CN114226198A - 一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 - Google Patents
一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114226198A CN114226198A CN202111409167.XA CN202111409167A CN114226198A CN 114226198 A CN114226198 A CN 114226198A CN 202111409167 A CN202111409167 A CN 202111409167A CN 114226198 A CN114226198 A CN 114226198A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pdms
- refractive index
- magnetic
- substrate
- optical film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000002122 magnetic nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 6
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims abstract 7
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 claims abstract 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 abstract description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 4
- -1 Polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/06—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain multicolour or other optical effects
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
- B05D1/005—Spin coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/002—Pretreatement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
- B05D3/0254—After-treatment
- B05D3/0272—After-treatment with ovens
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2203/00—Other substrates
- B05D2203/30—Other inorganic substrates, e.g. ceramics, silicon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2203/00—Other substrates
- B05D2203/30—Other inorganic substrates, e.g. ceramics, silicon
- B05D2203/35—Glass
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
本发明公开了一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，属于智能材料和光学材料领域。本发明制备的光学薄膜是一种两相系统，基体相由PDMS和纳米尺度的磁性颗粒组成，纳米磁性颗粒聚集成微米尺度的团块作为第二相随机分布于基体相中；本发明提供的制备方法中，通过详细的限定磁性纳米颗粒与PDMS混合溶液的混合比例以及混合方式，适当地结合玻璃棒搅拌、超声波振荡和涡旋混匀控制第二相在基体相中的分布和形态，获得的薄膜具有良好的磁控特性，即施加磁场能显著地改变薄膜的折射率。微透镜材料的折射率会显著影响其焦距，因此使用这种光学薄膜制造的微透镜具有磁响应特性，可以通过施加磁场控制微透镜的焦距。
Description
技术领域
本发明属于智能材料和光学材料领域，具体涉及一种磁控折射率光学薄膜的制备方法。
背景技术
磁流变弹性体(magnetorheological elastomers,MREs)是一种应用前景广阔的智能复合材料，一般由非磁性有机粘弹性基体和微米/纳米尺度的磁性颗粒组成。硅橡胶常用作MRE基体材料，聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,PDMS)是其中之一。目前，PDMS基磁流变弹性体的磁性颗粒材料多选择羰基铁，其研究主要集中于力学性能。现有技术也有涉及PDMS基磁流变弹性体的磁致光学性能，但仅从理论分析的角度提到，施加磁场会导致PDMS基磁流变弹性体薄膜的折射率发生变化，没有实际的对磁场产生响应的光学薄膜的制备方案。
发明内容
为获得具有良好磁响应光学性能的材料，本发明提供了一种磁控折射率光学薄膜的制备方法。
本发明的技术方案是：
一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，包括以下步骤：
S1.将质量比为10:1-1.5的PDMS预聚物和固化剂混合，得到PDMS混合物。
S2.将步骤S1所得PDMS混合物与有机溶剂按质量比为1:1-1.2的比例充分混合，获得PDMS混合溶液。
S3.在步骤S2所得PDMS混合溶液中加入磁性纳米颗粒，磁性纳米颗粒的质量百分含量范围为0.5％-2.5％；混合方式为：首先用玻璃棒搅拌1-5分钟，然后放置于超声波振荡器中振荡10-30分钟，最后使用涡旋混匀器振荡1-3分钟，得到PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液。
