CN106129101A

CN106129101A - Oled显示屏及其制备方法

Info

Publication number: CN106129101A
Application number: CN201610819014.5A
Authority: CN
Inventors: 陈亚文
Original assignee: TCL Corp
Current assignee: TCL Corp
Priority date: 2016-09-13
Filing date: 2016-09-13
Publication date: 2016-11-16

Abstract

本发明适用于显示设备领域，提供了一种OLED显示屏的制备方法及使用该方法制作的OLED显示屏。该OLED显示屏的制备方法，包括如下步骤：提供具有图案化的阳极层的基板；在基板上采用印刷方式制作多层有机功能层，并对各有机功能层进行HHIC处理；并且在印刷制作各有机功能层时，下层有机功能层制备后，对该下层有机功能层进行HHIC处理，再在该下层交联有机功能层印刷制作上层有机功能层；在顶层交联有机功能层上印刷制作阴极层。在通过对印刷制备的各有机功能层后进行HHIC处理，可以有效阻挡上层有机功能层制作时的溶剂对下层制得的有机功能层的破坏，同时可以不需要使用正交溶剂，扩大了材料的选择范围。

Description

OLED显示屏及其制备方法

技术领域

本发明属于显示设备领域，尤其涉及一种OLED显示屏的制备方法及使用该方法制作的OLED显示屏。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)由于其具有自发光、反应快、视角广、亮度高、轻薄等优点，是目前显示技术研究的主要方向。

近年来，印刷电子行业发展迅速。印刷技术被认为是实现显示面板低成本和大面积生产的有效途径。一般OLED显示屏包括基板(Substrate)、阳极层(Anode)、多层有机功能层和阴极层(Cathode)；阳极层(Anode)制备在基板(Substrate)上，而有机功能层夹在阴极层(Cathode)和阳极层(Anode)之间。多层有机功能层一般包括空穴注入层(Hole InjectLayer，HIL)、空穴传输层(Hole Transport Layer，HTL)、有机发光层(Emitting MaterialLayer，EML)和电子传输层(Electron Transport Layer，ETL)。目前，OLED显示屏的制备主要采用印刷加工与真空蒸镀相结合的方式，其空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)以及有机发光层(EML)采用印刷工艺制备，电子传输层(ETL)以及Cathode则采用蒸镀工艺制作。但真空蒸镀工艺由于设备投资和维护费用高昂，材料浪费严重，因此成本居高不下，此外，由于受镀舱尺寸的限制，难以实现大尺寸屏的制备。

但如果采用全印刷工艺又存在较多局限性，制作不同膜层时，为了防止制作上层膜层的过程中，破坏已制作的下层膜层，故其墨水需采用正交溶剂，这就大幅限制了材料的选择范围。另外，当制作三层以上膜层结构时，由于有机功能层并非十分致密，制作上层膜层时，溶剂分子能够渗过中间层膜层对下层膜层造成破坏。对于这种问题，当前的解决方案是对下层膜层进行热交联或紫外线(简称UV)交联处理，如一般可对HIL以及HTL进行热交联或UV交联处理。然而热交联的温度要求较高，且由于EML无法承受高温或UV照射，则热交联或UV交联方法无法用于EML以及EML以上的各功能层的处理。因此采用全印刷工艺，由于有机功能层致密性欠佳，溶剂分子容易渗透有机功能层，对下层非正交溶剂制作的有机功能层造成破坏，严重影响产品的性能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OLED显示屏的制备方法，旨在解决现有OLED显示屏采用全印刷工艺制备时，有机功能层致密性欠佳，溶剂分子容易渗透有机功能层，对下层非正交溶剂制作的有机功能层造成破坏的问题。

本发明是这样实现的，一种OLED显示屏的制备方法，包括如下步骤：

S1：提供具有图案化的阳极层的基板；

S2印刷制备功能层：在所述基板上依次采用印刷方式制作多层有机功能层，并对各所述有机功能层进行HHIC处理；并且在印刷制作各所述有机功能层时，下层所述有机功能层制备后，对该下层有机功能层进行HHIC处理，使该下层有机功能层形成下层交联有机功能层后，再在该下层交联有机功能层印刷制作上层所述有机功能层；

