CN114335394A - 显示基板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板和显示装置，涉及显示技术领域，用于在实现镜面功能和显示功能的同时，提升像素开口区的透过率和显示亮度。所述显示基板，包括：基底和设置于所述基底上的多个子像素，所述子像素包括像素开口区和非像素开口区；所述显示基板还包括：封装结构和镜面反射层，所述封装结构位于所述多个子像素背向所述基底的一侧；所述封装结构包括沿远离所述基底的方向依次层叠设置的至少两层封装层；所述镜面反射层位于所述非像素开口区；所述至少两层封装层中，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层与所述基底之间，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层背向所述基底的一侧。本发明提供的显示基板用于显示。

Description

显示基板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板和显示装置。

背景技术

目前，市场对于镜面与显示结合的镜面显示产品需求越来越广泛，这种产品不仅应用于家居、商场、广告宣传、美妆美容等应用场景中，还会应用于车载后视镜等应用场景。

传统镜面显示产品大多采用在显示设备上贴附半透半反膜，将像素开口区和非像素开口区全覆盖住来实现镜面功能和显示功能。然而这种结构的镜面显示产品虽然能够实现镜面功能和显示功能，但极大的降低了像素开口区的透过率和显示亮度。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板和显示装置，用于在实现镜面功能和显示功能的同时，提升像素开口区的透过率和显示亮度。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

本发明的第一方面提供一种显示基板，包括：基底和设置于所述基底上的多个子像素，所述子像素包括像素开口区和非像素开口区；所述显示基板还包括：

封装结构，所述封装结构位于所述多个子像素背向所述基底的一侧；所述封装结构包括沿远离所述基底的方向依次层叠设置的至少两层封装层；

镜面反射层，所述镜面反射层位于所述非像素开口区；所述至少两层封装层中，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层与所述基底之间，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层背向所述基底的一侧。

可选的，所述至少两层封装层包括：沿远离所述基底的方向依次层叠设置的第一无机层，有机封装层和第二无机层；所述镜面反射层位于所述有机封装层和所述第二无机层之间。

可选的，所述有机封装层在垂直于所述基底的方向上的厚度d1满足：3μm≤d1≤5μm。

可选的，所述显示基板还包括：

平坦层，所述平坦层的至少部分位于所述镜面反射层和所述第二无机层之间。

可选的，所述平坦层在垂直于所述基底的方向上的厚度d2满足：3μm≤d2≤6μm。

可选的，所述镜面反射层包括网格状结构，所述镜面反射层包围至少部分像素开口区。

可选的，所述显示基板还包括驱动芯片，所述驱动芯片包括地信号输出引脚，所述镜面反射层与所述地信号输出引脚耦接。

可选的，所述镜面反射层包括相互独立的多个镜面反射图形。

可选的，所述显示基板还包括：

阴极层；

触控层，所述触控层位于所述镜面反射层背向所述基底的一侧；

所述镜面反射层的至少部分位于所述阴极层和所述触控层之间。

可选的，所述镜面反射层包括镂空区；所述触控层在所述基底上的正投影，与所述镂空区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

可选的，所述触控层在所述基底上的正投影完全覆盖所述镂空区在所述基底上的正投影。

可选的，所述镜面反射层包括相互独立的第一部分和多个第二部分，所述第一部分包围各所述第二部分，所述第一部分与各所述第二部分之间具有所述镂空区。

可选的，所述镂空区包围至少部分子像素的像素开口区。

可选的，所述显示基板还包括：

缓冲层，所述缓冲层位于所述第二无机层和所述触控层之间。

基于上述显示基板的技术方案，本发明的第二方面提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本发明提供的技术方案中，将所述镜面反射层设置于非像素开口区，避免了所述镜面反射层对所述像素开口区的遮挡，从而使得子像素能够在所述像素开口区实现显示功能，所述镜面反射层能够在所述非像素开口区实现镜面功能。因此，本发明提供的技术方案能够在实现镜面功能和显示功能的同时，有效提升像素开口区的透过率和显示亮度。

而且，本发明实施例提供的技术方案中，将所述镜面反射层设置于所述封装结构内部，所述镜面反射层上覆盖的封装层具有良好的透光性，实现了在保证漫反射率不提高的情况下，有效提升所述镜面反射层的镜面反射率。

