂B包括20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸。
清洁剂B的制备方法：取20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸于适量水中，混合均匀，定容至50ml，即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
对比例6
一种ICP组件清洗剂，其中：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
所述强氧化溶液A包括10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2和82份H2O，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺。
强氧化溶液A的制备方法：取10份HNO3，4份HF，12份HCl、3份H2O2，3份二甘醇单甲醚，0.1份亚硫酸钠，1份2-羟基膦酰基乙酸，1份聚丙烯酰胺，1份二苯基甲烷二胺于82份H2O中，混合均匀后，即得清洗剂A液。
所述清洗剂B包括20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，1份双甲代烯丙基聚醚，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐。
清洁剂B的制备方法：取20份柠檬酸、20份氨水和3份巯基苯骈噻唑，5份2-甲基-1,3-丙二醇，5份丁二酸二异辛酯磺酸钠，1份双甲代烯丙基聚醚，0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐于适量水中，混合均匀，定容至50ml，即得清洗剂B液。
一种ICP组件清洗剂的使用方法：使用棉签蘸取清洗剂A液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净，再使用棉签蘸取清洗剂B液分别擦拭ICP组件(采样锥，截取锥及矩管)，使用去离子水冲洗干净。于通风处静止至干即可。
本发明与传统方法对比见下表1：
表1
条目 传统清洗方法 本发明清洗方法
清洗时间 需浸泡过夜，并使用烘箱干燥 擦拭后风干即可
清洗效果 部分元素残留无法洗脱 洗脱顽固元素无残留
维护效果 长期浸泡对锥存在较强腐蚀，缩短使用寿命 仅需擦拭，可有效延长使用寿命
成本 需配制酸缸等专用浸泡罐及区域 无特殊设备要求
下面列出实施例和对比例的性能测试结果，结果如表2
表2
Figure BDA0003448760080000081
将实施例1-3和对比例1-6的ICP组件清洗剂进行清洗效果测试，从表1的测试数据可以看出，实施例1-3的ICP组件清洗剂清洗效果优于对比例1-6。
最后所应说明的是，以上具体实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照实例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (10)

1.一种ICP组件清洗剂，其特征在于：所述ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，所述ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，
所述强氧化溶液A包括以下组分：8～10份HNO3，1～4份HF，8～12份HCl、1～3份H2O2和71～82份H2O；
所述清洗剂B包括以下组分：10～20份有机酸、10～20份氨水和1～3份巯基苯骈噻唑。
2.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述强氧化溶液A还包括1～3份二甘醇单甲醚和0.01～0.1份亚硫酸钠。
3.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述强氧化溶液A还包括0..5～1份2-羟基膦酰基乙酸。
4.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述强氧化溶液A还包括0.5～1份聚丙烯酰胺。
5.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述强氧化溶液A还包括0.5～1份二苯基甲烷二胺。
6.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述清洗剂B还包括3～5份2-甲基-1,3-丙二醇。
7.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述清洗剂B还包括3～5份丁二酸二异辛酯磺酸钠。
8.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述清洗剂B还包括0.5～1份双甲代烯丙基聚醚。
9.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述清洗剂B还包括0.05～0.1份甲基四氢邻苯二甲酸酐和0.1～0.4份4-氨基吡咯-2-羧酸。
10.根据权利要求1所述的ICP组件清洗剂，其特征在于：所述有机酸选自甲酸、乙酸、柠檬酸的一种。
CN202111667814.7A 2021-12-30 2021-12-30 一种icp组件清洗剂 Pending CN114456884A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111667814.7A CN114456884A (zh) 2021-12-30 2021-12-30 一种icp组件清洗剂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111667814.7A CN114456884A (zh) 2021-12-30 2021-12-30 一种icp组件清洗剂

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114456884A true CN114456884A (zh) 2022-05-10

Family

ID=81407713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111667814.7A Pending CN114456884A (zh) 2021-12-30 2021-12-30 一种icp组件清洗剂