S4.将基片放入清洗液中，使用超声波清洗器清洗，然后烘干备用。
S5.将步骤S4的基片放置于匀胶机样品台中心位置固定，取步骤S3获得的PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液滴于硅基片中心部位进行旋涂，得到厚度为4-500微米的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜。
S6.将步骤S5获得的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜置于恒温箱中进行固化处理，待涂膜完全固化后即获得磁控折射率光学薄膜。
进一步地，进行固化处理时，温度设置为50-100℃，时间设置为24-36小时。
进一步地，所述有机溶剂为甲苯、氯仿、或氯苯。
进一步地，所述磁性纳米颗粒为四氧化三铁或羰基铁。
进一步地，所述基片为硅基片、SU-8片、玻璃片或石英片。
进一步地，所述清洗液为甲苯或丙酮。
本发明的光学薄膜是一种两相系统，基体相由PDMS和纳米尺度的磁性颗粒组成，纳米磁性颗粒聚集成微米尺度的团块作为第二相随机分布于基体相中。第二相在基体相中的分布和形态会显著影响薄膜的磁控折射率。例如，第二相过于弥散(尺寸小且分布均匀)或过于集中(尺寸较大且分布不均匀)均会导致微弱的磁响应性能，即施加磁场不能显著地改变薄膜的折射率。在本发明提供的薄膜制备方法中，通过详细的限定磁性纳米颗粒与PDMS混合溶液的混合比例以及混合方式，适当地结合玻璃棒搅拌、超声波振荡和涡旋混匀控制第二相在基体相中的分布和形态，获得的薄膜具有良好的磁控特性，即施加磁场能显著地改变薄膜的折射率。微透镜材料的折射率会显著影响其焦距，因此使用这种光学薄膜制造的微透镜具有磁响应特性，可以通过施加磁场控制微透镜的焦距。
附图说明
图1为使用光学显微镜成像拍摄的PDMS-0.5％Fe3O4磁控折射率光学薄膜显微结构图片。
图2为使用光学显微镜成像拍摄的PDMS-1％Fe3O4磁控折射率光学薄膜显微结构图片。
图3为使用光学显微镜成像拍摄的PDMS-1.5％Fe3O4磁控折射率光学薄膜显微结构图片。
图4为使用光学显微镜成像拍摄的PDMS-2.5％Fe3O4磁控折射率光学薄膜显微结构图片。
图5为在施加外磁场的条件下测量PDMS-Fe3O4光学薄膜折射率的示意图。其中：1-椭偏仪的起偏器，2-永磁体，3-PDMS-Fe3O4磁控折射率光学薄膜，4-硅基片，5-椭偏仪的检偏器。
图6为使用PDMS-Fe3O4光学薄膜制造的微透镜阵列成像图片；薄膜中Fe3O4质量百分数为1％。
表1为Fe3O4重量百分数为0.5％、1％、1.5％和2.5％的PDMS-Fe3O4光学薄膜在无磁场和施加B＝55mT外磁场条件下测量获得的折射率。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式以及工作原理作进一步详细说明。
1.PDMS-Fe3O4磁控折射率光学薄膜的制备过程：
S1.将质量比为10:1的PDMS预聚物和固化剂(道康宁Sylgard 184)混合，得到PDMS混合物。
S2.将步骤S1所得PDMS混合物与有机溶剂甲苯按重量比为1:1的比例混合，先使用玻璃棒搅拌直至各成分充分混合，然后置于超声波振荡器(天津奥特赛恩斯仪器有限公司AS2060B)中振荡5分钟，使溶液各成分进一步充分混合并去除其中气泡，获得PDMS甲苯溶液。
S3.将Fe3O4纳米颗粒(粒径20nm，北京德科岛金科技有限公司)分别以0.5％、1％、1.5％和2.5％的质量百分数与步骤S2的PDMS甲苯溶液混合；混合方式为：用玻璃棒搅拌3分钟使其充分混合，然后将得到的混合物放置于超声波振荡器中振荡20分钟，最后使用涡旋混匀器(美国SCILOGEX MX-E)振荡1分钟，得到PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合溶液。
S4.将硅基片(7.8×7.5×0.65mm)放入甲苯中，使用超声波清洗器清洗2分钟，取出后放置于电热板(邦西仪器科技(上海)有限公司DB-XAB)上烘干，烘烤温度设置为100℃。
S5.将烘干后的硅基片放置于匀胶机(中国科学院微电子研究所KW-4A)样品台中心位置固定，取步骤S3获得的PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合溶液滴于硅基片中心部位，旋涂参数设置为：预转速500rpm，时间14s；旋涂转速8000rpm，时间40s。本实施例中旋涂后即获得厚度为4.2微米的PDMS-Fe3O4纳米颗粒复合材料未固化涂膜。
S6.将步骤S5得到的PDMS-Fe3O4纳米颗粒复合材料未固化涂膜置于恒温箱中进行固化处理，温度设置为60℃，时间设置为24小时，待涂膜完全固化后即获得磁控折射率光学薄膜。
本实施例最终获得的Fe3O4质量百分数为0.5％、1％、1.5％和2.5％的磁控折射率光学薄膜，第二相(Fe3O4纳米颗粒聚集团块)在基体相中均匀分布且尺寸为1-3微米，施加磁场能显著改变薄膜折射率。对于这4种浓度的薄膜，其区别在于当Fe3O4浓度增大时，第二相在基体相中的密度增大。
2.PDMS-Fe3O4磁控折射率光学薄膜的表征：
(1)薄膜显微结构表征
使用光学显微镜表征磁控折射率光学薄膜的显微结构，图1-图4为PDMS-Fe3O4磁控折射率光学薄膜的显微结构，薄膜中Fe3O4的质量百分数分别为0.5％、1％、1.5％和2.5％。研究结果显示，当薄膜第二相(Fe3O4纳米颗粒聚集团块)在基体相中均匀分布且尺寸为1-3微米时，施加磁场能显著改变薄膜折射率。
(2)薄膜磁控折射率表征
椭偏仪(SE 850,德国SENTECH Instruments GmbH)用于表征薄膜磁控折射率。图5为在施加外磁场的条件下测量PDMS-Fe3O4光学薄膜折射率的示意图。表1为Fe3O4重量百分数为0.5％、1％、1.5％和2.5％的PDMS-Fe3O4光学薄膜在无磁场和施加B＝55mT外磁场条件下测量获得的折射率。研究结果显示，施加磁场能显著改变薄膜折射率。例如，对于Fe3O4重量百分数为1％的薄膜，无磁场时折射率为1.634，当施加B＝55mT的外磁场，薄膜折射率增加至2.092。
表1
| Fe<sub>3</sub>O<sub>4</sub>质量百分数(％) | 0.5 | 1 | 1.5 | 2.5 |