另外，在显示基板的开口率一定的情况下，所述镜面反射层距离位于所述像素开口区的发光功能层的距离越近，发光功能层发出的光线的出光角越大。本发明实施例提供的技术方案中，将所述镜面反射层设置于所述封装结构内部，使得所述镜面反射层更靠近位于所述像素开口区的发光功能层，从而使得发光功能层发出的光线的出光角更大，显示基板的可视角更大，显示效果更好，能够实现更好的用户体验。

因此，本发明实施例提供的技术方案中，将所述镜面反射层设置于非像素开口区，并将所述镜面反射层集成于所述封装结构内部，保证了所述镜面反射具有较高的反射率，实现了较高的光线利用率。同时，有效提升了显示基板的可视角，提高了显示基板出光的光学可控性，改善了显示基板的显示效果。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例提供的显示基板的第一截面示意图；

图2为本发明实施例提供的显示基板的第二截面示意图；

图3为本发明实施例提供的镜面反射层的第一俯视示意图；

图4为本发明实施例提供的显示基板的第一俯视示意图；

图5为本发明实施例提供的显示基板的第二俯视示意图；

图6为本发明实施例提供的镜面反射层的第二俯视示意图；

图7为本发明实施例提供的镜面反射层和触控层的俯视示意图；

图8为图7中触控层的俯视示意图；

图9为本发明实施例提供的镜面反射层的第三俯视示意图；

图10为本发明实施例提供的镜面反射层的第四俯视示意图。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的显示基板和显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。

请参阅图1和图2，本发明实施例提供了一种显示基板，包括：基底10和设置于所述基底10上的多个子像素，所述子像素包括像素开口区11和非像素开口区12；所述显示基板还包括：

封装结构，所述封装结构位于所述多个子像素背向所述基底10的一侧；所述封装结构包括沿远离所述基底10的方向依次层叠设置的至少两层封装层；

镜面反射层20，所述镜面反射层20位于所述非像素开口区12；所述至少两层封装层中，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层20与所述基底10之间，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层20背向所述基底10的一侧。

示例性的，所述显示基板包括多个子像素，所述子像素包括子像素驱动电路和发光元件。示例性的，所述多个子像素包括的多个子像素驱动电路呈阵列分布。示例性的，所述多个子像素包括的多个发光元件呈阵列分布。

示例性的，所述子像素驱动电路包括6T1C(6个晶体管1个电容)，7T1C，8T1C，9T1C等结构，但不仅限于此。所述发光元件包括阳极层90和发光功能层(如图1和图2中的红色发光功能层EL-R，绿色发光功能层EL-G和蓝色发光功能层EL-B)，所述发光功能层在所述阳极层90和所述显示基板的阴极层80的共同作用下发光。

如图1和图2所示，示例性的，所述显示基板包括沿远离所述基底10的方向依次设置的缓冲膜层Buf，有源层Poly，第一栅极绝缘层GI1，第一栅金属层Gat1，第二栅极绝缘层GI2，第二栅金属层Gat2，层间绝缘层ILD，第一源漏金属层SD1，第一钝化层PVX1，第一平坦层PLN1，第二源漏金属层SD2，第二钝化层PVX2，第二平坦层PLN2，阳极层90，像素界定层PDL，发光功能层，阴极层80，封装结构。示例性的，所述显示基板也可以不包括所述第一钝化层PVX1和/或所述第二钝化层PVX2。其中，有源层Poly，第一栅极绝缘层GI1，第一栅金属层Gat1，第二栅极绝缘层GI2，第二栅金属层Gat2，层间绝缘层ILD，第一源漏金属层SD1，第一钝化层PVX1，第一平坦层PLN1以及第二源漏金属层SD2，能够共同形成所述子像素驱动电路结构。

示例性的，所述子像素包括像素开口区11和非像素开口区12。所述像素开口区11为所述子像素的有效发光区。所述非像素开口区12包围所述像素开口区11。所述阳极层包括位于所述像素开口区11的部分和位于所述非像素开口区12的部分。所述发光功能层的至少部分位于所述像素开口区11内。

示例性的，所述显示基板包括有机发光二极管显示基板，量子点发光二极管显示基板等。

示例性的，所述封装结构包括薄膜封装结构。所述封装结构位于所述多个子像素背向所述基底10的一侧，所述封装结构完全覆盖所述多个子像素。所述封装结构能够阻挡水汽和氧气入侵至显示基板的内部。

