CN114370547B - 一种提升排气系统效率的排气管 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种提升排气系统效率的排气管，涉及到排气管领域，包括排气主管，排气主管的端部连通有呈分叉形式的第一排气副管和第二排气副管，第二排气副管的内壁上设置有将排气主管出气口位置的气体引流排出至第二出气口的低压吸引区，当排气主管中排放的气体输送到第一排气副管和第二排气副管中时，一部分气体实现进入第一排气副管中排放，另一部分气体进入第二排气副管中排放，在第二排气副管下端内壁设置有低压吸引区，可吸引排气主管出气口位置的气体进入第二排气副管中，从而避免气体大量进入第一排气副管中的现象，且低压吸引区具有减少气体被输送时衰弱程度的作用。

Description

一种提升排气系统效率的排气管

技术领域

本发明涉及排气管领域，特别涉及一种提升排气系统效率的排气管。

背景技术

排气管主要用于排放气体。现有技术中的排气管转弯位置都是采用弯管的布置形式，由于弯管的结构在某些区域产生扩压的结构从而产生流动分离，流动分离后会增加流动损失，降低流速，从而影响排气的效率，尤其是一条主排气管端部存在两条分叉管道时，由于高压区气体流向低压区的自然排气原理，这里的主排气口进气端即为高压区、出气口端部即为低压区，出气口距离主排气管较近的位置处排放的气体多，出气口距离主排气管较远的位置处排放的气体少，导致了排气不均匀。

因此，发明一种提升排气系统效率的排气管来解决上述问题很有必要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种提升排气系统效率的排气管，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种提升排气系统效率的排气管，包括排气主管，所述排气主管的端部连通有呈分叉形式的第一排气副管和第二排气副管，所述第一排气副管和第二排气副管连通的位置形成对应在排气主管上出气口端部的第一转弯区拐角，所述第一排气副管远离排气主管的一端为第一出气口，所述第二排气副管远离排气主管的一端为第二出气口，所述第二排气副管的内壁上设置有将排气主管出气口位置的气体引流排出至第二出气口的低压吸引区，低压吸引区设置于第二排气副管的下端内壁上，低压吸引区包括设置于第二排气副管下端内壁的凹坑，所述第二排气副管的下端外壁设置有供低压吸引区维持低压状态的低压维持组件，所述低压维持组件固定在第二排气副管下端外壁。

优选的，所述凹坑呈弧形槽体结构，凹坑在第二排气副管的下端内壁呈等距离设置有多组，凹坑上端远离排气主管的一侧固定设置有阻挡在凹坑上方的挡板，所述挡板靠近排气主管的一端与凹坑的内壁之间形成供第二排气副管中的气体进入凹坑中的凹坑开口，相邻的凹坑之间通过连通通道连通，所述连通通道设置于第二排气副管的内部层结构中。

需要说明的是，当排气主管中排放的气体输送到第一排气副管和第二排气副管中时，一部分气体实现进入第一排气副管中排放，另一部分气体进入第二排气副管中排放，在第二排气副管下端内壁设置有低压吸引区，可吸引排气主管出气口位置的气体进入第二排气副管中，从而避免气体大量进入第一排气副管中的现象，且低压吸引区具有减少气体被输送时衰弱程度的作用。

优选的，所述连通通道的底部与凹坑的底部平齐，所述连通通道的上端与挡板的底部平齐。

进一步的，凹坑中为低压区，当排气主管出气口输送的高压气体进入第二排气副管中时，会沿着第二排气副管下端内壁的凹坑位置从第二排气副管下端输送至第二排气副管的第二出气口，减少气体被第二排气副管上方内壁阻挡而衰弱的现象，使得气体可偏向第二排气副管的下端内部被输送至第二出气口，使得气体经过气压的作用而自动转弯，避免了转弯时气体的衰弱，增加排气效率。