| 薄膜折射率(B＝0) | 1.789 | 1.634 | 1.676 | 1.646 |
| 薄膜折射率(B＝55mT) | 1.799 | 2.092 | 1.955 | 1.766 |
3.PDMS-Fe3O4磁控折射率光学薄膜的应用：
使用PDMS-1％Fe3O4磁控折射率光学薄膜通过软光刻工艺从SU-8凹模制得微透镜阵列。微透镜直径D为250微米，矢高h为70微米。对微透镜阵列进行成像测试，结果如图6所示，微透镜阵列具有良好的成像性能。
微透镜焦距f与折射率n、直径D和矢高h有如下关系：f＝(D2/8h+h/2)/(n-1)。根据薄膜磁控折射率表征结果，无磁场时微透镜焦距为231.2微米；当施加B＝55mT的外磁场，微透镜焦距变为134.2微米。施加磁场导致焦距减少了97微米，变化幅度高达42％。
Claims (6)
1.一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1.将质量比为10：1-1.5的PDMS预聚物和固化剂混合，得到PDMS混合物；
S2.将步骤S1所得PDMS混合物与有机溶剂按质量比为1:1-1.2的比例充分混合，获得PDMS混合溶液；
S3.在步骤S2所得PDMS混合溶液中加入磁性纳米颗粒，磁性纳米颗粒的质量百分含量范围为0.5％-2.5％；混合方式为：首先用玻璃棒搅拌1-5分钟，然后放置于超声波振荡器中振荡10-30分钟，最后使用涡旋混匀器振荡1-3分钟，得到PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液；
S4.将基片放入清洗液中，使用超声波清洗器清洗，然后烘干备用；
S5.将步骤S4的基片放置于匀胶机样品台中心位置固定，取步骤S3获得的PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液滴于硅基片中心部位进行旋涂，得到厚度为4-500微米的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜；
S6.将步骤S5获得的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜置于恒温箱中进行固化处理，待涂膜完全固化后即获得磁控折射率光学薄膜。
2.如权利要求1所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，所述磁性纳米颗粒为四氧化三铁或羰基铁。
3.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，进行固化处理时，温度设置为50-100℃，时间设置为24-36小时。
4.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述有机溶剂为甲苯、氯仿、或氯苯。
5.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，步骤S4中所述基片为硅基片、SU-8片、玻璃片或石英片。
6.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法，其特征在于，步骤S4中所述清洗液为甲苯或丙酮。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111409167.XA CN114226198A (zh) | 2021-11-25 | 2021-11-25 | 一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111409167.XA CN114226198A (zh) | 2021-11-25 | 2021-11-25 | 一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114226198A true CN114226198A (zh) | 2022-03-25 |
Family
ID=80751031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111409167.XA Pending CN114226198A (zh) | 2021-11-25 | 2021-11-25 | 一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114226198A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104194345A (zh) * | 2014-09-19 | 2014-12-10 | 大连海事大学 | 一种具有磁极性的聚二甲基硅氧烷及其制备方法 |
| US20150235763A1 (en) * | 2012-05-22 | 2015-08-20 | Centre National De La Recherche Scientifique | Method for producing a film comprising three-dimensional magnetic microstructures |
| CN110305484A (zh) * | 2019-07-25 | 2019-10-08 | 电子科技大学 | 高透过率磁流变弹性体薄膜的制备方法与应用 |
| CN111847897A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-10-30 | 中国石油大学(华东) | 一种磁响应性超疏水表面的简易制备方法 |
| KR20210019837A (ko) * | 2019-08-13 | 2021-02-23 | 성균관대학교산학협력단 | 높은 레이저 손상 임계점을 갖는 광음향 기반 초음파 발진체의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고강도 초음파 발진체 |
-
2021
