CN114242911A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例涉及显示技术领域，公开了一种显示面板及其制备方法。本发明中，显示面板包括：基板，以及位于基板上的发光像素，每个发光像素包括若干种不同发光颜色的发光子像素，至少部分发光子像素包括：第一电极，位于基板上；以及有机发光层，位于第一电极远离基板一侧，有机发光层包括发光区，第一电极在基板上的正投影落在发光区在基板上的正投影内。本发明提供的显示面板及其制备方法，能够提高显示面板的透光率，进而提高位于显示面板下方的光学模组的成像质量。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
随着人们对于手机等电子消费品的屏占比的要求越来越高，水滴屏、刘海屏等技术应运而生，屏占比得到了极大的提高，直到“屏下摄像头”(Under Display Camera，简称UDC)以实现全屏显示的技术出现，屏占比终于实现了最大化。如图1所示，全面屏通常包括主屏20、过渡区30和透明显示区40，透明显示区可以同时用于显示和采集图像，将感光器件设置在该透明显示区下方。
因此，透明显示区的透光率是非常重要的指标，其直接影响到透明显示区下方感光器件的成像质量。
发明内容
本发明实施方式的目的在于提供一种显示面板及其制备方法，能够提高显示面板的透光率，进而提高位于显示面板下方的光学模组的成像质量。
为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供了一种显示面板，包括：基板，以及位于所述基板上的发光像素，每个所述发光像素包括若干种不同发光颜色的发光子像素，至少部分所述发光子像素包括：第一电极，位于所述基板上；以及有机发光层，位于所述第一电极远离所述基板一侧，所述有机发光层包括发光区，所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内。
本发明的实施方式还提供了一种显示面板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成第一电极；在所述第一电极远离所述基板一侧形成有机发光层，所述有机发光层包括发光区，得到中间结构；所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内。
本发明实施方式相对于现有技术而言，由于所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内，即，无第一电极包像素定义层边的余量设计，从而在保证发光区面积不变的前提下，减少了第一电极的面积，通过最大程度利用第一电极的面积，提高了显示面板的透光率，进而提高了位于显示面板下方的光学模组的成像质量。
另外所述有机发光层还包括与所述发光区相连的失效区，所述发光区包括在电场作用下发射光线的发光材料，所述失效区包括经光照变性后失效的发光材料，所述第一电极在所述基板上的正投影与所述发光区在所述基板上的正投影重合。如此设置，能够通过以反射电极为遮挡层的逆向清除工艺，使得有机发光层未被反射电极遮挡的区域的发光材料经光照变性后失效而不能发光，进而避免不同发光颜色的发光子像素所发出的光线互相影响，提高了显示面板的显示效果。
另外，所述第一电极包括反射电极，至少部分所述发光子像素还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述反射电极和所述有机发光层之间，且包覆所述反射电极的侧面。如此设置，透明导电层能够从正面和侧面隔离开所述有机发光层和所述反射电极，避免有机发光层中的发光材料与反射电极接触后被污染，提高了可靠性。
另外，在平行于所述基板的方向上，所述透明导电层的边缘超出所述反射电极的边缘超过1微米。如此设置，能够避免因工艺波动导致透明导电层不能完全包覆住反射电极的侧面的问题。
另外，所述第一电极还包括：至少一层第一透明电极层，所述第一透明电极层位于所述反射电极远离所述有机发光层的一侧；所述第一透明电极层在所述基板上的正投影与所述反射电极在所述基板上的正投影重合。
另外，所述第一电极还包括：至少一层第二透明电极层，所述第二透明电极层位于所述反射电极靠近所述基板的一侧；所述第二透明电极层在所述基板上的正投影与所述反射电极在所述基板上的正投影重合；所述透明导电层包覆所述第二透明电极层的侧面。