优选的，所述第二排气副管内壁靠近排气主管一侧的凹坑设置于靠近第一转弯区拐角的位置，此处的凹坑上的凹坑开口朝向排气主管上的出气口。

具体的，当气体经过排气主管的出气口排出时，一部分气体进入第一排气副管中排出，另一部分气体进入第二排气副管中，而即将进入第一排气副管中的气体一部分会被输送到第一转弯区拐角位置，由于凹坑开口靠近第一转弯区拐角的位置且朝向排气主管上的出气口，此时，这部分气体会被输送到凹坑开口中，避免了气体大量进入第一排气副管中的现象，实现了均分进入第一排气副管和第二排气副管中气体的目的，避免了气体集中从第一排气副管位置排放导致第二排气副管作用降低的现象；

此装置可应用在需要均匀分流气体的气体输送领域，也可应用在气体净化领域，使得排气主管中的气体被均匀分流后均匀处理，便于维护。

优选的，所述第二排气副管内壁远离排气主管一侧的凹坑设置于靠近第二排气副管端部设置的第二转弯区拐角处，此处的凹坑下端的连通通道贯穿第二转弯区拐角的内壁，且此处的连通通道端部朝向与第二排气副管下方形成的直线排放通道朝向一致。

工作时，进入凹坑中的气体由于挡板的阻挡作用会从连通通道位置流向下一组凹坑中，而不会从凹坑开口的位置再次输送冲击在第二排气副管中，避免了气体方向不同时混流减弱其流动速度的现象，由于远离排气主管位置的连通通道朝向与第二排气副管下方形成的直线排放通道朝向一致，使得凹坑中的气体最终会以通向汇聚进入第二排气副管下端的直线排放通道中，避免了气体经过第一转弯区拐角和第二转弯区拐角位置被衰弱的现象。

优选的，所述低压维持组件设置有多组且呈等距离固定在第二排气副管下端外壁，所述低压维持组件对应在相应的凹坑下方。

在实际使用时，由于凹坑开口的进口较小，进入凹坑中的气体较少，因此，凹坑中的压力低于第二排气副管内部的压力，由于高压气体流向低压气体的压差作用，使得第二排气副管中的气体朝向凹坑位置靠近，使得气体经过第一转弯区拐角和第二转弯区拐角位置时不会大量冲击在第二排气副管的上方内壁上，保留了大部分气体流动时的速度，进而提高了排气主管整体的排气效果；

而低压维持组件可使用制冷器等装置，低压维持组件启动时，可将冷气通过第二排气副管的内壁传递至凹坑内部的气体中，使得凹坑中的气体温度降低，由于热胀冷缩的原理，当凹坑中气体温度降低时，凹坑中形成低压区，从而使得低压维持组件可维持凹坑中的低压状态，使得第二排气副管中流动的气体始终朝向凹坑位置靠近，少量气体从凹坑开口进入凹坑中输送，大量气体还是在第二排气副管中输送，但其受第二排气副管上方内壁的阻挡力小，降低了气体速度的衰败速度；

由于此装置可降低气体经过管道转弯位置时的衰败速度，此装置可适用于长距离的气体输送领域，应用领域范围广。

优选的，所述第一出气口距离排气主管上出气口的距离短于第二出气口距离排气主管上出气口的距离。

进一步的，第一出气口距离排气主管的出气口距离短，也就是说，排气主管出气口位置的气体会优先朝向第一出气口流动，导致了大部分气体从第一出气口输送出的现象，导致了气体输送时分流不均匀，而装置通过在第二排气副管下端内壁设置有低压吸引区的方式吸引排气主管上出气口的气体进入第二排气副管中，可解决气体输送时分流不均匀的现象。

优选的，所述凹坑的长度为E，相邻两组凹坑之间的距离为L，所述凹坑的深度为H，所述凹坑沿着第二排气副管下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且凹坑的中间位置位于第二排气副管下端内壁中间位置。