S3：在顶层所述交联有机功能层上印刷制作阴极层。

本发明通过印刷制备上层有机功能层后，对该下层有机功能层进行HHIC(Hyperthemal Hydrogen Induced Cross-lingking，高温氢致交联)处理，使该有机功能层中侧链上较弱C-H键发生断裂，形成悬挂键C-，相邻分子间的悬挂键C-相互结合形成稳定的、较强的C-C或C＝C，以形成交联有机功能层；同时HHIC处理因无法作用于较强的C-C、C＝C以及C-O键，因此不会破坏各有机功能层中的分子结构，保证其光电特性不发生变化；之后再印刷制备上层有机功能层，直至对最上层的有机功能层进行HHIC处理，再印刷制作阴极层。通过对各有机功能层进行HHIC处理，可以有效阻挡上层有机功能层制作时的溶剂对下层制得的有机功能层的破坏，同时可以不需要使用正交溶剂，扩大了材料的选择范围。该方法可以实现高性能OLED显示屏的全印刷工艺制备。

本发明的另一目的在于提供一种OLED显示屏，由如权利要求上所述的OLED显示屏的制备方法制得。

该OLED显示屏采用了上述方法制备，在印刷制作各有机功能层后，对其进行HHIC处理，可以有效阻挡上层有机功能层制作时的溶剂对下层制得的有机功能层的破坏，避免了影响产品性能的问题出现，同时扩大了材料的选择范围。

附图说明

图1是本发明实施例提供的OLED显示屏的结构示意图。

图2是本发明实施例提供的一种OLED显示屏的制备方法的工艺流程图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1和图2，本发明实施例提供的一种OLED显示屏的制备方法，包括如下步骤：

S1：提供具有图案化的阳极层12的基板11；

S2印刷制备功能层：在所述基板11上依次采用印刷方式制作多层有机功能层13，并对各所述有机功能层13进行HHIC处理；并且在印刷制作各所述有机功能层13时，下层所述有机功能层13制备后，对该下层有机功能层13进行HHIC处理，使该下层有机功能层13形成下层交联有机功能层13后，再在该下层交联有机功能层13印刷制作上层所述有机功能层13；

S3：在顶层所述交联有机功能层13上印刷制作阴极层14。

通过印刷制备上层有机功能层13后，对该下层有机功能层13进行HHIC(Hyperthemal Hydrogen Induced Cross-lingking，高温氢致交联)处理，使该有机功能层13中侧链上较弱C-H键发生断裂，形成悬挂键C-，相邻分子间的悬挂键C-相互结合形成稳定的、较强的C-C或C＝C，以形成交联有机功能层13；同时HHIC处理因无法作用于较强的C-C、C＝C以及C-O键，因此不会破坏各有机功能层13中的分子结构，保证其光电特性不发生变化；之后再印刷制备上层有机功能层13，直至对最上层的有机功能层13进行HHIC处理，再印刷制作阴极层14。通过对各有机功能层13进行HHIC处理，可以有效阻挡上层有机功能层13制作时的溶剂对下层制得的有机功能层13的破坏，同时可以不需要使用正交溶剂，扩大了材料的选择范围。该方法可以实现高性能OLED显示屏100的全印刷工艺制备，良好的保证器件性能以及稳定性。

另外，由于顶层的有机功能层13经HHIC处理，形成交联有机功能层13，且各有机功能层13均为交联有机功能层13，则可以采用印刷工艺制作阴极层14，同时选用的印刷阴极层14的墨水溶剂无需考虑对各交联有机功能层13的影响。该方法可以有效实现多层结构OLED显示屏100的全部印刷工艺制备，各层稳定结构的有机功能层13，有利于实现高效稳定的OLED器件。

进一步地，本实施例中，制作的多层有机功能层13依次包括空穴注入层131、空穴传输层132、有机发光层133和电子传输层134。则制得的OLED显示屏100依次包括基板11(Substrate)、阳极层12(Anode)、空穴注入层131(Hole Inject Layer，HIL)、空穴传输层132(Hole Transport Layer，HTL)、有机发光层133(Emitting Material Layer，EML)和电子传输层134(Electron Transport Layer，ETL)和阴极层14(Cathode)。

