CN114381694A - 一种ipad接口氧化钛镀膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及ipad接口镀膜技术领域，且公开了一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，包括以下步骤：步骤一：对需要镀膜的接口进行分类，把不同种类的接口分开；步骤二：对分类后的接口进行预处理；步骤三：把预处理后的接口放在真空镀膜机内镀膜；步骤四：取出镀膜后的接口。该ipad接口氧化钛镀膜工艺，通过两个基板、双头丝杆、电机和液压伸缩杆的设置，接口与基板的接触面可以发生改变，接口的表面可以完整的镀膜，提高接口镀膜的质量及效率，通过自动开合的分隔板的设置，镀膜原材料上方的空间可以处于闭合和打开的状态，原材料上方的空间闭合时，接口取放时，外界的温度不会影响原材料的温度，节约了资源。

Description

一种ipad接口氧化钛镀膜工艺
技术领域
本发明涉及ipad接口镀膜技术领域，具体为一种ipad接口氧化钛镀膜工艺。
背景技术
随着人们生活水平的不断提高，ipad已经成为了人们生活中所常见的电子产品，ipad机身上会设置不同的接口，为了延长接口的使用寿命及提高其性能，一般会在接口表面镀氧化钛膜，且镀膜一般采用真空蒸镀的方法，真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体(称为衬底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜法包括如下三个主要的步骤：(1)加热蒸发过程；(2)气化原子或分子在蒸发源与基片之间的输运；(3)蒸发原子或分子在基片表面上的淀积过程在Ti02薄膜的各种制备方法中，真空蒸镀法成膜速度快，设备工艺简单，易于操作，实验原理简单，制得的薄膜均匀致密，产率高，适应的范围广。
采用真空蒸发法对接口进行镀膜时，接口会放在镀膜室的基板上，而接口与基板的接触部位不能镀膜，影响接口镀膜的完整性及质量，且在镀膜后，工作人员取出镀膜后的产品时，冷空气进入到镀膜室内，降低了镀膜室内的温度，镀膜原材料需要再次消耗较多的能量才能被蒸发，浪费了资源。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供了一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，具备接口与基板的接触面可以发生改变，提高接口镀膜的质量及效率，镀膜室内设有隔段结构，降低冷空气对镀膜原材料温度的影响的优点，解决了上述背景技术中提出的问题。
本发明提供如下技术方案：一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，包括以下步骤：
步骤一：对需要镀膜的接口进行分类，把不同种类的接口分开；
步骤二：对分类后的接口进行预处理；
步骤三：把含有氧化钛的镀膜原材料放在真空镀膜机内合适的位置处，把预处理后的接口放在真空镀膜机内的基板上，且原材料与基板之间设有水平开合的分隔板，真空镀膜机内的基板有两个，两个基板的一侧分别与双头丝杆的一端螺纹连接，双头丝杆的中部与电机的输出轴末端连接，电机另一端的底部与液压伸缩杆连接，接口在真空镀膜机内镀膜；
步骤四：取出镀膜后的接口。
优选的，步骤二中对接口进行预处理的步骤为：把接口放在除油剂中除油，取出除油后的接口，并用去离子水清洗干净；把除油后的接口放在除锈剂中进行除锈，除锈后的接口用去离子水清洗干净；把清洗后的接口烘干。
优选的，接口在除油剂中浸泡的时间为3-5分钟，接口在除锈剂中浸泡的时间为4-7分钟，接口用烤箱烘干，且烤箱的烘干温度为100-120摄氏度。
优选的，步骤三中真空镀膜机的加热温度为140-160摄氏度，真空镀膜机内的真空度为1.3*10(-2)Pa。
优选的，步骤三中与双头丝杆连接的电机处于水平的状态，液压伸缩杆处于竖直的状态，且液压伸缩杆沿着真空镀膜机的内腔做圆周运动，液压伸缩杆的转速为15rpm。