示例性的，所述封装结构包括沿远离所述基底10的方向依次层叠设置的至少两层封装层，每层所述封装层完全覆盖所述多个子像素。

示例性的，所述镜面反射层20采用金属材料制作。所述镜面反射层20采用金属材料图案化实现镜面功能。

示例性的，子像素能够在所述像素开口区11实现显示功能。所述镜面反射层20能够在所述非像素开口区12实现镜面功能。

示例性的，设置至少一层封装层位于所述镜面反射层20与所述基底10之间，至少一层封装层位于所述镜面反射层20背向所述基底10的一侧，使得所述镜面反射层20位于相邻的两层封装层之间。

根据上述显示基板的具体结构可知，本发明实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于非像素开口区12，避免了所述镜面反射层20对所述像素开口区11的遮挡，从而使得子像素能够在所述像素开口区11实现显示功能，所述镜面反射层20能够在所述非像素开口区12实现镜面功能。因此，本发明实施例提供的显示基板能够在实现镜面功能和显示功能的同时，有效提升像素开口区11的透过率和显示亮度。

而且，本发明实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于所述封装结构内部，所述镜面反射层20上覆盖的封装层具有良好的透光性，实现了在保证漫反射率不提高的情况下，有效提升所述镜面反射层20的镜面反射率。

另外，在显示基板的开口率一定的情况下，所述镜面反射层20距离位于所述像素开口区11的发光功能层的距离越近，发光功能层发出的光线的出光角越大。本发明实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于所述封装结构内部，使得所述镜面反射层20更靠近位于所述像素开口区11的发光功能层，从而使得发光功能层发出的光线的出光角(如图1中两条虚线之间形成的角度)更大，显示基板的可视角更大，显示效果更好，能够实现更好的用户体验。

因此，本发明实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于非像素开口区12，并将所述镜面反射层20集成于所述封装结构内部，保证了所述镜面反射具有较高的反射率，实现了较高的光线利用率。同时，有效提升了显示基板的可视角，提高了显示基板出光的光学可控性，改善了显示基板的显示效果。

如图1和图2所示，在一些实施例中，所述至少两层封装层包括：沿远离所述基底10的方向依次层叠设置的第一无机层CVD1，有机封装层IJP和第二无机层70；所述镜面反射层20位于所述有机封装层IJP和所述第二无机层70之间。

示例性的，在所述基底10上制作多个子像素驱动电路和多个发光元件后，制作所述封装结构。

示例性的，所述第一无机层CVD1和所述第二无机层70采用无机材料制作，所述有机封装层IJP采用有机材料制作。

示例性的，所述第二无机层70作为所述封装层的同时，可以复用为缓冲层50。

示例性的，所述第一无机层CVD1和所述第二无机层70可以采用相同的材料制作，具有相同的封装功能。所述第一无机层CVD1和所述第二无机层70可以采用不同的设备制作。

示例性的，所述有机封装层IJP在所述基底10上的正投影，位于所述第一无机层CVD1在所述基底10上的正投影的内部。所述有机封装层IJP在所述基底10上的正投影，被所述第一无机层CVD1在所述基底10上的正投影包围。

示例性的，所述第二无机层70完全覆盖所述有机封装层IJP。

示例性的，所述有机封装层IJP背向所述基底10的表面具有较高的平坦度。

上述实施例提供的显示基板中，通过设置所述镜面反射层20位于所述有机封装层IJP和所述第二无机层70之间，缩小了所述镜面反射层20与位于所述像素开口区11的发光功能层之间的距离，从而使得发光功能层发出的光线的出光角更大，显示基板的可视角更大，显示效果更好，能够实现更好的用户体验。

上述实施例提供的显示基板中，由于所述有机封装层IJP背向所述基底10的表面具有较高的平坦度，将所述镜面反射层20设置于所述有机封装层IJP背向所述基底10的表面，更好的保证了所述镜面反射层20的反射率和镜面显示效果。

在一些实施例中，设置所述有机封装层IJP在垂直于所述基底10的方向上的厚度d1满足：3μm≤d1≤5μm。

示例性的，所述有机封装层IJP在垂直于所述基底10的方向上的最大厚度d1满足：3μm≤d1≤5μm。

值得注意，常规有机封装层IJP在垂直于所述基底10的方向上的厚度一般在8μm至10μm之间，可以包括端点值。

上述实施例提供的显示基板中，设置d1满足：3μm≤d1≤5μm，使得所述有机封装层IJP具有较薄的厚度，进一步缩小了所述镜面反射层20与位于所述像素开口区11的发光功能层之间的距离，从而使得发光功能层发出的光线的出光角更大，显示基板的可视角更大，显示效果更好，能够实现更好的用户体验。