具体地，该结构的OLED显示屏的制备方法中，S2印刷制备功能层的具体步骤为：

S21制备交联空穴注入层：在基板11上印刷空穴注入层131，再对空穴注入层131进行HHIC处理，形成交联空穴注入层131；

S22制备交联空穴传输层：在交联空穴注入层131上印刷空穴传输层132，再对空穴传输层132进行HHIC处理，形成交联空穴传输层132；

S23制备交联有机发光层：在交联空穴传输层132上印刷有机发光层133，再对有机发光层133进行HHIC处理，形成交联有机发光层133；

S24制备交联电子传输层：在交联有机发光层133上印刷电子传输层134，再对电子传输层134进行HHIC处理，形成交联电子传输层134。

进一步地，多层有机功能层13还包括电子阻挡层(electron-blocking layer，EBL)，电子阻挡层设于空穴传输层132与有机发光层133之间。设置电子阻挡层，能够控制电子的流向(阻碍反向漏电流)，提高发光效率。当然，在印刷制作电子阻挡层后，需要对电子阻挡层进行HHIC处理，形成交联电子阻挡层。

进一步地，多层有机功能层13还包括空穴阻挡层，空穴阻挡层设于电子传输层134与有机发光层133之间。设置空穴阻挡层，以提高发光效率。在印刷制作空穴阻挡层后，需要对空穴阻挡层进行HHIC处理，形成交联空穴阻挡层。

进一步地，多层有机功能层13还包括电子注入层(Electron Inject Layer，EIL)，电子注入层设于电子传输层134上。设置电子注入层，可以提高发光效率。在印刷制作电子传输层134后，需要对电子传输层134进行HHIC处理，形成交联电子传输层134。

进一步地，有机发光层133的两面分别设置有激子限定层。设置激子限定层，以提高发光效率。在印刷制作各激子限定层后，需要对相应的激子限定层进行HHIC处理，形成对应的交联激子限定层。

当然，多层有机功能层13还可以包括其它功能层。具体可以根据需要来选择引入电子阻挡层、空穴阻挡层、电子注入层、激子限定层或其它功能层。另外，可以根据需要选择使用电子阻挡层、空穴阻挡层、电子注入层、激子限定层或其它功能层中的一种或几种。

进一步地，各有机功能层13均采用湿法工艺制备。采用湿法工艺制备，制作简单、成本低，同时便于大面积生产，效率高。

进一步地，制作各有机功能层13后、并对该有机功能层13进行HHIC处理前，还包括去除印刷中溶剂的步骤。去除印刷中溶剂，可以有效率减少印刷制作有机功能层13后的多余溶剂，保证制作的相应有机功能层13的清洁，以便更好的进行HHIC处理。

进一步地，在上述S3步骤中，印刷制作阴极层14后，需进行退火处理。印刷制作阴极层14后，进行退火处理，以使制作的阴极层14结构更为稳定。进一步地，在将阴极层14印刷制作后，进行退火处理，可以将阴极前驱体转换成金属阴极，或者将阴极层14中的金属纳米颗粒转换成导电薄膜。

请参阅图1，本发明实施例还公开了一种OLED显示屏100。该OLED显示屏100由如上所述的OLED显示屏的制备方法制得。该OLED显示屏100采用了上述方法制备，在印刷制作各有机功能层13后，对其进行HHIC处理，可以有效阻挡上层有机功能层13制作时的溶剂对下层制得的有机功能层13的破坏，避免了影响产品性能的问题出现，同时扩大了材料的选择范围。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种OLED显示屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：提供具有图案化的阳极层的基板；

S3：在顶层所述交联有机功能层上印刷制作阴极层。

2.如权利要求1所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，多层所述有机功能层依次包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层和电子传输层。

3.如权利要求2所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，多层所述有机功能层还包括电子阻挡层，所述电子阻挡层设于所述空穴传输层与所述有机发光层之间。

4.如权利要求2所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，多层所述有机功能层还包括空穴阻挡层，所述空穴阻挡层设于所述电子传输层与所述有机发光层之间。

5.如权利要求2所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，多层所述有机功能层还包括电子注入层，所述电子注入层设于所述电子传输层上。

6.如权利要求2所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，所述有机发光层的两面分别设置有激子限定层。

7.如权利要求2-6任一项所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，各所述有机功能层均采用湿法工艺制备。

8.如权利要求7所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，制作各所述有机功能层后、并对该有机功能层进行HHIC处理前，还包括去除溶剂的步骤。

9.如权利要求2-6任一项所述的OLED显示屏的制备方法，其特征在于，所述S3步骤中，印刷制作阴极层后，需进行退火处理。

10.一种OLED显示屏，其特征在于，由如权利要求1-9任一项所述的OLED显示屏的制备方法制得。