另外，在平行于所述基板的方向上，所述显示面板还包括位于所述发光像素远离所述基板一侧的透明平坦层，相邻所述有机发光层的间隔处由所述透明平坦层填充。相比于相邻所述发光子像素的有机发光层之间设置像素定义层的方案，通过在相邻所述发光子像素的有机发光层的间隔处由透明平坦层填充，进一步提高了显示面板的透光率。
另外，所述第一电极为阳极，相邻所述发光子像素的阳极间隔设置。
另外，在形成所述有机发光层之后，还包括：利用光源从所述基板一侧朝向有机发光层一侧照射所述中间结构，使得所述有机发光层形成发光区和失效区，其中，所述发光区包括在电场作用下发射光线的发光材料，所述失效区包括经光照变性后失效的发光材料；可选的，利用光源从所述基板一侧朝向有机发光层一侧照射所述中间结构，包括：利用激光或者波长小于或等于250纳米的紫外线从所述基板一侧朝向所述有机发光层一侧照射所述中间结构。
附图说明
一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
图1是现有技术中显示面板的俯视图；
图2是现有技术中显示面板的截面图；
图3是本发明第一实施方式提供的显示面板中反射电极、透明导电层以及有机发光层的结构示意图；
图4是本发明第一实施方式提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图5是本发明第一实施方式提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
图6是本发明第一实施方式提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图7是本发明第一实施方式提供的还一种显示面板的剖面结构示意图；
图8是本发明第二实施方式提供的显示面板的制备方法的流程图；
图9是本发明第二实施方式中步骤S15的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。
发明人发现，透明显示区中不透光的第一电极(例如，阳极，也称Anode，一般采用ITO-Ag-ITO的三层结构)的面积大小直接影响透明显示区的光线透过率。如图2所示，考虑工艺波动，现有技术中通常需要第一电极12包像素定义层15边的余量设计，即，阳极的面积等于发光区面积c和阳极包像素定义层边的余量d之和，使得在保证发光区面积满足设计需求的前提下，阳极的面积较大，透光率较低。例如，对于400PPI(分辨率)的透明显示区，透光面积比为82％的像素设计，其中，阳极包边的面积约占阳极面积的34％，由此可见，阳极包边对透光率的影响很大。
本发明的第一实施方式涉及一种显示面板，如图3至7所示，包括：基板11(可以为透光的TFT基板)，以及位于基板11上的发光像素，每个发光像素包括若干种不同发光颜色的发光子像素，至少部分发光子像素(可以为透明显示区的发光子像素，也可以为全部的发光子像素)包括：第一电极12和有机发光层13，第一电极12位于基板11上，有机发光层13位于第一电极12远离基板11一侧，有机发光层13包括发光区a，第一电极12在基板11上的正投影落在发光区a在基板11上的正投影内。
由于第一电极12在基板11上的正投影落在发光区a在基板11上的正投影内，即，无第一电极12包像素定义层15边的余量设计，从而在保证发光区a面积不变的前提下，减少了第一电极12的面积，通过最大程度利用第一电极12的面积，提高了显示面板的透光率，进而提高了位于显示面板下方的光学模组的成像质量。
本实施方式中，有机发光层13还可以包括与发光区a相连的失效区b，其中，发光区a可以包括在电场作用下发射光线的发光材料，失效区b可以包括经光照变性后失效的发光材料(发光材料失效后意味着不可发光)，第一电极12在基板11上的正投影与发光区a在基板11上的正投影重合。
实际应用中，可以通过以反射电极121为遮挡层的逆向清除工艺，即，利用光源从基板11一侧朝向有机发光层13一侧照射，使得有机发光层13未被反射电极121遮挡的区域的发光材料经光照变性后失效而不能发光，进而避免不同发光颜色的发光子像素所发出的光线互相影响、进而影响视角和色域，提高了显示面板的显示效果。当然，也可以利用光源从有机发光层13一侧朝向基板11一侧(沿X方向的反方向)选择性照射有机发光层13的失效区b所在区域，进而使得有机发光层13形成发光区a和失效区b。
如图3所示，可选的，第一电极12可以包括用于反射光线的反射电极121，至少部分发光子像素还可以包括透明导电层14，透明导电层14位于反射电极121和有机发光层13之间，且包覆反射电极121的侧面，如此设置，透明导电层14能够从正面和侧面隔离开有机发光层13和反射电极121，避免有机发光层13中的发光材料与反射电极121接触后被污染，使得在无第一电极12包像素定义层15边的余量设计的情况下，即使存在工艺误差也不会导致有机发光层13与反射电极121直接接触而失效，提高了可靠性。