在一些实施例中，设置所述第二无机层70在垂直于所述基底10的方向上的厚度在1μm左右。

上述设置方式使得所述第二无机层70具有较薄的厚度，提升了所述第二无机层70的透光性，实现了在保证漫反射率不提高的情况下，进一步提升了所述镜面反射层20的镜面反射率。

如图1和图2所示，在一些实施例中，所述显示基板还包括：平坦层OC，所述平坦层OC的至少部分位于所述镜面反射层20和所述第二无机层70之间。

示例性的，所述平坦层OC完全覆盖所述镜面反射层20，能够将所述镜面反射层20产生的段差平坦化，使得所述第二无机层70能够形成在平坦的表面上。值得注意，在制作所述第二无机层70时，应尽量避免水洗，避免水汽入侵至显示基板内部，影响显示基板的信赖性。

上述实施例提供的显示基板中，通过在所述镜面反射层20和所述第二无机层70之间设置所述平坦层OC，实现了如下有益效果：

效果一：增加了所述平坦层OC覆盖所述子像素，延长了水汽和氧气从封装结构侧入侵至显示基板内部的路径长度，提升了显示基板的信赖性。

效果二：后续会在所述封装结构背向所述基底10的一侧形成触控层30，通过设置所述平坦层OC能够增加所述触控层30与所述镜面反射层20之间的距离，减小所述触控层30与所述镜面反射层20之间形成的寄生电容。

效果三：平坦层OC能够将所述镜面反射层20产生的段差平坦化，使得所述第二无机层70能够形成在平坦的表面上，使得所述第二无机层70在各个位置厚度均匀，有利于提升所述第二无机层70的封装信赖性。

在一些实施例中，设置所述平坦层OC在垂直于所述基底10的方向上的厚度d2满足：3μm≤d2≤6μm。

示例性的，所述平坦层OC在垂直于所述基底10的方向上的最大厚度d2满足：3μm≤d2≤6μm。

上述设置方式有效延长了水汽和氧气从封装结构侧入侵至显示基板内部的路径长度，提升了显示基板的信赖性。进一步增加了所述触控层30与所述镜面反射层20之间的距离，减小所述触控层30与所述镜面反射层20之间形成的寄生电容。

如图3所示，在一些实施例中，所述镜面反射层20包括网格状结构(如第一部分202)，所述镜面反射层20包围至少部分像素开口区11。

示例性的，所述镜面反射层20的制作方法包括：采用金属材料沉积形成金属材料层，对所述金属材料层进行图形化，形成所述镜面反射层20。

示例性的，所述镜面反射层20包围每个像素开口区11。

示例性的，所述镜面反射层20中的每个网格包围对应的一个像素开口区11。

上述设置所述镜面反射层20包括网格状结构，使得所述镜面反射层20能够更好的避开所述像素开口区11，在保证所述镜面反射层20具有更大反射面积的同时，很好的降低所述镜面反射层20的布局难度。

在一些实施例中，所述显示基板还包括驱动芯片，所述驱动芯片包括地信号输出引脚，所述镜面反射层20与所述地信号输出引脚耦接。

示例性的，所述驱动芯片包括地信号输出引脚能够输出地信号(即GND信号)。

上述将所述镜面反射层20与所述地信号输出引脚耦接，使得所述显示基板在工作时，所述镜面反射层20上能够加载有稳定的GND信号，有利于提升所述显示基板工作稳定性。

如图4和图5所示，示意了显示基板的边界62，第一无机层CVD1的边界，位于显示基板中非显示区域的挡墙63，有机封装层IJP能够被显示基板边缘的挡墙包围。还示意了触控层30整体的边界61，该边界61位于挡墙63和显示区域之间。镜面反射层20的边界与显示区域的边界至少部分重叠。

