CN114425283A - 一种烃类氨氧化反应装置及其含氧气体分布器及应用 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种烃类氨氧化反应装置及其含氧气体分布器及应用。该含氧气体分布器包括从下到上依次设置的下层多孔板、填料区和上层多孔板。采用该分布器的烃类氨氧化反应装置，可使得二次分布后的含氧气体均匀进入反应区，减少床层压力脉动强度以及固体浓度径向的非均匀分布，提高反应气体和催化剂的接触效率和反应器流化质量，进而提高原料利用率和产品收率。

Description

一种烃类氨氧化反应装置及其含氧气体分布器及应用

技术领域

本发明涉及一种烃类氨氧化反应器及其含氧气体分布器及应用。

背景技术

烃类氨氧化制备不饱和腈是石油化学工业的一个重要课题，其产品能发生加氢、聚合、水解、卤化等反应，是具有广泛用途的精细化工中间体。其中，气相氨氧化法是目前最简单、经济并被普遍采用的合成方法。大规模生产中，由于反应器内气、固分布不均等原因，存在着局部过热以及过度氧化等问题，从而降低了目标产物的选择性。CN1055916C公开了一种烃类氨氧化流化床反应器，但是其特点在于在反应区上部安装内构件。也就是说，其目的是解决反应区内气固相接触效率的问题，但没有从根本上解决流化床底部空气的均布问题。

板式气体分布器是氨氧化反应器中用于均布气体和支撑催化剂的重要部件，其结构的合理性与否直接影响着装置内气固流化质量和装置操作的稳定性，进而影响原料转化率和产品收率。现有技术中，烃类氨氧化反应器通常采用单层的圆盘状分布器，例如CN101954264A公开了合成间苯二甲腈的流化床反应器，包括反应器壳体，反应器壳体内的下部设置空气进料口，空气进料口上方设置下分布器，下分布器有固定在反应器壳体内壁上的下分布板，沿整个下分布板的圆盘面呈圆心对称向下焊接有200～500根长度为100～300mm的圆管，圆管直径为20～50mm。

此外，CN209287251U公开一种用于百菌清生产的流化床分布器，所述分布器包括分布板和气帽，所述分布板上开设有多个气孔，每个气孔上方对应设有气帽，所述气帽固定连接在分布板上，所述气帽边沿与分布板之间有间隙，所述分布板上设有列管，所述列管分别与分布板上的气孔相对应，上端与分布板平齐，下端穿出分布板；所述列管的长度为50～150mm。所述气帽包括锥形气帽，所述气帽的直径为30～150mm。通过气孔、气帽的设置以及开孔率的调节，促进反应气体的均匀分布，改善流化状态，提高反应的稳定性。

综上，常用的气固流化床底部的气体分布器形式主要有泡罩式和喷嘴式。泡罩式分布器虽然气体均布效果好、催化剂利用效率高，但运行稳定性较差、维护困难，不适合于大直径流化床反应器。含有众多喷嘴的板式分布器，虽结构简单并适用于大规模生产装置，但存在以下几个问题。(1)含氧气体经弯向反应器底部的进气管进入反应器并进行初次分布，之后折返向上流动，经上述气体分布器进行二次分布后进入反应区。二次分布前的气体速度在同一水平面往往是不同的，通常呈现中心气速高、两侧气速低的非均匀分布，即便经过常规均匀布孔的分布器进行二次分布，也很难保证进入反应区气体的均匀性。(2)当反应器停止流化后，含氧气体分布器上方的催化剂将瞬间大量回落并堆积于圆形板上方以及向下的短管内；当反应器再次流化时，由于部分喷嘴的严重堵塞会加剧气体的偏流和二次分布后气体的非均匀分布，不利于反应区气固的均匀接触，甚至影响反应器的正常运行。此外，(3)经短管下落至反应器底部锥形或椭圆封头内的催化剂，其中相当一大部分无法正常流化，长期滞留形成死区，大大降低了催化剂的利用率和反应器的生产能力。