工作时，此处的E范围为0.001mm至5mm，H范围为：0.0005mm至5mm，L范围为1mm至30mm；

此处，E长度为5mm，H长度为：0.5mm，L长度为1mm，凹坑沿着第二排气副管下端内壁圆周走向呈90度的范围分布，根据需要的低压强度大小从而改变E、H、L以及凹坑沿着第二排气副管下端内壁圆周走向的角度范围，从而起到将进去第一排气副管和第二排气副管中的气体分流均匀的目的。

优选的，所述连通通道沿着第二排气副管下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且连通通道的中间位置位于第二排气副管下端内壁中间位置。

装置中，连通通道沿着第二排气副管下端内壁圆周走向的角度范围可与凹坑沿着第二排气副管下端内壁圆周走向的角度范围一致，以使得进入凹坑中的气体经过同等截面的连通通道输送到下一组凹坑中，减少气体输送到相邻位置的凹坑中的损耗。

优选的，所述凹坑的开口角度为O。

其中，O的角度范围为10度至160度；

此处O的角度范围为160度，便于在第二排气副管中输送的气体大量的靠近凹坑位置被输送至第二出口的位置；

根据实际使用时第二排气副管的通气面积大小，可控制低压维持组件制冷的功率，从而使得凹坑中保持低压区，控制低压维持组件功率后也使得冷气不易作用至第二排气副管上端内部导致低压吸引区失去吸引作用的现象。

本发明的技术效果和优点：

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，当排气主管中排放的气体输送到第一排气副管和第二排气副管中时，一部分气体实现进入第一排气副管中排放，另一部分气体进入第二排气副管中排放，在第二排气副管下端内壁设置有低压吸引区，可吸引排气主管出气口位置的气体进入第二排气副管中，从而避免气体大量进入第一排气副管中的现象，且低压吸引区具有减少气体被输送时衰弱程度的作用；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，凹坑中为低压区，当排气主管出气口输送的高压气体进入第二排气副管中时，会沿着第二排气副管下端内壁的凹坑位置从第二排气副管下端输送至第二排气副管的第二出气口，减少气体被第二排气副管上方内壁阻挡而衰弱的现象，使得气体可偏向第二排气副管的下端内部被输送至第二出气口，使得气体经过气压的作用而自动转弯，避免了转弯时气体的衰弱，增加排气效率；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，当气体经过排气主管的出气口排出时，一部分气体进入第一排气副管中排出，另一部分气体进入第二排气副管中，而即将进入第一排气副管中的气体一部分会被输送到第一转弯区拐角位置，由于凹坑开口靠近第一转弯区拐角的位置且朝向排气主管上的出气口，此时，这部分气体会被输送到凹坑开口中，避免了气体大量进入第一排气副管中的现象，实现了均分进入第一排气副管和第二排气副管中气体的目的，避免了气体集中从第一排气副管位置排放导致第二排气副管作用降低的现象；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，此装置可应用在需要均匀分流气体的气体输送领域，也可应用在气体净化领域，使得排气主管中的气体被均匀分流后均匀处理，便于维护；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，进入凹坑中的气体由于挡板的阻挡作用会从连通通道位置流向下一组凹坑中，而不会从凹坑开口的位置再次输送冲击在第二排气副管中，避免了气体方向不同时混流减弱其流动速度的现象，由于远离排气主管位置的连通通道朝向与第二排气副管下方形成的直线排放通道朝向一致，使得凹坑中的气体最终会以通向汇聚进入第二排气副管下端的直线排放通道中，避免了气体经过第一转弯区拐角和第二转弯区拐角位置被衰弱的现象；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，由于凹坑开口的进口较小，进入凹坑中的气体较少，因此，凹坑中的压力低于第二排气副管内部的压力，由于高压气体流向低压气体的压差作用，使得第二排气副管中的气体朝向凹坑位置靠近，使得气体经过第一转弯区拐角和第二转弯区拐角位置时不会大量冲击在第二排气副管的上方内壁上，保留了大部分气体流动时的速度，进而提高了排气主管整体的排气效果；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，低压维持组件启动时，可将冷气通过第二排气副管的内壁传递至凹坑内部的气体中，使得凹坑中的气体温度降低，由于热胀冷缩的原理，当凹坑中气体温度降低时，凹坑中形成低压区，从而使得低压维持组件可维持凹坑中的低压状态，使得第二排气副管中流动的气体始终朝向凹坑位置靠近，少量气体从凹坑开口进入凹坑中输送，大量气体还是在第二排气副管中输送，但其受第二排气副管上方内壁的阻挡力小，降低了气体速度的衰败速度；