图5中示意了镜面反射层20通过两条连接线60接入电源信号。

在一些实施例中，所述镜面反射层20处于浮接状态(即Floating状态)。

图4中示意的镜面反射层20处于浮接状态。

如图6所示，在一些实施例中，所述镜面反射层20包括相互独立的多个镜面反射图形，如图6中第一部分202相互独立，第二部分203相互独立。

示例性的，所述多个镜面反射图形分布在各子像素对应的像素开口区11的周边。

如图1和图2所示，在一些实施例中，所述显示基板还包括：

阴极层80；

触控层30，所述触控层30位于所述镜面反射层20背向所述基底10的一侧；

所述镜面反射层20的至少部分位于所述阴极层80和所述触控层30之间。

示例性的，所述显示基板还包括：支撑层PS，所述支撑层PS位于所述多个子像素背向所述基底10的一侧；所述阴极层80位于所述支撑层PS背向所述基底10的一侧。

示例性的，所述显示基板还包括像素界定层，所述像素界定层限定出各子像素包括的像素开口区11。所述支撑层PS包括呈阵列分布的多个隔垫物，所述多个隔垫物呈阵列分布在所述像素界定层上。

示例性的，所述阴极层80包括一整层结构，所述阴极层80完全覆盖所述像素开口区11和所述非像素开口区12。

示例性的，所述触控层30包括触控信号线，所述触控层30能够实现触控功能。

示例性的，所述镜面反射层20的至少部分在所述基底10上的正投影，与所述触控层30在所述基底10上的正投影交叠，所述镜面反射层20的至少部分在所述基底10上的正投影，与所述阴极层80在所述基底10上的正投影交叠。

上述实施例提供的显示基板中，通过设置所述镜面反射层20的至少部分位于所述阴极层80和所述触控层30之间，使得所述镜面反射层20能够屏蔽部分阴极信号对触控层30上的触控信号的影响，提高了触控层30的信噪比(SNR)。

如图1至图3所示，在一些实施例中，所述镜面反射层20包括镂空区201；所述触控层30在所述基底10上的正投影，与所述镂空区201在所述基底10上的正投影至少部分交叠。

示例性的，所述触控层30覆盖所述镂空区201的至少部分。

上述实施例提供的显示基板中，通过设置所述触控层30在所述基底10上的正投影，与所述镂空区201在所述基底10上的正投影至少部分交叠，能够降低所述触控层30在所述基底10上的正投影与所述镜面反射层20在所述基底10上的正投影之间的交叠面积，即减小了所述触控层30与所述镜面反射层20在垂直于所述基底10的方向上的正对面积，因此，上述实施例提供的显示基板有效缩小了所述触控层30与所述镜面反射层20之间的寄生电容，保证了触控良率。

另外，通过减小了所述触控层30与所述镜面反射层20在垂直于所述基底10的方向上的正对面积，还降低了光线在所述触控层30与所述镜面反射层20之间来回反射造成的光能损失，从而更好的提升了所述镜面反射层20的镜面反射率，更好的实现了镜面显示功能。

在一些实施例中，所述触控层30在所述基底10上的正投影完全覆盖所述镂空区201在所述基底10上的正投影。

如图7和图8所示，示例性的，所述触控层30包括呈网格状设置的多条触控信号线。所述触控信号线的线宽大于所述镂空区201的最大宽度。

上述实施例提供的显示基板中，通过设置所述触控层30在所述基底10上的正投影完全覆盖所述镂空区201在所述基底10上的正投影，更好的防止了由于镂空区201漏光造成的干涉，避免了显示装置出现光学不良现象。

如图3所示，在一些实施例中，所述镜面反射层20包括相互独立的第一部分202和多个第二部分203，所述第一部分202包围各所述第二部分203，所述第一部分202与各所述第二部分203之间具有所述镂空区201。

示例性的，所述第一部分202和所述第二部分203同层同材料设置。

示例性的，所述第一部分202形成为网格状结构，各所述第二部分203位于所述第一部分202的网格中，被所述第一部分202包围，所述镂空区201位于所述第一部分202和各所述第二部分203之间。

如图3所示，在一些实施例中，所述镂空区201包围至少部分子像素的像素开口区11。

如图9和图10所示，示例性的，所述显示基板中的子像素的排列方式包括GGRB排列方式，但不仅限于此。

示例性的，各所述第二部分203包围对应的像素开口区11。

示例性的，镂空区201包围对应的像素开口区11。

如图1和图2所示，在一些实施例中，所述显示基板还包括：缓冲层50，所述缓冲层50位于所述第二无机层70和所述触控层30之间。

示例性的，在制作所述封装结构之后，可以在所述封装结构背向所述基底10的一侧制作缓冲层50，然后开始进行触控结构的制作工艺，即TSP工艺，TSP工艺包括制作触控层30的工艺。