本实施方式中，反射电极121的材料可以为银、铝或钼等具有优良光反射特性的导电材料，以确保反射电极121能够具有优良的光反射效率，从而提升显示面板的发光效率，有机发光层13的材料可以为EL(Electro-Luminescence，电致发光)材料，例如，当反射电极121的材料为银(Ag)时，由于EL材料与Ag接触会被污染，进而影响EL材料在电场作用下的正常发光，此时可设置透明导电层14，透明导电层14的材料可以为ITO(氧化铟锡)，利用ITO包覆Ag的表面和侧面，避免了EL材料与Ag直接接触。
为了避免因工艺波动导致透明导电层14不能完全包覆住反射电极121的侧面的问题，在平行于基板11的方向上，透明导电层14的边缘可以超出反射电极121的边缘超过1微米，从容在透明导电层14的制备存在工艺误差时，也能保证透明导电层14包覆反射电极121的侧面。
实际应用中，第一电极12可以为阳极，相邻发光子像素的阳极12间隔设置，具体的说，除反射电极121之外，第一电极12还可以包括其他膜层，例如：
如图4所示，在本实施例中，第一电极12还可以包括：至少一层第一透明电极层122，第一透明电极层122位于反射电极121远离有机发光层13的一侧，第一透明电极层122在基板11上的正投影与反射电极121在基板11上的正投影重合，其中，第一透明电极层122的材料可以为ITO，利用ITO与有机发光层13中的发光材料(如，EL材料)接触，可以使EL材料在电场的作用下发光。通过合理设置第一透明电极层122的层数和厚度、以及透明导电层14的厚度，可以改变利用有机发光层13至对应反射电极121的距离，从而有效控制对应发光子像素的出光效果。
可选的，第一电极12还可以包括：至少一层第二透明电极层123，第二透明电极层123位于反射电极121靠近基板11的一侧，第二透明电极层123在基板11上的正投影与反射电极121在基板11上的正投影重合，透明导电层14还包覆第二透明电极层123的侧面，可以延伸至基板11上，如此设置，使得第二透明电极层123和第一透明电极层122可以利用一道工序实现图形化，减少了工序。
通过合理设置第一透明电极层122和第二透明电极层123的层数和厚度、以及透明导电层14的厚度，可以确保各不同颜色发光子像素中的有机发光层13能够位于同一平面，以实现显示面板中不同颜色的发光子像素均匀的面发光，保证显示面板的均一性。
当然，第一透明电极层122在基板11上的正投影和/或第二透明电极层123在基板11上的正投影也可以不与反射电极121在基板11上的正投影重合，仍可以实现类似的技术效果，此处不再赘述。
如图5所示，在另一可行的实施例中，也可以不包括第一透明电极层122，此时，透明导电层14不仅用于避免有机发光层13中的发光材料与反射电极121接触后被污染，还用于与有机发光层13中的发光材料(如，EL材料)接触并使其在电场的作用下发光。可以通过合理设置透明导电层14的厚度，改变利用有机发光层13至对应反射电极121的距离，从而有效控制对应发光子像素的出光效果；通过合理设置第二透明电极层123的层数和厚度、以及透明导电层14的厚度，可以确保各不同颜色发光子像素中的有机发光层13能够位于同一平面。
本实施方式中，为了避免封装盖板塌陷损伤有机发光层13，至少部分相邻发光子像素之间还可以包括：位于基板11上的像素定义层15，以及位于像素定义层15上的支撑柱16，像素定义层15与反射电极121间隔设置，具体的，像素定义层15与反射电极121之间至少间隔有透明导电层14和有机发光层13，当上述结构应用于透明显示区，由于透明显示区的支撑柱16下方保留了像素定义层15，保证了透明显示区的支撑柱16顶部与主屏的支撑柱16顶部等高。换句话说，在透明显示区，除了SPC(支撑柱16)下方的基板11上设置有像素定义层15，其余区域的像素定义层15都被去除，从而极大的提升了透明显示区的透光率。
如图6所示，为了进一步提高了显示面板的透光率，在平行于基板11的方向上，至少部分相邻发光子像素的有机发光层13间隔设置，可选的，显示面板还可以包括位于发光像素远离基板11一侧的透明平坦层17，相邻有机发光层13的间隔处可以由透明平坦层17填充，相比于相邻发光子像素的有机发光层13之间设置像素定义层15的方案，通过在相邻发光子像素的有机发光层13的间隔处由透明平坦层17填充，透光率更高。