本发明的一种提升排气系统效率的排气管，由于此装置可降低气体经过管道转弯位置时的衰败速度，此装置可适用于长距离的气体输送领域，应用领域范围广。

附图说明

图1为本发明结构示意图。

图2为本发明图1中A处结构放大示意图。

图3为本发明图1中B处结构放大示意图。

图4为本发明凹坑长度E示意图。

图5为本发明凹坑开口角度O示意图。

图中：排气主管1、第一排气副管2、第二排气副管3、低压吸引区4、凹坑401、连通通道402、挡板403、凹坑开口404、低压维持组件5、第一转弯区拐角6、第二转弯区拐角7。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了如图1-5所示的一种提升排气系统效率的排气管，包括排气主管1，排气主管1的端部连通有呈分叉形式的第一排气副管2和第二排气副管3，第一排气副管2和第二排气副管3连通的位置形成对应在排气主管1上出气口端部的第一转弯区拐角6，第一排气副管2远离排气主管1的一端为第一出气口，第二排气副管3远离排气主管1的一端为第二出气口，第二排气副管3的内壁上设置有将排气主管1出气口位置的气体引流排出至第二出气口的低压吸引区4，低压吸引区4设置于第二排气副管3的下端内壁上，低压吸引区4包括设置于第二排气副管3下端内壁的凹坑401，第二排气副管3的下端外壁设置有供低压吸引区4维持低压状态的低压维持组件5，低压维持组件5固定在第二排气副管3下端外壁。

参考图1和图2中所示，凹坑401呈弧形槽体结构，凹坑401在第二排气副管3的下端内壁呈等距离设置有多组，凹坑401上端远离排气主管1的一侧固定设置有阻挡在凹坑401上方的挡板403，挡板403靠近排气主管1的一端与凹坑401的内壁之间形成供第二排气副管3中的气体进入凹坑401中的凹坑开口404，相邻的凹坑401之间通过连通通道402连通，连通通道402设置于第二排气副管3的内部层结构中。

需要说明的是，当排气主管1中排放的气体输送到第一排气副管2和第二排气副管3中时，一部分气体实现进入第一排气副管2中排放，另一部分气体进入第二排气副管3中排放，在第二排气副管3下端内壁设置有低压吸引区4，可吸引排气主管1出气口位置的气体进入第二排气副管3中，从而避免气体大量进入第一排气副管2中的现象，且低压吸引区4具有减少气体被输送时衰弱程度的作用。

参考图2中所示，连通通道402的底部与凹坑401的底部平齐，连通通道402的上端与挡板403的底部平齐。

进一步的，凹坑401中为低压区，当排气主管1出气口输送的高压气体进入第二排气副管3中时，会沿着第二排气副管3下端内壁的凹坑401位置从第二排气副管3下端输送至第二排气副管3的第二出气口，减少气体被第二排气副管3上方内壁阻挡而衰弱的现象，使得气体可偏向第二排气副管3的下端内部被输送至第二出气口，使得气体经过气压的作用而自动转弯，避免了转弯时气体的衰弱，增加排气效率。