示例性的，所述触控层30背向所述基底10的一侧还设置有具有平坦功能的膜层40，该膜层40完全覆盖所述触控层30，对所述触控层30具有保护作用。

上述实施例提供的显示基板中，通过在所述第二无机层70和所述触控层30之间设置所述缓冲层50，使得形成所述触控层30的表面更加平坦，有利于提升所述显示基板触控性能的稳定性和准确性。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述实施例提供的显示基板。

示例性的，所述显示装置包括有机发光二极管(英文：Organic Light-EmittingDiode，简称：OLED)显示装置，但不仅限于此。

示例性的，所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板等。

上述实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于非像素开口区12，避免了所述镜面反射层20对所述像素开口区11的遮挡，从而使得子像素能够在所述像素开口区11实现显示功能，所述镜面反射层20能够在所述非像素开口区12实现镜面功能。因此，上述实施例提供的显示基板能够在实现镜面功能和显示功能的同时，有效提升像素开口区11的透过率和显示亮度。

而且，上述实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于所述封装结构内部，所述镜面反射层20上覆盖的封装层具有良好的透光性，实现了在保证漫反射率不提高的情况下，有效提升所述镜面反射层20的镜面反射率。

另外，在显示基板的开口率一定的情况下，所述镜面反射层20距离位于所述像素开口区11的发光功能层的距离越近，发光功能层发出的光线的出光角越大。上述实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于所述封装结构内部，使得所述镜面反射层20更靠近位于所述像素开口区11的发光功能层，从而使得发光功能层发出的光线的出光角更大，显示基板的可视角更大，显示效果更好，能够实现更好的用户体验。

因此，上述实施例提供的显示基板中，将所述镜面反射层20设置于非像素开口区12，并将所述镜面反射层20集成于所述封装结构内部，保证了所述镜面反射具有较高的反射率，实现了较高的光线利用率。同时，有效提升了显示基板的可视角，提高了显示基板出光的光学可控性，改善了显示基板的显示效果。

本发明实施例提供的显示装置在包括上述显示基板时，同样具有上述有益效果，此处不再赘述。

需要说明的是，本发明实施例的“同层”可以指的是处于相同结构层上的膜层。或者例如，处于同层的膜层可以是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺对该膜层图案化所形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的。这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。

在本发明各方法实施例中，所述各步骤的序号并不能用于限定各步骤的先后顺序，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，对各步骤的先后变化也在本发明的保护范围之内。

需要说明，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”、“耦接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底和设置于所述基底上的多个子像素，所述子像素包括像素开口区和非像素开口区；所述显示基板还包括：

封装结构，所述封装结构位于所述多个子像素背向所述基底的一侧；所述封装结构包括沿远离所述基底的方向依次层叠设置的至少两层封装层；

镜面反射层，所述镜面反射层位于所述非像素开口区；所述至少两层封装层中，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层与所述基底之间，存在至少一层封装层位于所述镜面反射层背向所述基底的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述至少两层封装层包括：沿远离所述基底的方向依次层叠设置的第一无机层，有机封装层和第二无机层；所述镜面反射层位于所述有机封装层和所述第二无机层之间。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述有机封装层在垂直于所述基底的方向上的厚度d1满足：3μm≤d1≤5μm。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

平坦层，所述平坦层的至少部分位于所述镜面反射层和所述第二无机层之间。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层在垂直于所述基底的方向上的厚度d2满足：3μm≤d2≤6μm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述镜面反射层包括网格状结构，所述镜面反射层包围至少部分像素开口区。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括驱动芯片，所述驱动芯片包括地信号输出引脚，所述镜面反射层与所述地信号输出引脚耦接。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述镜面反射层包括相互独立的多个镜面反射图形。

9.根据权利要2至5中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

阴极层；

触控层，所述触控层位于所述镜面反射层背向所述基底的一侧；

所述镜面反射层的至少部分位于所述阴极层和所述触控层之间。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述镜面反射层包括镂空区；所述触控层在所述基底上的正投影，与所述镂空区在所述基底上的正投影至少部分交叠。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述触控层在所述基底上的正投影完全覆盖所述镂空区在所述基底上的正投影。

12.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述镜面反射层包括相互独立的第一部分和多个第二部分，所述第一部分包围各所述第二部分，所述第一部分与各所述第二部分之间具有所述镂空区。

13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述镂空区包围至少部分子像素的像素开口区。

14.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

缓冲层，所述缓冲层位于所述第二无机层和所述触控层之间。

15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～14中任一项所述的显示基板。

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