CN114420879A - 显示面板的制备方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示面板技术领域,并具体公开了一种显示面板的制备方法及显示面板,其中,该显示面板的制备方法包括:在发光材料溶液中添加微颗粒,并通过微颗粒形成阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障,以得到发光层制备溶液;在像素定义层上形成凹槽;在凹槽中沉积发光层制备溶液;对发光层制备溶液进行干燥处理,以得到发光层。通过上述方式,本申请中的显示面板的制备方法能够有效保证制备得到的显示面板中发光层的成膜厚度的均一性,从而能够有效提升相应显示面板的显示效果。

Description

显示面板的制备方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示面板技术领域,特别是涉及显示面板的制备方法及显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展,尤其是OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)技术不断成熟,目前业界大尺寸OLED通常倾向于采用喷墨打印的方式进行制造。
简单说,印刷OLED就是通过喷墨印刷设备上的多个印刷喷头,将不同颜色的聚合物发光材料溶液精确的沉积在ITO(氧化铟锡)玻璃基板的隔离柱槽中,而其中的溶剂在挥发后,便会形成100纳米左右厚度的薄层,而构成可发光的像素。然而,聚合物发光材料溶液在加热干燥过程中,由于液滴周围的溶剂更容易挥发,且液滴存在表面张力,以致液滴溶剂通常会由中心向边缘流动,造成边缘溶质堆积,进而产生咖啡环效应,也即相应形成的发光层外圈厚,中间薄的现象,并最终影响显示效果的均一性。
发明内容
本申请提供了一种显示面板的制备方法及显示面板,以解决现有技术中的显示面板的制备方法易形成发光层外圈厚,中间薄的现象,并最终影响显示效果的均一性。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种显示面板的制备方法,其中,该显示面板的制备方法包括:在发光材料溶液中添加微颗粒,并通过微颗粒形成阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障,以得到发光层制备溶液;在像素定义层上形成凹槽;在凹槽中沉积发光层制备溶液;对发光层制备溶液进行干燥处理,以得到发光层。
其中,微颗粒为多孔结构,且微颗粒的粒径大于或等于发光材料溶液中溶质的粒径。
其中,微颗粒无色透明。
其中,微颗粒为二氧化硅纳米颗粒和/或二氧化钛纳米颗粒。
其中,微颗粒为二氧化钛带电粒子。
其中,在二氧化钛带电粒子的外侧形成有包覆二氧化钛带电粒子的反射层。
其中,反射层的制成材料为铝、铜以及金中的一种。
其中,微颗粒在发光材料溶液中的质量占比为0.5%-15%。
其中,微颗粒呈球体、六面体以及柱体中的一种。
为解决上述技术问题,本申请采用的又一个技术方案是:提供一种显示面板,包括像素定义层和发光层,像素定义层上形成有凹槽,发光层形成于凹槽中,其中,发光层中包括有微颗粒,微颗粒均匀分布于发光层中。
本申请的有益效果是:区别于现有技术的情况,本申请中的显示面板的制备方法通过在发光材料溶液中添加微颗粒,以能够基于该微颗粒形成阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障,而得到发光层制备溶液,以在将该发光层制备溶液沉积于像素定义层上的凹槽中,并对发光层制备溶液进行干燥处理时,能够通过由微颗粒构筑的阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障有效避免干燥过程中发光材料溶剂一直由凹槽的中心位置向其外围流动,而导致液滴外围溶质形成堆积的现象,进而能够有效保证制备得到的显示面板中发光层的成膜厚度的均一性,以有效提升最终制得的显示面板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。其中:
图1a是本申请显示面板的制备方法第一实施例的流程示意图;
图1b-图1d是图1a中S11-S14对应的一实施方式的结构示意图;
图2是本申请显示面板的制备方法第二实施例的流程示意图;
图3是本申请显示面板一实施例的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面将结合附图对本申请实施例的技术方案作进一步的详细描述。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
请参阅图1a-图1d,其中,图1a是本申请显示面板的制备方法第一实施例的流程示意图,图1b-图1d是图1a中S11-S14对应的一实施方式的结构示意图。本实施例包括如下步骤:
S11:在发光材料溶液中添加微颗粒,并通过微颗粒形成阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障,以得到发光层制备溶液。
可理解的是,在本实施例中,如图1c所示,显示面板中的发光层 24的制备具体是通过沉积相应的制备溶液,并进一步干燥处理后制得。因此,在进行发光层24的制做工艺流程之前,首先便需要对发光层制备溶液23进行配制。
具体地,提供或制备一合适份量的发光材料溶液231,且具体是分别制备得到具有不同颜色的聚合物发光材料溶液231,进而在该发光材料溶液231中添加满足特定要求的微颗粒232,以通过将该微颗粒232 渗入到发光材料溶液231中的方式,在发光材料溶液231中形成一能够阻挡发光材料溶液231中溶质自由移动的屏障。
则可理解的是,该屏障具体由上述的微颗粒232构成,而在将合适份量的微颗粒232渗入到发光材料溶液231中后,便可由此得到相应的发光层制备溶液23。
需说明的是,该溶质具体是溶液中被溶剂溶解的物质。且该溶质可以是固体(如溶于水中的糖和盐等)、液体(如溶于水中的酒精等)、或气体(如溶于水中的氯化氢气体等)。其中,在溶液中,溶质和溶剂只是一组相对的概念。一般来说,相对较多的那种物质称为溶剂,而相对较少的物质称为溶质。水默认为溶剂。
则由此可知,上述发光材料溶液231中的溶质具体指代的是具有不同颜色的聚合物发光材料(图未标出),比如,红色聚合物发光材料、绿色聚合物发光材料以及蓝色聚合物发光材料,而相应的溶剂则为有机溶剂(如乙醇、甲苯、氯苯、环己烷等)(图未标出)或水。且其中具有不同颜色的聚合物发光材料分别是单独制备、单独存储的。
S12:在像素定义层上形成凹槽。
进一步地,如图1b所示,在显示面板的制备工艺中,发光层24通常是形成于显示面板的像素定义层21上。因此,在制备发光层24之前还需首先提供或制备一像素定义层21,并对应于像素定义层21上待形成发光层24的位置,在像素定义层21上首先形成相应的凹槽211。
在一实施例中,该像素定义层21具体是设置在一阵列基板22上,而发光层24进一步形成于像素定义层21的凹槽211中。
S13:在凹槽中沉积发光层制备溶液。
又进一步地,如图1c所示,在像素定义层21的凹槽211中沉积制备得到发光层制备溶液23,比如,采用喷墨打印的方式在像素定义层 21的凹槽211中注入呈墨水液滴样式的发光层制备溶液23。
则可理解的是,该发光层制备溶液23在注入到像素定义层21凹槽 211中的初始阶段,将首先呈中间厚,边缘薄的样式。
S14:对发光层制备溶液进行干燥处理,以得到发光层。
又进一步地,如图1d所示,对发光层制备溶液23进行干燥处理,比如,对发光层制备溶液23进行加热干燥,或等待发光层制备溶液23 自然风干,以得到形成于像素定义层21的凹槽211中的发光层24。