优选的，步骤四中取出镀膜后的接口前，原材料与基板之间的分隔板处于闭合的状态。
与现有技术对比，本发明具备以下有益效果：
1、该ipad接口氧化钛镀膜工艺，通过自动开合的分隔板的设置，镀膜原材料上方的空间可以处于闭合和打开的状态，原材料上方的空间闭合时，便于接口的取放，接口取放时，外界的温度不会影响原材料的温度，节约了资源，原材料上方的空间打开时，蒸发的原材料可以附着在接口的表面，便于给接口镀膜。
2、该ipad接口氧化钛镀膜工艺，通过两个基板、双头丝杆、电机和液压伸缩杆的设置，接口与基板的接触面可以发生改变，接口的表面可以完整的镀膜，提高接口镀膜的质量及效率。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：对需要镀膜的接口进行分类，把不同种类的接口分开，相同种类的接口放在一起，相同种类的接口的镀膜时间及预处理时间相同，便于给接口镀膜；
步骤二：对分类后的接口进行预处理，对接口进行预处理的步骤为：首先用清水把接口表面的浮灰清洗干净，把接口放在除油剂中除油浸泡，接口在除油剂中浸泡的时间为3-5分钟，接口浸泡好后取出除油后的接口，并用去离子水把接口表面残留的除油剂清洗干净；把除油后的接口放在除锈剂中进行浸泡除锈，接口在除锈剂中浸泡的时间为4-7分钟，从除锈剂中捞出除锈后的接口并用去离子水把接口表面残留的除锈剂清洗干净；把清洗后的接口用烤箱烘干，且烤箱的烘干温度为100-120摄氏度，且接口在除油和除锈过程中，装有除油剂的容器和装有除锈剂的容器中均设有曝气结构，使除油剂或除锈剂可以充分的与接口接触，便于接口的除油及除锈；
步骤三：把含有氧化钛的镀膜原材料放在真空镀膜机内合适的位置处，把预处理后的接口放在真空镀膜机内的基板上，且原材料与基板之间设有水平开合的分隔板，分隔板的开合由电磁控制，给分隔板通正向电流时，两个分隔板均具备磁性，且两个分隔板相吸，两个分隔板可以闭合，把镀膜原材料上方的空气密封，防止外界的冷空气降低镀膜原材料的温度，给分隔板通反向电流时，两个分隔板相互排斥，分隔板可以打开，便于给接口镀膜，把真空镀膜机内的基板有两个，两个基板的一侧分别与双头丝杆的一端螺纹连接，双头丝杆的转动可以使两个基板接触或分离，便于接口的转动，双头丝杆的中部与电机的输出轴末端连接，电机处于水平的状态，电机的转动可以带动双头丝杆转动，两个基板的位置可以发生调换，接口与基板的接触面发生改变，便于镀膜，电机另一端的底部与液压伸缩杆连接，液压伸缩杆处于竖直的状态，且液压伸缩杆沿着真空镀膜机的内腔做圆周运动，液压伸缩杆的转速为15rpm，液压伸缩杆的伸缩可以改变与之连接的基板的高度，便于接口的取出，接口在真空镀膜机内镀膜，真空镀膜机的加热温度为140-160摄氏度，真空镀膜机内的真空度为1.3*10(-2)Pa；
步骤四：取出镀膜后的接口，且取出镀膜后的接口前，原材料与基板之间的分隔板处于闭合的状态。
实施例：对需要镀膜的接口进行分类，把相同种类的接口放在一起，对分类后的接口进行清理，清洗后的接口放在除油剂中浸泡3分钟后捞出用去离子水清洗，清洗后的接口放在除锈剂中浸泡5分钟后捞出，再次用去离子水清洗，清洗后的接口用烤箱烘干，且烤箱内的温度为110摄氏度，且接口在除油剂和除锈剂中浸泡时，曝气结构工作，除油剂和除锈剂中有密集的气泡，把预处理后的接口放在真空镀膜机内进行镀膜，真空镀膜机的加热温度为140度，真空度为2.6Pa，Ar流量为40，接口在镀膜过程中液压伸缩杆的转速为15rpm，双头丝杆和电机均间歇性工作，双头丝杆的转动使接口被两个基板固定，电机的转动使两个基板的位置调换，基板位置调换后，双头丝杆反向转动，双头丝杆的反向转动使基板与接口分开，接口的被遮挡部位露出，便于接口的镀膜，接口镀膜后，给两个分隔板通入正向电流，两个分隔板闭合，便于取出镀膜后的接口。
本申请涉及到的电器元件均在市场上可以买到，均是现有技术，尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：对需要镀膜的接口进行分类，把不同种类的接口分开；