参考图2中所示，第二排气副管3内壁靠近排气主管1一侧的凹坑401设置于靠近第一转弯区拐角6的位置，此处的凹坑401上的凹坑开口404朝向排气主管1上的出气口。

具体的，当气体经过排气主管1的出气口排出时，一部分气体进入第一排气副管2中排出，另一部分气体进入第二排气副管3中，而即将进入第一排气副管2中的气体一部分会被输送到第一转弯区拐角6位置，由于凹坑开口404靠近第一转弯区拐角6的位置且朝向排气主管1上的出气口，此时，这部分气体会被输送到凹坑开口404中，避免了气体大量进入第一排气副管2中的现象，实现了均分进入第一排气副管2和第二排气副管3中气体的目的，避免了气体集中从第一排气副管2位置排放导致第二排气副管3作用降低的现象；

此装置可应用在需要均匀分流气体的气体输送领域，也可应用在气体净化领域，使得排气主管1中的气体被均匀分流后均匀处理，便于维护。

如图3中所示，第二排气副管3内壁远离排气主管1一侧的凹坑401设置于靠近第二排气副管3端部设置的第二转弯区拐角7处，此处的凹坑401下端的连通通道402贯穿第二转弯区拐角7的内壁，且此处的连通通道402端部朝向与第二排气副管3下方形成的直线排放通道朝向一致。

工作时，进入凹坑401中的气体由于挡板403的阻挡作用会从连通通道402位置流向下一组凹坑401中，而不会从凹坑开口404的位置再次输送冲击在第二排气副管3中，避免了气体方向不同时混流减弱其流动速度的现象，由于远离排气主管1位置的连通通道402朝向与第二排气副管3下方形成的直线排放通道朝向一致，使得凹坑401中的气体最终会以通向汇聚进入第二排气副管3下端的直线排放通道中，避免了气体经过第一转弯区拐角6和第二转弯区拐角7位置被衰弱的现象。

参考图1和图3中所示，低压维持组件5设置有多组且呈等距离固定在第二排气副管3下端外壁，低压维持组件5对应在相应的凹坑401下方。

在实际使用时，由于凹坑开口404的进口较小，进入凹坑401中的气体较少，因此，凹坑401中的压力低于第二排气副管3内部的压力，由于高压气体流向低压气体的压差作用，使得第二排气副管3中的气体朝向凹坑401位置靠近，使得气体经过第一转弯区拐角6和第二转弯区拐角7位置时不会大量冲击在第二排气副管3的上方内壁上，保留了大部分气体流动时的速度，进而提高了排气主管1整体的排气效果；

而低压维持组件5可使用制冷器等装置，低压维持组件5启动时，可将冷气通过第二排气副管3的内壁传递至凹坑401内部的气体中，使得凹坑401中的气体温度降低，由于热胀冷缩的原理，当凹坑401中气体温度降低时，凹坑401中形成低压区，从而使得低压维持组件5可维持凹坑401中的低压状态，使得第二排气副管3中流动的气体始终朝向凹坑401位置靠近，少量气体从凹坑开口404进入凹坑401中输送，大量气体还是在第二排气副管3中输送，但其受第二排气副管3上方内壁的阻挡力小，降低了气体速度的衰败速度；

由于此装置可降低气体经过管道转弯位置时的衰败速度，此装置可适用于长距离的气体输送领域，应用领域范围广。

第一出气口距离排气主管1上出气口的距离短于第二出气口距离排气主管1上出气口的距离。

进一步的，第一出气口距离排气主管1的出气口距离短，也就是说，排气主管1出气口位置的气体会优先朝向第一出气口流动，导致了大部分气体从第一出气口输送出的现象，导致了气体输送时分流不均匀，而装置通过在第二排气副管3下端内壁设置有低压吸引区4的方式吸引排气主管1上出气口的气体进入第二排气副管3中，可解决气体输送时分流不均匀的现象。

参考图4中所示，凹坑401的长度为E，相邻两组凹坑401之间的距离为L，凹坑401的深度为H，凹坑401沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且凹坑401的中间位置位于第二排气副管3下端内壁中间位置。