发明内容

针对现有技术存在的流化床反应器底部的气体分布不均等问题，本发明提供一种新的用于烃类氨氧化反应的含氧气体分布器，该分布器可以解决流化床反应器底部的气体分布不均的问题，采用该分布器的烃类氨氧化反应装置，可使得二次分布后的含氧气体均匀进入反应区，减少偏流，加强气固混合，提高反应器内的流化质量和目标产物收率，进而提高原料利用率和产品收率。

本发明第一方面提供了一种用于烃类氨氧化反应的含氧气体分布器，包括从下到上依次设置的下层多孔板、填料区和上层多孔板。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，填料区内的填料的堆积方式为均匀排列或非均匀排列，优选为非均匀排列；更优选地，所述非均匀排列的方式为沿填料区中心向填料区边缘方向，填料区内空隙率逐渐增大；更优选地，填料区中心的空隙率为0.2～0.7；更优选地，填料区边缘的空隙率大于0.7且不大于0.95。在本发明中，中心是指俯视填料区，圆心部位为中心，距圆心最远处为边缘。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述填料区内的填料类型包括散装填料、规整填料和组合填料中的一种或多种。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述散装填料选自拉西环、鲍尔环、梯形环和球形中的一种或多种。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述规整填料为格栅填料和/或波纹填料。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述组合填料选自球型组合填料、锥型组合填料和流线型组合填料中的一种或多种。锥型组合填料可以为但不限于圆锥形组合填料，各层填料可平行布置也可相互错开。流线型组合填料的示意图可以如图1a所示，球型组合填料的示意图可以如图1b所示，圆锥型组合填料的示意图可以如图1c所示。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，上述组合填料中的单个填料可以为实心填料和/或多孔填料，优选地多孔填料的孔隙率为0.6～0.9。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述下层多孔板和上层多孔板各自独立地设置若干气孔。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述气孔的排布图形包括正三角形、正方形、正六边形或同心圆形。例如，同心圆形的示意图可以如图2a所示，正三角形的示意图可以如图2b所示，正方形的示意图可以如图2c所示，正六边形的示意图可以如图2d所示。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述气孔的形状选自圆形、三角形、正方形、菱形和正六边形中的一种或多种。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述下层多孔板和所述上层多孔板的布孔方式为单区布孔或多区布孔。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，单区布孔方式选自孔径相同且孔间距相同的均匀布孔、孔径相同且孔间距沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔和孔间距相同且孔径沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔中的一种或多种；更优选地，最大孔间距为最小孔间距的2.0～5.0倍；更优选地，最大孔径为最小孔径的1.2～3.0倍。例如孔径相同且孔间距相同的均匀布孔的示意图可以如图3a所示。孔径相同且孔间距沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔的示意图可以如图3b1和图3b2所示，优选地，最大孔间距为最小孔间距的2.0～5.0倍。孔间距相同且孔径沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔的示意图可以如图3c1和图3c2所示，最大孔径为最小孔径的1.2～3.0倍。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述多区布孔为将下层多孔板和/或上层多孔板分为1、2、3…N个区域。例如图4i至图4l所示。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，下层多孔板与上层多孔板分区布孔方式选自下层分布板和上层分布板板间距相同且各区处于同一水平面、下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面或下层分布板和上层分布板各区板间距不同；优选地最大板间距与最小板间距的比值为1.0～3.0，优选地处于不同水平面的相邻两区的共用边界的高度为上、下多孔板间距的0.2～0.8倍。下层分布板和上层分布板板间距相同且各区处于同一水平面的示意图可以如图4a～4d所示。下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面的示意图可以如图4e～4h所示。下层分布板和上层分布板各区板间距不同的示意图可以如图4i～4l所示。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述下层多孔板的开孔率为0.1～3％，优选为0.2～1.5％。例如0.2％、0.3％、0.4％、0.5％、0.6％、0.7％、0.8％、0.9％、1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％、1.5％，以及它们之间的任意值。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述上层多孔板的开孔率为0.3～6％，优选为0.6～4％。例如0.6％、1％、1.5％、2％、2.5％、3％、3.5％、4％，以及它们之间的任意值。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述下层多孔板的任意气孔的过孔速度为20～220m/s。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，所述上层多孔板的任意气孔的过孔速度为5～60m/s。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，下层多孔板选自平面板、上凸型板或下凸型板。平面板的示意图可以如图5a所示。下凸型板的示意图可以如图5b所示。上凸型板的示意图可以如图5c所示。