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114456884A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114989901A (zh) * 2022-06-27 2022-09-02 广东韶钢松山股份有限公司 电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW424275B (en) * 1998-09-17 2001-03-01 Nippon Electric Co Cleaning method for semiconductor substrate and cleaning solution
CN1406988A (zh) * 2001-09-04 2003-04-02 罗姆和哈斯公司 腐蚀抑制组合物
US6592677B1 (en) * 1999-10-04 2003-07-15 Nec Electronics Corporation Method of forming a semiconductor device by simultaneously cleaning both sides of a wafer using different cleaning solutions
US20030221702A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Peebles Henry C. Process for cleaning and repassivating semiconductor equipment parts
CN101204701A (zh) * 2006-12-21 2008-06-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种阳极氧化零件表面的清洗方法
CN101224458A (zh) * 2007-01-15 2008-07-23 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法
CN101955858A (zh) * 2009-07-17 2011-01-26 日东电工株式会社 模具清洗剂组合物及模具清洗材料、以及使用其的模具清洁方法
CN105567475A (zh) * 2015-12-30 2016-05-11 河南省有色金属地质勘查总院 一种精密仪器雾化器积垢清洁剂
CN105911129A (zh) * 2016-04-13 2016-08-31 中国科学院地球环境研究所 一种消减mc-icp-ms测定硼同位素记忆效应的方法
CN108823006A (zh) * 2018-06-14 2018-11-16 上海华力集成电路制造有限公司 Icp-ms微流雾化器清洗液及其疏通装置和疏通方法
CN112779543A (zh) * 2020-12-25 2021-05-11 德蓝水技术股份有限公司 一种有机酸清洗剂及其制备方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW424275B (en) * 1998-09-17 2001-03-01 Nippon Electric Co Cleaning method for semiconductor substrate and cleaning solution
US6592677B1 (en) * 1999-10-04 2003-07-15 Nec Electronics Corporation Method of forming a semiconductor device by simultaneously cleaning both sides of a wafer using different cleaning solutions
CN1406988A (zh) * 2001-09-04 2003-04-02 罗姆和哈斯公司 腐蚀抑制组合物
US20030221702A1 (en) * 2002-05-28 2003-12-04 Peebles Henry C. Process for cleaning and repassivating semiconductor equipment parts
CN101204701A (zh) * 2006-12-21 2008-06-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种阳极氧化零件表面的清洗方法
CN101224458A (zh) * 2007-01-15 2008-07-23 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法
CN101955858A (zh) * 2009-07-17 2011-01-26 日东电工株式会社 模具清洗剂组合物及模具清洗材料、以及使用其的模具清洁方法
CN105567475A (zh) * 2015-12-30 2016-05-11 河南省有色金属地质勘查总院 一种精密仪器雾化器积垢清洁剂
CN105911129A (zh) * 2016-04-13 2016-08-31 中国科学院地球环境研究所 一种消减mc-icp-ms测定硼同位素记忆效应的方法
CN108823006A (zh) * 2018-06-14 2018-11-16 上海华力集成电路制造有限公司 Icp-ms微流雾化器清洗液及其疏通装置和疏通方法
CN112779543A (zh) * 2020-12-25 2021-05-11 德蓝水技术股份有限公司 一种有机酸清洗剂及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《钢结构工程制作安装便携手册》编委会: "《钢结构工程制作安装便携手册》", vol. 1, 中国建材工业出版社, pages: 452 - 454 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114989901A (zh) * 2022-06-27 2022-09-02 广东韶钢松山股份有限公司 电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法
CN114989901B (zh) * 2022-06-27 2024-01-05 广东韶钢松山股份有限公司 电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114456884A (zh) 一种icp组件清洗剂
US6810887B2 (en) Method for cleaning semiconductor fabrication equipment parts
CN1227389C (zh) 现场监视等离子体腐蚀装置及方法
CN102296001B (zh) 一种平板显示用清洗液及其制备方法
CN102019282B (zh) 一种用于陶瓷-金属结构部件净化的方法
CN102598202B (zh) 用于等离子灰化设备的调谐硬件和使用该调谐硬件的方法
CN105911129A (zh) 一种消减mc-icp-ms测定硼同位素记忆效应的方法
CN101685273B (zh) 一种去除光阻层残留物的清洗液
CN101169597A (zh) 一种光刻胶清洗剂
US20170292190A1 (en) Anti-multipactor device
CN114904403A (zh) 一种用于湿电子化学品纯化的螯合膜的制备方法
US20170169981A1 (en) Thermionic emission filament, quadrupole mass spectrometer and residual gas analyzing method
CN109187496B (zh) 一种基于电热蒸发和尖端放电的原子发射光谱分析装置
CN103675888A (zh) 法拉第筒探头
CN103891418B (zh) 在多电极微波等离子体激发源中的电极冷却系统
CN105842038A (zh) 一种钨单晶涂层{110}晶面识别和表面份额的统计方法
CN102051283A (zh) 一种含羟胺的清洗液及其应用
TW201300523A (zh) 等離子刻蝕殘留物清洗液
CN116618371A (zh) 一种半导体制造设备零部件处理方法
CN104007168B (zh) 一种用于离子化质谱分析的样品载体及其应用
CN114989901B (zh) 电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法
KR940006040B1 (ko) 금속재의 세정방법
CN116286221A (zh) 一种用于液质联用仪离子源及离子透镜的清洗液
CN101748008A (zh) 一种含氟组合物及其应用
JP3154260B2 (ja) 電子写真感光体の製造方法および電子写真感光体用基体の処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: 215000 Room 606, building D, No. 398 Ruoshui Road, Suzhou Industrial Park, Jiangsu Province

Applicant after: Huiyu anlaibo (Suzhou) Pharmaceutical Technology Co.,Ltd.

Address before: Room 606, building D, 398 Ruoshui Road, Suzhou Industrial Park, 215000, Jiangsu Province

Applicant before: Anlaibo Pharmaceutical (Suzhou) Co.,Ltd.