CN114211330B - 碳化硅陶瓷膜的加工设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了碳化硅陶瓷膜的加工设备，涉及打磨设备技术领域，包括底座，还包括操作台，所述操作台中安装有放置平台，且放置平台的两端设置有夹持机构，所述夹持机构的两侧设置有调节机构，所述放置平台包括放置台，所述放置台中设置有导向槽，且导向槽内设置有导向杆，且导向杆的两侧分别放置有缓冲弹簧和第一伸缩器，所述导向槽的外侧开设有配合槽，且配合槽外设置有顶出孔。该碳化硅陶瓷膜的加工设备在使用的过程中通过夹持机构和调节机构之间的配合使用，在不影响对陶瓷膜夹持效果的前提下，可以有效避免陶瓷膜受到夹持工具的影响导致在进行打磨的过程中存在打磨死角的问题。

Description

碳化硅陶瓷膜的加工设备

技术领域

本发明涉及打磨设备技术领域，尤其涉及一种碳化硅陶瓷膜的加工设备。

背景技术

陶瓷膜又称无机陶瓷膜，是以无机陶瓷材料经特殊工艺制备而形成的非对称膜，陶瓷膜分为管式陶瓷膜和平板陶瓷膜两种，在对平板陶瓷膜生产加工的过程中会使用到打磨装置。

公开号为CN111958366A的中国发明专利公开了打磨机，包括：上料装置，第一上料架包括水平设置的放置板及两个竖直设置的支脚，机架与放置板及两个支脚之间围合成沿前后方向延伸的通道，第二上料架可沿前后方向穿过通道并与第一上料架反向错开滑动，放置板及第二上料架均可放置多个工件；打磨装置，打磨装置包括工作台、夹持机构及打磨轮，夹持机构可夹持工件，打磨轮可对工件进行打磨；机械手，设置于机架上，机械手可往返于夹持机构与上料区之间并可夹持或释放工件，上述装置可实现工件的自动上料，节省了上料时间，提高了生产效率、降低了人工成本，且无需操作人员靠近加工位置，保证了操作人员的健康和安全，而且整个上料装置占地面积小，节省空间。

但是现有的装置在使用的过程中仍然存在一些问题：

1、在对工件进行打磨的过程中需要使用到夹持机构，但是在对工件进行打磨的过程中受到夹持机构的影响，导致所夹持的位置打磨不到，需要进行二次装夹才能进行全部打磨，较为费时费力，同时夹持机构的高度往往是固定的，但是所需要打磨的工件厚度是不同的，在每次对不同厚度工件进行打磨时，都需要对夹持机构的夹持高度进行调节；

2、在对平板陶瓷膜进行打磨的过程中，受到打磨机的结构特性影响，导致在每次打磨的过程中只能对单面进行打磨，导致每次打磨完成后都需要对平板陶瓷膜取下翻面，在装夹打磨时较为费时。

发明内容

本发明实施例提供一种碳化硅陶瓷膜的加工设备，以解决现有的技术问题。

本发明实施例采用下述技术方案：一种碳化硅陶瓷膜的加工设备，包括底座，还包括操作台，所述底座的上方设置有操作台，且操作台的下方设置有提升器，所述操作台的其中一端设置有打磨机构，所述操作台中设置有定位机构，所述操作台的另外一端设置有翻转机构，所述操作台中安装有放置平台，且放置平台的两端设置有夹持机构，所述夹持机构的两侧设置有调节机构，所述放置平台包括放置台，所述放置台中设置有导向槽，且导向槽内设置有导向杆，且导向杆的两侧分别放置有缓冲弹簧和第一伸缩器，所述导向槽的外侧开设有配合槽，且配合槽外设置有顶出孔。

进一步，操作台其中一端设置有第一连接槽，且操作台另外一端设置有第二连接槽，所述第一连接槽两侧开设有第三连接槽。

进一步，打磨机构包括第一旋转电机和第一连接架，所述第一连接架设置在第一连接槽内，所述第一连接架上设置有调节架，且调节架与第一连接架之间滑动配合，所述调节架的上方设置有第一旋转电机，且第一旋转电机的端部与打磨片连接。