步骤二：对分类后的接口进行预处理；
步骤三：把含有氧化钛的镀膜原材料放在真空镀膜机内合适的位置处，把预处理后的接口放在真空镀膜机内的基板上，且原材料与基板之间设有水平开合的分隔板，真空镀膜机内的基板有两个，两个基板的一侧分别与双头丝杆的一端螺纹连接，双头丝杆的中部与电机的输出轴末端连接，电机另一端的底部与液压伸缩杆连接，接口在真空镀膜机内镀膜；
步骤四：取出镀膜后的接口。
2.根据权利要求1所述的一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于：步骤二中对接口进行预处理的步骤为：把接口放在除油剂中除油，取出除油后的接口，并用去离子水清洗干净；把除油后的接口放在除锈剂中进行除锈，除锈后的接口用去离子水清洗干净；把清洗后的接口烘干。
3.根据权利要求2所述的一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于：接口在除油剂中浸泡的时间为3-5分钟，接口在除锈剂中浸泡的时间为4-7分钟，接口用烤箱烘干，且烤箱的烘干温度为100-120摄氏度。
4.根据权利要求1所述的一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于：步骤三中真空镀膜机的加热温度为140-160摄氏度，真空镀膜机内的真空度为1.3*10(-2)Pa。
5.根据权利要求1所述的一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于：步骤三中与双头丝杆连接的电机处于水平的状态，液压伸缩杆处于竖直的状态，且液压伸缩杆沿着真空镀膜机的内腔做圆周运动，液压伸缩杆的转速为15rpm。
6.根据权利要求1所述的一种ipad接口氧化钛镀膜工艺，其特征在于：步骤四中取出镀膜后的接口前，原材料与基板之间的分隔板处于闭合的状态。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206173435U (zh) * 2016-10-10 2017-05-17 江阴市光科真空机械有限公司 镀膜组分纯净的光学用真空腔体
CN207877851U (zh) * 2018-01-30 2018-09-18 昆山英利悦电子有限公司 一种用于手机指纹接口的pvd治具
CN211256066U (zh) * 2019-12-18 2020-08-14 深圳市正和忠信股份有限公司 一种手机充电接头插槽内壁镀膜装置
CN213061013U (zh) * 2020-09-17 2021-04-27 深圳市荣凯光电科技有限公司 一种用于真空镀膜的工作转台
CN214458276U (zh) * 2021-01-28 2021-10-22 沈阳诺思真空技术有限公司 一种低温真空镀膜装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206173435U (zh) * 2016-10-10 2017-05-17 江阴市光科真空机械有限公司 镀膜组分纯净的光学用真空腔体
CN207877851U (zh) * 2018-01-30 2018-09-18 昆山英利悦电子有限公司 一种用于手机指纹接口的pvd治具
CN211256066U (zh) * 2019-12-18 2020-08-14 深圳市正和忠信股份有限公司 一种手机充电接头插槽内壁镀膜装置
CN213061013U (zh) * 2020-09-17 2021-04-27 深圳市荣凯光电科技有限公司 一种用于真空镀膜的工作转台
CN214458276U (zh) * 2021-01-28 2021-10-22 沈阳诺思真空技术有限公司 一种低温真空镀膜装置

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