工作时，此处的E范围为0.001mm至5mm，H范围为：0.0005mm至5mm，L范围为1mm至30mm；

此处，E长度为5mm，H长度为：0.5mm，L长度为1mm，凹坑401沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向呈90度的范围分布，根据需要的低压强度大小从而改变E、H、L以及凹坑401沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向的角度范围，从而起到将进去第一排气副管2和第二排气副管3中的气体分流均匀的目的。

连通通道402沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且连通通道402的中间位置位于第二排气副管3下端内壁中间位置。

装置中，连通通道402沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向的角度范围可与凹坑401沿着第二排气副管3下端内壁圆周走向的角度范围一致，以使得进入凹坑401中的气体经过同等截面的连通通道402输送到下一组凹坑401中，减少气体输送到相邻位置的凹坑401中的损耗。

参考图5中所示，凹坑401的开口角度为O。

其中，O的角度范围为10度至160度；

此处O的角度范围为160度，便于在第二排气副管3中输送的气体大量的靠近凹坑401位置被输送至第二出口的位置；

根据实际使用时第二排气副管3的通气面积大小，可控制低压维持组件5制冷的功率，从而使得凹坑401中保持低压区，控制低压维持组件5功率后也使得冷气不易作用至第二排气副管3上端内部导致低压吸引区4失去吸引作用的现象。

Claims (9)

1.一种提升排气系统效率的排气管，包括排气主管，所述排气主管的端部连通有呈分叉形式的第一排气副管和第二排气副管，所述第一排气副管和第二排气副管连通的位置形成对应在排气主管上出气口端部的第一转弯区拐角，其特征在于：

所述第一排气副管远离排气主管的一端为第一出气口，所述第二排气副管远离排气主管的一端为第二出气口，所述第二排气副管的内壁上设置有将排气主管出气口位置的气体引流排出至第二出气口的低压吸引区；

低压吸引区设置于第二排气副管的下端内壁上，低压吸引区包括设置于第二排气副管下端内壁的凹坑，所述第二排气副管的下端外壁设置有供低压吸引区维持低压状态的低压维持组件，所述低压维持组件固定在第二排气副管下端外壁；

所述凹坑呈弧形槽体结构，凹坑在第二排气副管的下端内壁呈等距离设置有多组，凹坑上端远离排气主管的一侧固定设置有阻挡在凹坑上方的挡板，所述挡板靠近排气主管的一端与凹坑的内壁之间形成供第二排气副管中的气体进入凹坑中的凹坑开口，相邻的凹坑之间通过连通通道连通，所述连通通道设置于第二排气副管的内部层结构中。

2.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述连通通道的底部与凹坑的底部平齐，所述连通通道的上端与挡板的底部平齐。

3.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述第二排气副管内壁靠近排气主管一侧的凹坑设置于靠近第一转弯区拐角的位置，此处的凹坑上的凹坑开口朝向排气主管上的出气口。

4.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述第二排气副管内壁远离排气主管一侧的凹坑设置于靠近第二排气副管端部设置的第二转弯区拐角处，此处的凹坑下端的连通通道贯穿第二转弯区拐角的内壁，且此处的连通通道端部朝向与第二排气副管下方形成的直线排放通道朝向一致。

5.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述低压维持组件设置有多组且呈等距离固定在第二排气副管下端外壁，所述低压维持组件对应在相应的凹坑下方。

6.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述第一出气口距离排气主管上出气口的距离短于第二出气口距离排气主管上出气口的距离。

7.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述凹坑的长度为E，E范围为0.001mm至5mm，相邻两组凹坑之间的距离为L，L范围为1mm至30mm，所述凹坑的深度为H，H范围为：0.0005mm至5mm，所述凹坑沿着第二排气副管下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且凹坑的中间位置位于第二排气副管下端内壁中间位置。

8.根据权利要求1所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述连通通道沿着第二排气副管下端内壁圆周走向呈5度到90度的范围分布，且连通通道的中间位置位于第二排气副管下端内壁中间位置。

9.根据权利要求8所述的一种提升排气系统效率的排气管，其特征在于：所述凹坑的开口角度为O，O的角度范围为10度至160度。

Images