根据本发明所述的含氧气体分布器的一些实施方式，上凸型和下凸型板各自独立地与水平面的夹角θ1为2°～15°，优选6°～10°。

本发明第二方面提供了一种烃类氨氧化反应装置，包括具有反应区的流化床反应器，与所述反应器连通的用于通入含氧气体的含氧气体进料管和用于通入烃类及氨气的物料分布器，其中，在所述反应区与含氧气体进料管之间设置上述的用于烃类氨氧化反应的含氧气体分布器。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些实施方式，所述含氧气体进料管与所述分布器的间距为反应器直径的0.05～0.5倍。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些实施方式，所述分布器的填料区的高度为反应器直径的0.05～0.5倍。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些实施方式，所述含氧气体进料管的管出口向下。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些实施方式，物料分布器包括主管及多组对称分布的支管或环管，各支管或环管与主管相连；优选地，主管和各支管或环管上均布喷嘴；更优选地，开孔率为0.03～2.0％；更优选地，喷嘴方向与主/支/环管垂线的夹角θ2为0°～60°。物料分布器及喷嘴方向的示意图可以如图6a至图6c所示。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些优选实施方式，烃类氨氧化反应装置可以但不限于包括流化床反应器，在所述流化床反应器内部从下到上依次设置反应器锥底、含氧气体进料管、含氧气体分布器(包括下层多孔板、填料区和上层多孔板)、气固混合区、物料分布器、浓相反应区、旋风分离器及料腿、稀相反应区、颗粒沉降区和烃类流出物出口，所述浓相反应区与稀相反应区内采用换热构件分别控制浓相反应区与稀相反应区内的温度并优化浓相反应区与稀相反应区内的流态化质量。例如图7所示。

根据本发明所述的烃类氨氧化反应装置的一些实施方式，所述物料分布器与含氧气体分布器的上层多孔板的间距为流化床反应器直径的0.05～0.5倍，优选0.1～0.3倍。

本发明第三方面提供了一种腈的制备方法，包括采用上述的烃类氨氧化反应装置，将原料烃类、氨气和含氧气体经上述反应装置在催化剂作用下反应。

根据本发明所述的制备方法的一些实施方式，烃类、氨气和以空气计的含氧气体的摩尔比为1：(1～10)：(9～45)。

根据本发明所述的制备方法的一些实施方式，反应温度为350～480℃。

根据本发明所述的制备方法的一些实施方式，反应压力为0.01～0.2MPa。

根据本发明所述的制备方法的一些实施方式，反应器表观气速为0.1～0.9m/s。

根据本发明所述的制备方法的一些具体实施方式，含氧气体经含氧气体进料管由流化床反应器底部进入，向上依次通过含氧气体分布器的下层多孔板、填料区、上层多孔板以后，均匀的进入催化剂层；物料(烃类、氨)汽化后经物料分布器的喷嘴向下喷出后，与空气、催化剂进行混合并发生氨氧化反应；反应生成的腈类、未反应的烃类、氨及空气与一小部分催化剂离开浓相反应区进入稀相反应区继续反应，逃离稀相反应区的催化剂颗粒经旋风分离器分离后经料腿返回反应区，反应产物通过烃类流出物出口流出流化床反应器后，经冷凝或溶剂吸收等方式接收，经精馏或结晶等方法精制得到产品。

本发明的有益效果：

(1)本发明的含氧气体分布器，主要包括下层多孔板、上层多孔板，以及介于两板间的填料区，用于氨氧化流化床反应器底部进入的含氧气的二次分布，能够促进反应器底部进入催化剂床层的含氧气体的均匀分布。该分布器所产生的压降足够满足气固均布稳定性的要求，保证主反应区的流化质量。偏流现象得到抑制，降低了径向分布的不均匀性，减少了催化剂颗粒携带中间产物返混的几率，深度氧化等副反应减轻，目标产物腈类的收率升高。这对于烃类氨氧化等要求高转化率、高选择性的平行-连串反应过程非常有利。本发明的含氧气体分布器，由于其上、下分布板气孔可交错排布，以及两板间的填料可有效地阻碍催化剂的下落，从而避免分布器气孔堵塞，床层易于流化；还能起到阻止催化剂回落至反应器底部的作用，避免催化剂在反应器底部堆积并形成死区，提高催化剂的利用效率。