进一步，翻转机构包括第二连接架，所述第二连接架设置在第二连接槽内，所述第二连接架的上方设置有连接板，且连接板的其中一端设置有夹持板，所述连接板的另外一端设置有第二旋转电机，所述第二旋转电机贯穿设置在连接板中且与夹持器连接。

进一步，定位机构包括配合座，所述配合座设置在第三连接槽内，且配合座与第三连接槽滑动连接，所述配合座的上方设置有连接座，且连接座的端部设置有定位板。

进一步，夹持机构包括夹持板和导向块，所述导向块设置在导向槽内，且导向块的下端开设有防脱槽，且防脱槽与导向杆滑动连接，所述导向块的上方设置有夹持板，且夹持板的外侧下表面设置有配合块，所述导向块的一侧设置有插杆，所述导向块中设置有配合使用的定位孔，且定位孔与插杆配合使用，所述导向块一侧开设有定位槽，且定位槽中设置有定位器。

进一步，调节机构包括调节座，所述调节座两侧设置有限位块，且限位块与调节座之间通过第一连接弹簧连接，所述调节座与操作台之间通过推动器连接，所述调节座中设置有调节块，且调节块两侧设置有限位槽，所述调节块的端部设置有防动块。

进一步，限位槽与限位块横截面形状相同，且限位槽的内径大于限位块的外径。

与现有技术相比较，本发明的有益效果在于：

其一，通过夹持机构和调节机构的配合可以对不同厚度的陶瓷膜进行夹持，并且在夹持的过程中不会出现夹持死角，导致在进行打磨的过程中无法打磨，在使用的过程中，将需要进行打磨的陶瓷膜放置在放置台上，放置台受到陶瓷膜自身重量的影响，会产生向下移动的趋势，从而设置在下方的提升器开始工作，带动放置台下移，当下移到一定距离后，插接在定位槽内的定位器会脱落，此时定位器会收缩，从而使得导向块沿着导向槽向内移动，从而带动夹持板向内移动，在向内移动的过程中，会使得插杆从定位孔中脱落，从而使得夹持板在配合块的作用下可以贴合在陶瓷膜的上表面，并且在夹持板下移的过程中会带动防动块移动，防动块在推动器的作用下贴合在陶瓷膜两侧，从而对陶瓷膜完成夹持，并且此夹持方式不存在死角，便于进行打磨；

其二，设置有翻转机构，当陶瓷膜一面打磨完成后，陶瓷膜在提升器的作用下被抬起，此时第二连接架向内移动，使得夹持板对陶瓷膜完成夹持，并且在进行夹持的过程中，第二连接架与连接板之通过第二伸缩器连接，使得夹持板的高度可以进行调节，从而便于对不同规格的陶瓷膜进行翻转。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的第一立体结构示意图；

图2为本发明的第二立体结构示意图；

图3为本发明的图2中A处放大结构示意图；

图4为本发明的打磨机构结构示意图；

图5为本发明的翻转机构结构示意图；

图6为本发明的放置平台结构示意图；

图7为本发明的夹持机构结构示意图；

图8为本发明的调节机构结构示意图。

附图标记：

1、底座；2、操作台；21、第一连接槽；22、第二连接槽；3、打磨机构；31、第一旋转电机；32、打磨片；33、调节架；34、第一连接架；4、放置平台；41、顶出孔；42、缓冲弹簧；43、导向槽；5、翻转机构；51、连接板；52、夹持器；6、提升器；7、定位机构；71、定位板；72、连接座；73、配合座；74、第三连接槽；8、调节机构；81、调节块；82、限位槽；83、调节座；84、限位块；85、防动块；86、推动器；9、夹持机构；91、夹持板；92、配合块；93、插杆；94、定位槽；95、导向块；96、定位孔；97、定位器；98、防脱槽。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

