CN114231900A - 对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种对光学镀膜进行金属化掩膜的方法，包括：根据金属化掩膜的图案制作掩膜框架，根据掩膜框架的窗口形状制作窗口封片，窗口封片与掩膜框架能够无缝对接，形成与金属化掩膜光学镀膜基片截面积相同的平面；将掩膜框架与光学镀膜对齐贴合，在掩膜框架的窗口涂抹胶水；将窗口封片嵌入掩膜框架的窗口，通过胶水将窗口封片固定在光学镀膜，进行烘干定型；在形成的光学镀膜上整体镀金属膜；用纯水洗去胶水，使窗口封片脱落，得到金属化掩膜光学镀膜。本发明得到的金属化掩膜光学镀膜基片中光学膜和金属膜界限清晰，并且该方法的工艺简单、成本低、环保，整个工艺过程不需要化学试剂，适合批量生产。
Description
技术领域
本发明涉及光学镀膜的技术领域，具体涉及一种对光学镀膜进行金属化掩膜的方法。
背景技术
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。焦平面探测技术的发展对器件封装与薄膜滤光片提出了更高的要求。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。新一代封装技术将薄膜滤光片与窗口集成一起，薄膜滤光片直接镀制在窗口中央，窗口四周金属化，最后将窗口与焦平面阵列焊接成焦平面探测器。窗口制作过程中采用掩膜技术制作金属化膜层的图形。采用掩膜，遮挡住薄膜，再金属化，完成后去除掩膜。
但是，传统光学镀膜的窗口进行金属化的过程中，窗口与周围的金属化膜层的界面粗糙不清晰，导致光学镀膜的光学特性降低，影响光学镀膜的平面探测技术。
发明内容
本发明为了解决上述问题，提出以下技术方案：
本发明对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法包括：
步骤1：根据金属化掩膜光学镀膜基片的图案制作掩膜框架，根据掩膜框架的窗口形状制作窗口封片，窗口封片与掩膜框架能够无缝对接，形成与光学镀膜截面积相同的平面；
步骤2：将掩膜框架与光学镀膜基片对齐贴合，在掩膜框架的窗口涂抹胶水；
步骤3：将窗口封片嵌入掩膜框架的窗口，通过胶水将窗口封片固定在光学镀膜基片，取下掩膜框架，进行烘干定型；
步骤4：在步骤3形成的光学镀膜基片上整体镀金属膜；
步骤5：用纯水洗去胶水，使窗口封片脱落，得到金属化掩膜光学镀膜基片。
根据本发明的实施例，胶水可溶于纯水。
根据本发明的实施例，窗口封片为耐高温材料。
根据本发明的实施例，烘干定型条件为80～100度、20～30分钟。
根据本发明的实施例，胶水涂满整个窗口封片截面。
本发明对光学镀膜进行金属化掩膜的方法工艺简单、成本低、环保，整个工艺过程不需要化学试剂，适合批量生产。
附图简要说明
图1示出本发明光学镀膜基片和掩膜框架的结构示意图；
图2示出本发明对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法的原理示意图；
图3示出本发明对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法的原理示意图；
图4示出本发明对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法得到的金属化掩膜光学镀膜基片的结构示意图。
图中，1表示光学镀膜基片；2表示光学膜；3表示掩膜框架；4表示胶水；5表示窗口封片；6表示金属化膜；7表示金属化掩膜光学镀膜基片。
具体实施方式
参见附图，本发明对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法包括：
步骤1：根据金属化掩膜的图案制作掩膜框架，根据掩膜框架的窗口形状制作窗口封片，窗口封片与掩膜框架能够无缝对接，形成与光学镀膜截面积相同的平面。参见图1，示出掩膜框架和光学镀膜基片的简单示意图，基片上下两面已经镀上光学膜，掩膜框架的外轮廓与光学镀膜基片可以对齐，这样保证后续窗口边缘可以全部镀上金属化膜，保证光学镀膜基片的完整性。
步骤2：将掩膜框架与光学镀膜基片对齐贴合，在掩膜框架的窗口涂抹胶水。参见图2，在光学镀膜基片的上下两面均对齐掩膜框架，在光学镀膜基片上下两面窗口去涂抹胶水，使胶水涂满整个窗口平面。
步骤3：将窗口封片嵌入掩膜框架的窗口，通过胶水将窗口封片固定在光学镀膜基片，取下掩膜框架，进行烘干定型。参见图3，在光学镀膜的上下两面窗口嵌入窗口封片，固定好后，将掩膜框架取下，进行烘干定型，其中胶水可溶于纯水并且胶水涂满整个窗口封片截面，窗口封片为耐高温材料，烘干定型条件为80～100度、20～30分钟。
步骤4：在步骤3形成的光学镀膜基片上整体镀金属膜。烘干定型完成后，对粘贴有窗口封片的光学镀膜基片整体镀金属膜，在窗口边缘和窗口封片上均镀上金属膜层。
步骤5：用纯水洗去胶水，使窗口封片脱落，得到金属化掩膜光学镀膜基片。即形成基片中间为红外薄膜区，四周为金属薄膜区的金属化图形。得到的金属化掩膜光学镀膜基片的窗口于金属化膜层的边界清晰，形成的窗口图像完整。
实施例
实施例1：制作23.5mm×19.8mm的光学镀膜基片，窗口封片尺寸设定为16.1mm×15.8mm，材料选用陶瓷片，然后根据上述尺寸参数制作掩膜框架，烘干温度为90度，时间为10分钟。
实施例2：制作20.4mm×18.3mm的光学镀膜基片，窗口封片尺寸设定为15.3mm×12.4mm，材料选用陶瓷片，然后根据上述尺寸参数制作掩膜框架，烘干温度为80度，时间为20分钟。
虽然以上实施例已经参照附图对本发明目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本发明作出各种改进和变换，故在此不一一赘述。
Claims (5)
1.一种对光学镀膜基片进行金属化掩膜的方法，包括：
步骤1：根据金属化掩膜光学镀膜基片的图案制作掩膜框架，根据所述掩膜框架的窗口形状制作窗口封片，所述窗口封片与所述掩膜框架能够无缝对接，形成与所述光学镀膜基片截面积相同的平面；
步骤2：将所述掩膜框架与所述光学镀膜基片对齐贴合，在所述掩膜框架的窗口涂抹胶水；
步骤3：将所述窗口封片嵌入所述掩膜框架的窗口，通过所述胶水将所述窗口封片固定在所述光学镀膜基片，取下所述掩膜框架，进行烘干定型；
步骤4：在所述步骤3形成的所述光学镀膜基片上整体镀金属膜；
步骤5：用纯水洗去胶水，使所述窗口封片脱落，得到所述金属化掩膜光学镀膜基片。
2.根据权利要求1所述的对光学镀膜进行金属化掩膜的方法，其特征在于，所述胶水可溶于纯水。
3.根据权利要求1所述的对光学镀膜进行金属化掩膜的方法，其特征在于，所述窗口封片为耐高温材料。
4.根据权利要求1所述的对光学镀膜进行金属化掩膜的方法，其特征在于，所述烘干定型条件为80～100度、20～30分钟。
5.根据权利要求1所述的对光学镀膜进行金属化掩膜的方法，其特征在于，所述胶水涂满整个所述窗口封片截面。
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