附图说明

图1a为本发明实施例1的流线型组合填料的示意图；

图1b为本发明实施例2的球型组合填料的示意图；

图1c为本发明的一种圆锥型组合填料的示意图；

图2a为本发明实施例1的同心圆形的气孔排布图形示意图；

图2b为本发明的正三角形的气孔排布图形示意图；

图2c为本发明实施例3的正方形的气孔排布图形示意图；

图2d为本发明的正六边形的气孔排布图形示意图；

图3a为本发明实施例1的孔径相同且孔间距相同的均匀布孔的示意图；

图3b1为本发明的孔径相同且孔间距沿径向逐渐增大的非均匀布孔的示意图；

图3b2为本发明的孔径相同且孔间距沿径向逐渐减小的非均匀布孔的示意图；

图3c1为本发明的孔间距相同且孔径沿径向逐渐增大的非均匀布孔的示意图；

图3c2为本发明的孔间距相同且孔径沿径向逐渐缩小的非均匀布孔的示意图；

图4a和图4c为本发明的下层分布板和上层分布板板间距相同且各区处于同一水平面的示意图的俯视图；

图4b和图4d为本发明的下层分布板和上层分布板板间距相同且各区处于同一水平面的示意图的主视图；

图4e为本发明实施例4的下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面的示意图的俯视图；

图4f为本发明实施例4的下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面的示意图的主视图；

图4g为本发明的下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面的示意图的俯视图；

图4h为本发明的下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面的示意图的主视图；

图4i和图4k为本发明的下层分布板和上层分布板各区板间距不同的示意图的俯视图；

图4j和图4l为本发明的下层分布板和上层分布板各区板间距不同的示意图的主视图；

图5a为本发明实施例5的下层多孔板为平面板的示意图；

图5b为本发明实施例1的下层多孔板为下凸型板的示意图；

图5c为本发明的下层多孔板为上凸型板的示意图；

图6a为本发明实施例1的物料分布器的示意图；

图6b～6c为本发明的物料分布器以及喷嘴方向的示意图；

图7为本发明的实施例1提供的烃类氨氧化反应装置的示意图。

附图标记说明

1流化床反应器；2反应器锥底；3含氧气体进料管；4下层多孔板；5填料区；6上层多孔板；7含氧气体分布器；8气固混合区；9物料分布器；10浓相反应区；11换热构件；12旋风分离器及料腿；13稀相反应区；14颗粒沉降区；15烃类流出物出口。

具体实施方式

为使本发明更加容易理解，下面将结合实施例来详细说明本发明，这些实施例仅起说明性作用，并不局限于本发明的应用范围。

【实施例1】

一种烃类氨氧化反应装置，如图7所示，包括流化床反应器1，在所述流化床反应器1内部从下到上依次设置反应器锥底2、含氧气体进料管3、含氧气体分布器7、气固混合区8、物料分布器9(如图6a所示)、浓相反应区10、旋风分离器及料腿12、稀相反应区13、颗粒沉降区14和烃类流出物出口15，所述浓相反应区10与稀相反应区13内采用换热构件11分别控制浓相反应区10与稀相反应区13内的温度并优化浓相反应区与稀相反应区内的流态化质量。

其中，含氧气体分布器7包括下层多孔板4、填料区5和上层多孔板6，填料区内的填料的堆积方式为非均匀排列，填料区中心处填料排列最为密集，空隙率为0.5，沿径向填料层空隙率逐渐增大，填料区边缘处的空隙率最大为0.8。填料的类型为流线型组合填料(如图1a所示)。所述下层多孔板和上层多孔板各自独立地设置若干气孔，气孔的排布图形为同心圆形(如图2a所示)，所述气孔的形状选自圆形。下层多孔板和所述上层多孔板的布孔方式为单区布孔，单区布孔方式为孔径相同且孔间距相同的均匀布孔(如图3a所示)。下层多孔板与上层多孔板分区布孔方式为下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于相同水平面。下层多孔板的开孔率为0.4％，上层多孔板的开孔率为2％。下层多孔板为下凸型板(如图5b所示)，下凸型板与水平面的夹角θ1为8°。