如图7所示，可以理解的是，有机发光层13也可以仅包括发光区a，也就是说，有机发光层13在基板11上的正投影与第一电极12在基板11上的正投影重合。
需要说明的是，上述结构设置可以仅设置在透明显示区，此时主屏和过渡区仍然采用常规的“像素定义层15形成像素开口，发光材料位于像素开口内”的结构。当然，上述结构设置也可以用于显示面板的整个显示区域，此处不做限定。
本发明实施方式相对于现有技术而言，由于第一电极12在基板11上的正投影落在发光区a在基板11上的正投影内，即，无第一电极12包像素定义层15边的余量设计，从而在保证发光区a面积不变的前提下，减少了第一电极12的面积，通过最大程度利用第一电极12的面积，提高了显示面板的透光率，进而提高了位于显示面板下方的光学模组的成像质量，例如，对于400PPI(分辨率)的透明显示区，采用常规的“像素定义层15形成像素开口，发光材料位于像素开口内”的结构的透光面积比一般为82％，而采用本发明实施例中的结构，透光面积可以提升至85％。
本发明的第二实施方式涉及一种显示面板的制备方法，本实施方式的核心在于，提供基板；在所述基板上形成第一电极；在所述第一电极远离所述基板一侧形成有机发光层，所述有机发光层包括发光区，得到中间结构；所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内。由于所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内，即，无第一电极包像素定义层边的余量设计，从而在保证发光区面积不变的前提下，减少了第一电极的面积，通过最大程度利用第一电极的面积，提高了显示面板的透光率，进而提高了位于显示面板下方的光学模组的成像质量。
下面对本实施方式的显示面板的制备方法的实现细节进行具体的说明，以下内容仅为方便理解提供的实现细节，并非实施本方案的必须。
本实施方式中的显示面板的制备方法，如图8所示，可以包括以下步骤：
S11：提供基板。
S12：在基板上形成第一电极。
本步骤中，第一电极可以为阳极，以离子溅射镀的方式在基板上形成阳极，其中，阳极可以包括：反射电极，阳极的具体结构与第一实施方式中类似，此处不再赘述。
S13：在第一电极远离基板一侧形成有机发光层，有机发光层包括发光区，得到中间结构。
本步骤中，利用蒸镀工艺在透明导电层上形成有机发光层。
可选的，在步骤S13之前，还可以包括在第一电极上形成透明导电层，其中，透明导电层包覆反射电极的侧面，有机发光层形成于透明导电层远离基板一侧。
具体的，利用磁控溅射制备工艺在反射电极上形成透明导电层(ITO层)，通过透明导电层能够从正面和侧面隔离开有机发光层和反射电极，避免有机发光层中的发光材料与反射电极接触后被污染，提高了可靠性。
S14：利用光源从基板一侧朝向有机发光层一侧照射中间结构，使得有机发光层形成发光区和失效区。
本步骤中，发光区可以包括在电场作用下发射光线的发光材料，失效区可以包括经光照变性后失效的发光材料，发光区在基板上的正投影与反射电极在基板上的正投影重合。
如图9所示，可以利用激光或者波长小于或等于250纳米的紫外线从基板一侧朝向有机发光层一侧(沿X方向)照射中间结构，在光源照射之前，有机发光层a区和b区均是由在电场作用下可发射光线的发光材料组成，在光源照射之后，b区的发光材料由于没有反射电极的遮挡，因光照后变性失效而不能发光，从而实现了有机发光层的发光区的自对准。即，在未进行自对准光照工艺前，a区和b区都可发光，光照自对准工艺后，只有a区(发光区)可发光，b区不可发光，即，b区变成失效区。
可以理解的是，利用光源也可以从有机发光层一侧朝向基板一侧(沿X方向的反方向)选择性照射有机发光层的失效区所在区域，进而使得有机发光层形成发光区和失效区。
可选的，发光材料可以为低分子荧光色素、金属络合物等发光效率高的发光材料。例如，由蒽、萘(naphthalene)、茚(indene)、菲(phenanthrene)、芘(pyrene)、丁省(naphthacene，也称为“萘并萘”)、三亚苯、苝(perylene，也称为“二萘嵌苯”)、苉(picene)、荧蒽(fluoranthene)、醋菲烯(acephenanthrylene)、戊芬(pentaphene)、戊省(pentacene，也称为“并五苯”)、晕苯(coronene，也称为“六苯并苯”)、丁二烯(butadiene)、香豆素(coumarin)、吖啶(acridine)、芪(stilbene)、以及它们的衍生物、三(8-羟基喹啉)铝络合物(tris(8-quinolinolato)aluminum complex)、双(苯并喹啉)铍络合物(bis(benzoquinolinolato)berylliumu complex)、三(二苯甲酰甲基)邻菲啰啉铕络合物(tri(dibenzoyl methyl)phenanthroline europium complex)、二甲苯甲酰乙烯基联苯(ditoluylvinylbiphenyl)。