通常在此处附图中描述和显示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。

基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合图1至图8所示，本发明实施例提供了一种碳化硅陶瓷膜的加工设备，包括底座1，还包括操作台2，所述底座1的上方设置有操作台2，且操作台2的下方设置有提升器6，所述操作台2的其中一端设置有打磨机构3，所述操作台2中设置有定位机构7，所述操作台2的另外一端设置有翻转机构5，所述操作台2中安装有放置平台4，且放置平台4的两端设置有夹持机构9，所述夹持机构9的两侧设置有调节机构8，所述放置平台4包括放置台，所述放置台中设置有导向槽43，且导向槽43内设置有导向杆，且导向杆的两侧分别放置有缓冲弹簧42和第一伸缩器，所述导向槽43的外侧开设有配合槽，且配合槽外设置有顶出孔41。

具体的，操作台2其中一端设置有第一连接槽21，且操作台2另外一端设置有第二连接槽22，所述第一连接槽21两侧开设有第三连接槽74。

在使用过程中便于各组件与操作台2进行安装连接。

具体的，打磨机构3包括第一旋转电机31和第一连接架34，所述第一连接架34设置在第一连接槽21内，所述第一连接架34上设置有调节架33，且调节架33与第一连接架34之间滑动配合，所述调节架33的上方设置有第一旋转电机31，且第一旋转电机31的端部与打磨片32连接。

工作时，第一旋转电机31带动打磨片32进行旋转，同时受到调节架33的作用，可以对打磨片32的高度和左右位置进行调节，便于对不同厚度的打磨片32进行打磨。

具体的，翻转机构5包括第二连接架，所述第二连接架设置在第二连接槽22内，所述第二连接架的上方设置有连接板51，且连接板51的其中一端设置有夹持板91，所述连接板51的另外一端设置有第二旋转电机，所述第二旋转电机贯穿设置在连接板51中且与夹持器52连接。

工作时，当陶瓷膜一面打磨完成后，陶瓷膜在提升器6的作用下被抬起，此时第二连接架向内移动，使得夹持板91对陶瓷膜完成夹持，并且在进行夹持的过程中，第二连接架与连接板51之间通过第二伸缩器连接，使得夹持板91的高度可以进行调节，从而便于对不同规格的陶瓷膜进行翻转。

具体的，定位机构7包括配合座73，所述配合座73设置在第三连接槽74内，且配合座73与第三连接槽74滑动连接，所述配合座73的上方设置有连接座72，且连接座72的端部设置有定位板71。

工作时，在定位机构7的作用下，可以对陶瓷膜的位置进行初步定位，便于陶瓷膜后续的二次定位。

具体的，夹持机构9包括夹持板91和导向块95，所述导向块95设置在导向槽43内，且导向块95的下端开设有防脱槽98，且防脱槽98与导向杆滑动连接，所述导向块95的上方设置有夹持板91，且夹持板91的外侧下表面设置有配合块92，所述导向块95的一侧设置有插杆93，所述导向块95中设置有配合使用的定位孔96，且定位孔96与插杆93配合使用，所述导向块95一侧开设有定位槽94，且定位槽94中设置有定位器97。

工作时，在夹持板91的作用下，可以对陶瓷膜的位置进行二次定位，并且在进行二次定位的过程中，夹持板91的高度可以根据陶瓷膜的厚度进行调节，从而使得该装置可以适用于不同厚度的陶瓷膜，并且在使用的过程中可以通过夹持板91的高度调节带动防动块85进行高度调节，便于更好的对陶瓷膜进行夹持固定。

具体的，调节机构8包括调节座83，所述调节座83两侧设置有限位块84，且限位块84与调节座83之间通过第一连接弹簧连接，所述调节座83与操作台2之间通过推动器86连接，所述调节座83中设置有调节块81，且调节块81两侧设置有限位槽82，所述调节块81的端部设置有防动块85。