可理解的是,在发光层制备溶液23的干燥处理过程中,由于相应的液滴外围的溶剂挥发速度快,其中的溶剂便会由液滴的中心向外围发生移动。但由于发光层制备溶液23中被掺入了一定比例的微颗粒232,且该微颗粒232能够均匀的悬浮在发光层制备溶液23中,而形成限制溶质,也即发光材料大范围移动的屏障,且因为屏障的限制作用,凹糟中心区域的溶质将无法大范围发生移动聚集。则由此可知,随着溶剂的不断蒸发,溶质混合着微颗粒232将自然沉降在像素定义层21上,从而形成厚度均匀的膜层,也即发光层24。
进一步地,在一实施例中,上述S12具体还可以包括:提供或制备得到一阵列基板22;在阵列基板22上依次形成阳极层(图未示出)和像素定义层21;在像素定义层21上形成暴露阳极层的通孔。
则可理解的是,该通孔即可对应于上述像素定义层21的凹糟,而不同的是构成该通孔底部的具体是阳极层,而发光层24具体还可以是由沉积至通孔底部,也即阳极层上及通孔的孔壁上的发光层制备溶液23 经干燥后得到。
上述方案,通过在发光材料溶液231中添加微颗粒232,以能够基于该微颗粒232形成阻挡发光材料溶液231中溶质移动的屏障,而得到发光层制备溶液23,以在将该发光层制备溶液23沉积于像素定义层21 上的凹槽211中,并对发光层制备溶液23进行干燥处理时,能够通过由微颗粒232构筑的阻挡发光材料溶液231中溶质移动的屏障有效避免干燥过程中发光材料溶剂一直由凹槽211的中心位置向其外围流动,而导致液滴外围溶质形成堆积的现象,进而能够有效保证制备得到的显示面板中发光层24的成膜厚度的均一性,以能够有效提升最终制得的显示面板的显示效果。
可选地,该微颗粒232具体为多孔结构,且该微颗粒232的粒径大于或等于发光材料溶液231中溶质的粒径,也即相应的发光材料至少部分能够进入到微颗粒232的孔内,以能够有效限制发光材料在发光层制备溶液23干燥的过程中进行大范围的移动。
可选地,该微颗粒232具有优良的悬浮稳定性,以能够均匀的分散在发光材料溶液231中。
可选地,该微颗粒232无色透明,以能够不影响最终形成的发光层 24的亮度和色度等光学特性。
可选地,微颗粒232在发光材料溶液231中的质量占比为0.5%-15%,从而能够尽可能的不影响最终制得的发光层24的光学特性。
可选地,微颗粒232呈球体、六面体以及柱体等任一合理的形状中的一种,以能够在发光材料溶液231所对应的墨水液滴中更容易分散形成阻挡溶质移动的屏障,本申请对此不做限定。
在一实施例中,该微颗粒232具体可以为二氧化硅纳米颗粒,且为多孔结构、无色透明,并具有优良的悬浮稳定性,以能够均匀的分散在墨水液滴中。则由此可知,当发光材料溶液231所对应的液滴中溶剂发生移动时,悬浮的二氧化硅纳米颗粒能够起到限制溶质移动的作用,同时由于二氧化硅纳米颗粒具有多孔结构,部分溶质将会进入二氧化硅颗粒的孔洞中,从而能够更有效地限制溶质的移动。且当溶剂完全蒸发后,其中的溶质能够与二氧化硅颗粒一起沉降在像素定义层21上,以最终形成呈薄膜状的发光层24。
进一步地,由于其中的溶质能够进入二氧化硅颗粒的孔洞中,且二氧化硅纳米颗粒为无色透明材料,因此最终形成的发光层24将具有连续的均匀结构,而不会因为二氧化硅颗粒的存在而影响发光像素的完整性。
在一实施例中,该微颗粒232还可以为二氧化钛带电粒子,且基于同性相斥的原理,二氧化钛带电粒子同样能够均匀的分散在发光材料溶液231所对应的墨水液滴中。且当液滴内溶剂发生移动时,也能够起到限制溶质移动的作用。
可选地,在二氧化钛带电粒子的外侧形成有包覆二氧化钛带电粒子的反射层,以能够避免二氧化钛带电粒子对光线的吸收作用,从而影响到最终制成的显示面板的显示效果。
可选地,反射层的制成材料为铝、铜以及金等任一合理金属材料中的一种,本申请对此不做限定。
可选地,该微颗粒232为二氧化硅纳米颗粒和二氧化钛带电粒子的混合物。
请参阅图2,图2是本申请显示面板的制备方法第二实施例的流程示意图。本实施例包括如下步骤:
S31:在阳极基板上制备空穴注入层、空穴传输层以及电子阻挡层中的一层或多层。
具体地,利用印刷法(喷墨打印、丝网印刷、旋涂、喷涂、刮涂、压印等)或蒸镀法依次在阳极基板上制备空穴注入层、空穴传输层以及电子阻挡层中的全部三层,或者只制备其中的任意一层或任意两层,且具体制备哪一层或制备几层根据实际需要进行选择。