【实施例2】

按照实施例1的方式，不同的是，组合填料的类型为球型组合填料(如图1b所示)。

【实施例3】

按照实施例1的方式，不同的是，气孔的排布图形为正方形(如图2c所示)。

【实施例4】

按照实施例1的方式，不同的是，下层多孔板和上层多孔板的布孔方式为多区布孔(1区和2区)，下层多孔板与上层多孔板分区布孔方式为下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面(如图4e和4f所示)，相邻两区的共用边界高度(如图4f所示，1区和2区边界重合部分的长度)为上、下层多孔板间距的0.6倍。

【实施例5】

按照实施例1的方式，不同的是，下层多孔板为平面板(如图5a所示)。

【实施例6】

按照实施例1的方式，不同的是，填料区内的填料的堆积方式为均匀排列。

【实施例7】

按照实施例1的方式，不同的是，下层多孔板的开孔率为2％，上层多孔板的开孔率为6％。

【实施例8】

采用实施例1的烃类氨氧化反应装置，将反应原料间二甲苯、氨气和空气经上述反应装置在催化剂作用下反应，间二甲苯、氨气和以空气计的含氧气体的摩尔比为1：7：40，反应温度为420℃，反应压力为0.01MPa，反应器表观气速为0.42m/s，得到目标产物间苯二甲腈。

间苯二甲腈收率、含氧气体分布器上方压力脉动标准偏差以及径向浓度非均匀指数等结果见表1，说明本装置能促进气、固的均匀分布，提高反应目标产物收率。

【实施例9至实施例14】

按照实施例8的方法，不同的是，分别采用实施例2-7的烃类氨氧化反应装置。

按照实施例8的方法得到产品收率、以及压力脉动和径向浓度分布情况，结果见表1。

【对比例1】

采用实施例1的烃类氨氧化反应装置，不同的是，空气分布器采用现有技术中常用的带有喷嘴的板式分布器，即：

一种烃类氨氧化反应装置，包括流化床反应器，在所述流化床反应器内部从下到上依次设置的反应器锥底、空气进料管、空气分布器、气固混合区、物料分布器、浓相反应区、旋风分离器及料腿、稀相反应区、颗粒沉降区和烃类流出物出口，所述浓相反应区与稀相反应区内采用换热构件分别控制浓相反应区与稀相反应区内的温度并优化浓相反应区与稀相反应区内的流态化质量。

其中，空气分布器为现有技术中常用的带有喷嘴的板式分布器。所述带有喷嘴的板式分布器沿分布板的圆盘平面呈圆心对称向下焊接有圆管状喷嘴。喷嘴的排布图形为正方形(如图2c所示)，圆管状喷嘴下端渐缩；圆盘面分布板上的开孔率为2％，管式喷嘴下端的开孔率为0.4％。

【对比例2】

采用实施例1的烃类氨氧化反应装置，不同的是，含氧气体分布器不包括填料区，将该填料区替换为无任何填料的空白区域，即：

一种烃类氨氧化反应装置，包括流化床反应器，在所述流化床反应器内部从下到上依次设置反应器锥底、含氧气体进料管、含氧气体分布器、气固混合区、物料分布器、浓相反应区、旋风分离器及料腿、稀相反应区、颗粒沉降区和烃类流出物出口，所述浓相反应区与稀相反应区内采用换热构件分别控制浓相反应区与稀相反应区内的温度并优化浓相反应区与稀相反应区内的流态化质量。

其中，含氧气体分布器包括下层多孔板和上层多孔板，下层多孔板和上层多孔板各自独立地设置若干气孔，气孔的排布图形为同心圆形(如图2a所示)，所述气孔的形状选自圆形。下层多孔板和所述上层多孔板的布孔方式为单区布孔，单区布孔方式为孔径相同且孔间距相同的均匀布孔(如图3a所示)。下层多孔板与上层多孔板分区布孔方式为下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于相同水平面。下层多孔板的开孔率为0.4％，上层多孔板的开孔率为2％。下层多孔板为下凸型板(如图5b所示)，下凸型板与水平面的夹角θ1为8°。