由于第一实施方式与本实施方式相互对应，因此本实施方式可与第一实施方式互相配合实施。第一实施方式中提到的相关技术细节在本实施方式中依然有效，在第一实施方式中所能达到的技术效果在本实施方式中也同样可以实现，为了减少重复，这里不再赘述。相应地，本实施方式中提到的相关技术细节也可应用在第一实施方式中。
本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本发明的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本发明的精神和范围。
Claims (10)
1.一种显示面板，包括：基板，以及位于所述基板上的发光像素，每个所述发光像素包括若干种不同发光颜色的发光子像素，其特征在于，至少部分所述发光子像素包括：
第一电极，位于所述基板上；以及
有机发光层，位于所述第一电极远离所述基板一侧，所述有机发光层包括发光区，所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机发光层还包括与所述发光区相连的失效区，所述发光区包括在电场作用下发射光线的发光材料，所述失效区包括经光照变性后失效的发光材料，所述第一电极在所述基板上的正投影与所述发光区在所述基板上的正投影重合。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极包括反射电极，至少部分所述发光子像素还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述反射电极和所述有机发光层之间，且包覆所述反射电极的侧面。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在平行于所述基板的方向上，所述透明导电层的边缘超出所述反射电极的边缘超过1微米。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极还包括：至少一层第一透明电极层，所述第一透明电极层位于所述反射电极远离所述有机发光层的一侧；
所述第一透明电极层在所述基板上的正投影与所述反射电极在所述基板上的正投影重合。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极还包括：至少一层第二透明电极层，所述第二透明电极层位于所述反射电极靠近所述基板的一侧；
所述第二透明电极层在所述基板上的正投影与所述反射电极在所述基板上的正投影重合；
所述透明导电层包覆所述第二透明电极层的侧面。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在平行于所述基板的方向上，所述显示面板还包括位于所述发光像素远离所述基板一侧的透明平坦层，相邻的所述有机发光层的相隔处由所述透明平坦层填充。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极为阳极，相邻所述发光子像素的阳极间隔设置。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板上形成第一电极；
在所述第一电极远离所述基板一侧形成有机发光层，所述有机发光层包括发光区，得到中间结构；
所述第一电极在所述基板上的正投影落在所述发光区在所述基板上的正投影内。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在形成所述有机发光层之后，还包括：
利用光源从所述基板一侧朝向有机发光层一侧照射所述中间结构，使得所述有机发光层形成发光区和失效区，其中，所述发光区包括在电场作用下发射光线的发光材料，所述失效区包括经光照变性后失效的发光材料；
可选的，利用光源从所述基板一侧朝向有机发光层一侧照射所述中间结构，包括：利用激光或者波长小于或等于250纳米的紫外线从所述基板一侧朝向所述有机发光层一侧照射所述中间结构。
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