可选地,空穴注入层、空穴传输层或电子阻挡层的厚度为5-100nm。
其中,阳极基板包括阵列基板,以及设置在阵列基板上的阳极层、像素定义层(用于定义红绿蓝子像素)以及子像素坑,且该子像素坑即为形成在像素定义层上的凹槽。
S32:在每一子像素坑中喷墨打印发光材料的溶液滴,以在子像素坑中依次形成红绿蓝发光层。
可理解的是,该发光材料的溶液滴具体与显示面板的制备方法第一实施例中所示出的发光层制备溶液相同,且是采用相同制备方法制得,具体请参阅图1a-图1d及相关文字内容,在此不再赘述。
具体地,在子像素坑依次喷墨打印红、绿、蓝发光材料的溶液滴,以进而在子像素坑中依次形成红绿蓝发光层。
S33:在发光层上制备电子注入层、电子传输层以及空穴阻挡层中的中的一层或多层。
具体地,在发光层上制备空穴注入层、空穴传输层以及电子阻挡层中的全部三层,或者只制备其中的任意一层或任意两层,且具体制备哪一层或制备几层根据实际需要进行选择。
可选地,电子注入层、电子传输层或空穴阻挡层中的厚度为1-50nm。
其中,具体可在发光层上用印刷法制备聚合物电子传输层,厚度为1-50nm;又或者在发光层上用真空热蒸镀小分子电子传输层和电子注入层,厚度为1-40nm。
S34:利用印刷法或蒸镀法在电子注入层、电子传输层以及空穴阻挡层中的中的一层或多层上制备阴极。
其中,该阴极具体可以为金属阴极,且金属阴极中的金属优选为 Al或Ag。比如,可通过在电子注入层、电子传输层以及空穴阻挡层中的中的一层或多层上印刷(喷墨打印、丝网印刷、旋涂、喷涂、刮涂、压印等)导电浆料(如微米银浆,纳米银墨水等),以进行干燥并烧结后制得导电阴极,且厚度优选为200nm-2mm;又或者可在电子注入层、电子传输层以及空穴阻挡层中的中的一层或多层上利用真空热蒸镀金属阴极(如Al或Ag),且厚度优选为50nm-2um。
进一步地,在一实施例中,上述S31之后,S32之前,具体还可以包括:利用印刷法,形成可溶性含氟绝缘层封住阳极基板;在可溶性含氟绝缘层上喷墨打印氟溶剂,以显露出所有子像素坑。
其中,印刷法包括喷墨打印法、丝网印刷法、旋涂法、喷涂法、刮涂法或压印法。
可选地,可溶性含氟绝缘层(如CYTOP)的厚度为50-2000nm。
可理解的是,为重新在阳极基板上显露出像素坑,也即像素定义层上的凹槽,还需通过向可溶性含氟绝缘层上喷墨打印氟溶剂,对可溶性含氟绝缘层的特定位置进行蚀刻,以显露出所有子像素坑。
可选地,氟溶剂为全氟烷烃、全氟二烷基醚或全氟三烷基胺。
其中,发光材料的溶液滴中的溶剂为有机溶剂(如乙醇、甲苯、氯苯、环己烷等)。
由于可溶性含氟绝缘层覆盖了原来的像素定义层,相当于使其厚度增加且表面能降低,因此溶液滴会被稳定地限制在子像素坑内,不会溢出,从而很好地解决了现有技术中喷墨打印的溶液滴容易溢出和彼此混合而导致红绿蓝子像素定义失败的缺陷。另外,溶液的溶剂为之所以选择有机溶剂,是因为“可溶性含氟绝缘层”只溶于含氟溶剂,而不溶于普通的有机溶剂,因此可溶性含氟绝缘层不会被发光材料的液滴影响。
可理解的是,现有印刷OLED工艺的像素定义层是利用聚酰亚胺材料刻蚀形成子像素坑,由于其厚度很难做厚(即子像素坑的深度有限),而且表面能较高(较亲溶液),所以印刷发光材料液滴时容易出现溢出和互相混合现象,从而使得红绿蓝子像素的发光层不能正确形成。而通过对现有技术中存在的上述问题进行了优化改进:先对整个阳极基板印刷一层可溶性含氟绝缘层,再喷墨打印专用的氟溶剂把子像素坑洗开,这样就相当于在原像素定义层上再覆盖上一层含氟绝缘层;通过增加所述可溶性含氟绝缘层,不仅使得子像素坑的深度增加,而且可溶性含氟绝缘层的表面能很低(较疏溶液),因此在印刷发光材料液滴时不会溢出,从而可使得在子像素坑内良好地形成红绿蓝发光层,进而可极大提高印刷OLED显示屏的生产良率。
基于总的发明构思,本申请还提供了一种显示面板,请参阅图3,图3是本申请显示面板一实施例的结构示意图。本实施例中的显示面板包括:阵列基板41、像素定义层42以及发光层43。