【对比例3】

按照实施例8的方法，不同的是，采用对比例1的烃类氨氧化反应装置。

按照实施例8的方法得到产品收率、以及压力脉动和径向浓度分布情况，结果见表1。

【对比例4】

按照实施例8的方法，不同的是，采用对比例2的烃类氨氧化反应装置。

按照实施例8的方法得到产品收率、以及压力脉动和径向浓度分布情况，结果见表1。

表1

续表1

以上所述的仅是本发明的优选实例。应当指出对于本领域的普通技术人员来说，在本发明所提供的技术启示下，作为本领域的公知常识，还可以做出其它等同变型和改进，也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于烃类氨氧化反应的含氧气体分布器，包括从下到上依次设置的下层多孔板、填料区和上层多孔板。

2.根据权利要求1所述的分布器，其特征在于，填料区内的填料的堆积方式为均匀排列或非均匀排列，优选为非均匀排列；更优选地，所述非均匀排列的方式为沿填料区中心向填料区边缘方向，填料区内空隙率逐渐增大。

3.根据权利要求1或2所述的分布器，其特征在于，所述填料区内的填料类型包括散装填料、规整填料和组合填料中的一种或多种；

优选地，所述散装填料选自拉西环、鲍尔环、梯形环和球形中的一种或多种；

优选地，所述规整填料为格栅填料和/或波纹填料；

优选地，所述组合填料选自球型组合填料、锥型组合填料和流线型组合填料中的一种或多种。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的分布器，其特征在于，所述下层多孔板和上层多孔板各自独立地设置若干气孔；

优选地，所述气孔的排布图形包括正三角形、正方形、正六边形或同心圆形；

优选地，所述气孔的形状选自圆形、三角形、正方形、菱形和正六边形中的一种或多种。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的分布器，其特征在于，所述下层多孔板和所述上层多孔板的布孔方式为单区布孔或多区布孔；

优选地，单区布孔方式选自孔径相同且孔间距相同的均匀布孔、孔径相同且孔间距沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔和孔间距相同且孔径沿径向逐渐增大或减小的非均匀布孔中的一种或多种；更优选地，最大孔间距为最小孔间距的2.0～5.0倍；更优选地，最大孔径为最小孔径的1.2～3.0倍。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的分布器，其特征在于，下层多孔板与上层多孔板分区布孔方式选自下层分布板和上层分布板板间距相同且各区处于同一水平面、下层分布板和上层分布板的板间距相同且各区处于不同水平面或下层分布板和上层分布板各区板间距不同；优选地最大板间距与最小板间距的比值为1.0～3.0，优选地处于不同水平面的相邻两区的共用边界高度为上、下多孔板间距的0.2～0.8倍。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的分布器，其特征在于，所述下层多孔板的开孔率为0.1～3％，优选为0.2～1.5％；和/或，所述上层多孔板的开孔率为0.3～6％，优选为0.6～4％。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的分布器，其特征在于，下层多孔板选自平面板、上凸型板或下凸型板；优选地，上凸型和下凸型板各自独立地与水平面的夹角θ1为2°～15°，优选6°～10°。

9.一种烃类氨氧化反应装置，包括具有反应区的流化床反应器，与所述反应器连通的用于通入含氧气体的含氧气体进料管和用于通入烃类及氨气的物料分布器，其中，在所述反应区与含氧气体进料管之间设置权利要求1-8中任意一项所述的用于烃类氨氧化反应的含氧气体分布器；

优选地，所述含氧气体进料管与所述分布器的间距为反应器直径的0.05～0.5倍；

优选地，所述分布器的填料区的高度为反应器直径的0.05～0.5倍；

优选地，所述空气进料管的管出口向下。

10.一种腈的制备方法，包括采用权利要求9所述的烃类氨氧化反应装置，将原料烃类、氨气和含氧气体经上述反应装置在催化剂作用下反应。

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