- 2021-11-25 CN CN202111409167.XA patent/CN114226198A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150235763A1 (en) * | 2012-05-22 | 2015-08-20 | Centre National De La Recherche Scientifique | Method for producing a film comprising three-dimensional magnetic microstructures |
| CN104194345A (zh) * | 2014-09-19 | 2014-12-10 | 大连海事大学 | 一种具有磁极性的聚二甲基硅氧烷及其制备方法 |
| CN110305484A (zh) * | 2019-07-25 | 2019-10-08 | 电子科技大学 | 高透过率磁流变弹性体薄膜的制备方法与应用 |
| KR20210019837A (ko) * | 2019-08-13 | 2021-02-23 | 성균관대학교산학협력단 | 높은 레이저 손상 임계점을 갖는 광음향 기반 초음파 발진체의 제조방법 및 이에 의해 제조된 고강도 초음파 발진체 |
| CN111847897A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-10-30 | 中国石油大学(华东) | 一种磁响应性超疏水表面的简易制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| ALI ASGHAR PAKNAHAD, ET AL.: ""An electromagnetic micro-actuator with PDMS-Fe3O4 nanocomposite magnetic membrane"", 《MICROELECTRONIC ENGINEERING》 * |
| 李圣坤等: ""Fe3O4纳米颗粒/聚二甲基硅氧烷复合材料磁电容效应的研究"", 《物理学报》 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105334553B (zh) | 基于pdms‑磁性纳米粒子复合薄膜的磁控微透镜阵列制造方法 | |
| Lin et al. | Magnetically induced low adhesive direction of nano/micropillar arrays for microdroplet transport | |
| Ju et al. | A highly stretchable and robust non-fluorinated superhydrophobic surface | |
| CN104530455A (zh) | Pdms-磁性纳米粒子复合光学薄膜的制备方法与应用 | |
| CN110642222B (zh) | 一种高长径比的微米柱阵列、其制备方法和应用 | |
| CN110305484A (zh) | 高透过率磁流变弹性体薄膜的制备方法与应用 | |
| CN110911813B (zh) | 液态金属流道的改性方法、超材料及其制备方法 | |
| CN102675668B (zh) | 纳米粒子磁流变弹性体薄膜的制备方法 | |
| Yang et al. | Temperature‐Triggered Dynamic Janus Fabrics for Smart Directional Water Transport | |
| CN108102121B (zh) | 一种各向异性磁性高分子复合薄膜材料及其制备方法 | |
| US20200022256A1 (en) | Preparation method of flexible transparent circuit | |
| CN109400934A (zh) | 一种柔性超疏水自清洁表面的制备方法 | |
| CN108380065A (zh) | 一种聚二甲基硅氧烷多孔膜及其制备方法和应用 | |
| CN114226198A (zh) | 一种磁控折射率光学薄膜的制备方法 | |
| US20050038180A1 (en) | Silicone elastomer material for high-resolution lithography | |
| CN107880309A (zh) | 合成橡胶材料‑磁性纳米粒子壁虎仿生表面及制备与应用 | |
| CN104262672B (zh) | 一种离子型凝胶光子晶体的制备方法 | |
| Wang et al. | Rapidly switchable double-layered adhesive modified by magnetic field | |
| CN106329306A (zh) | 一种基于纳米孔隙结构的无序增益介质的制备方法 | |
| CN110862689B (zh) | 一种正交各向异性润湿性的磁控柔性表面材料的制备方法 | |
| Mao et al. | In situ polymerization of uniform poly (urea–formaldehyde) microcapsules containing paraffins under the high-speed agitation without emulsifier | |
| Hu et al. | A magnetic‐driven switchable adhesive superhydrophobic surface for in situ sliding control of superparamagnetic microdroplets | |
| CN110261939B (zh) | Pdms基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法 | |
| CN110628068A (zh) | 一种制备具有磁响应表面图案结构的方法 | |
| US6290868B1 (en) | Field-structured material media and methods for synthesis thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220325 |