具体地,像素定义层42设置在阵列基板41上,且在像素定义层42 上还对应形成有凹槽(图未标出),而发光层43具体是形成于该凹槽中。其中,发光层43中还进一步包括有微颗粒(图未标出),且该微颗粒均匀分布在发光层43中。
可选地,该微颗粒具体为多孔结构,且该微颗粒的粒径大于或等于发光材料溶液中溶质的粒径。
可选地,该微颗粒无色透明。
可选地,微颗粒在发光材料溶液中的质量占比为0.5%-15%。
可选地,微颗粒呈球体、六面体以及柱体等任一合理的形状中的一种,本申请对此不做限定。
在一实施例中,该微颗粒具体可以为二氧化硅纳米颗粒材料,且为多孔结构、无色透明,并具有优良的悬浮稳定性。
在一实施例中,该微颗粒还可以为二氧化钛带电粒子。
可选地,在二氧化钛带电粒子的外侧形成有包覆二氧化钛带电粒子的反射层,以能够避免二氧化钛带电粒子对光线的吸收作用。
可选地,反射层的制成材料为铝、铜以及金等任一合理金属材料中的一种,本申请对此不做限定。
可选地,该微颗粒为二氧化硅纳米颗粒和二氧化钛带电粒子的混合物。
本申请的有益效果是:区别于现有技术的情况,本申请中的显示面板的制备方法通过在发光材料溶液中添加微颗粒,以能够基于该微颗粒形成阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障,而得到发光层制备溶液,以在将该发光层制备溶液沉积于像素定义层上的凹槽中,并对发光层制备溶液进行干燥处理时,能够通过由微颗粒构筑的阻挡发光材料溶液中溶质移动的屏障有效避免干燥过程中发光材料溶剂一直由凹槽的中心位置向其外围流动,而导致液滴外围溶质形成堆积的现象,进而能够有效保证制备得到的显示面板中发光层的成膜厚度的均一性,以有效提升最终制得的显示面板的显示效果。
以上仅为本申请的实施方式,并非因此限制本申请的专利范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述显示面板的制备方法包括:
在发光材料溶液中添加微颗粒,并通过所述微颗粒形成阻挡所述发光材料溶液中溶质移动的屏障,以得到发光层制备溶液;
在像素定义层上形成凹槽;
在所述凹槽中沉积所述发光层制备溶液;
对所述发光层制备溶液进行干燥处理,以得到发光层。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒为多孔结构,且所述微颗粒的粒径大于或等于所述发光材料溶液中溶质的粒径。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒无色透明。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒为二氧化硅纳米颗粒和/或二氧化钛纳米颗粒。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒为二氧化钛带电粒子。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
在所述二氧化钛带电粒子的外侧形成有包覆所述二氧化钛带电粒子的反射层。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述反射层的制成材料为铝、铜以及金中的一种。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒在所述发光材料溶液中的质量占比为0.5%-15%。
9.根据权利要求1-7中任一项所述的显示面板的制备方法,其特征在于,
所述微颗粒呈球体、六面体以及柱体中的一种。
10.一种显示面板,包括阵列基板、像素定义层以及发光层,所述像素定义层设置在所述阵列基板上,且所述像素定义层上形成有凹槽,所述发光层形成于所述凹槽中,其特征在于,
所述发光层中包括有微颗粒,所述微颗粒均匀分布于所述发光层中。
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