具体的，限位槽82与限位块84横截面形状相同，且限位槽82的内径大于限位块84的外径。

工作原理：将需要进行打磨的陶瓷膜放置在放置台上，放置台受到陶瓷膜自身重量的影响，会产生向下移动的趋势，从而设置在下方的提升器6开始工作，带动放置台下移，当下移到一定距离后，插接在定位槽94内的定位器97会脱落，当定位器97脱落后，定位器97会向内收缩使得定位器97与导向块95之间产生一定的间隙，此时导向块95受到第一伸缩器的作用使得导向块95不断沿着导向槽43向内移动，从而带动夹持板91向内移动，在向内移动的过程中，夹持板91受到推动器86的作用跟随着夹持板91不断向内移动，在夹持板91移动的过程中，插杆93从定位孔96中脱落，当插杆93脱落后，夹持板91会向下移动，从而使得夹持板91在配合块92的作用下可以贴合在陶瓷膜的上表面，并且在夹持板91下移的过程中同时会对防动块85产生下压力，使得防动块85的高度会产生变化，并且位于防动块85的一侧设置有配合块92使得防动块85的高度始终比陶瓷膜的高度低一些，当防动块85位移到放置台内部中，设置在调节座83上的限位块84会向内挤压，从而对防动块85的高度起到限位的作用，随后继续推动防动块85向内移动，使得防动块85可以对陶瓷膜起到抵触力，有效防止陶瓷膜在进行打磨的过程中出现位置偏移，导致打磨不合格，当防动块85完成夹持后，此时夹持板91在第一伸缩板的作用下，向外移动退出对陶瓷膜的夹持，防止陶瓷膜在打磨时出现死角，同时在使用的过程中设置在陶瓷膜两侧的防动块85位置可以进行调节，从而使得陶瓷膜的位置可以进行调节，便于更好的对陶瓷膜进行打磨。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (6)

1.一种碳化硅陶瓷膜的加工设备，包括底座（1）、操作台（2）和提升器（6），其特征在于：还包括打磨机构（3）、放置平台（4）、翻转机构（5）、定位机构（7）、调节机构（8）和夹持机构（9），所述底座（1）的上方设置有操作台（2），且操作台（2）的下方设置有提升器（6），所述操作台（2）的其中一端设置有打磨机构（3），所述操作台（2）设置有定位机构（7），所述操作台（2）的另外一端设置有翻转机构（5），所述操作台（2）中安装有放置平台（4），且放置平台（4）的两端设置有夹持机构（9），所述夹持机构（9）的两侧设置有调节机构（8），所述放置平台（4）包括放置台，所述放置台中设置有导向槽（43），且导向槽（43）内设置有导向杆，且导向杆的两侧分别放置有缓冲弹簧（42）和第一伸缩器，所述导向槽（43）的外侧开设有配合槽，且配合槽外设置有顶出孔（41）；所述夹持机构（9）包括夹持板（91）和导向块（95），所述导向块（95）设置在导向槽（43）内，且导向块（95）的下端开设有防脱槽（98），且防脱槽（98）与导向杆滑动连接，所述导向块（95）的上方设置有夹持板（91），且夹持板（91）的外侧下表面设置有配合块（92），所述导向块（95）的一侧设置有插杆（93），所述导向块（95）中设置有配合使用的定位孔（96），且定位孔（96）与插杆（93）配合使用，所述导向块（95）一侧开设有定位槽（94），且定位槽（94）中设置有定位器（97）；所述调节机构（8）包括调节座（83），所述调节座（83）两侧设置有限位块（84），且限位块（84）与调节座（83）之间通过第一连接弹簧连接，所述调节座（83）与操作台（2）之间通过推动器（86）连接，所述调节座（83）中设置有调节块（81），且调节块（81）两侧设置有限位槽（82），所述调节块（81）的端部设置有防动块（85）。

2.根据权利要求1所述的碳化硅陶瓷膜的加工设备，其特征在于：所述操作台（2）其中一端设置有第一连接槽（21），且操作台（2）另外一端设置有第二连接槽（22），所述第一连接槽（21）两侧开设有第三连接槽（74）。

3.根据权利要求2所述的碳化硅陶瓷膜的加工设备，其特征在于：所述打磨机构（3）包括第一旋转电机（31）和第一连接架（34），所述第一连接架（34）设置在第一连接槽（21）内，所述第一连接架（34）上设置有调节架（33），且调节架（33）与第一连接架（34）之间滑动配合，所述调节架（33）的上方设置有第一旋转电机（31），且第一旋转电机（31）的端部与打磨片（32）连接。

4.根据权利要求2所述的碳化硅陶瓷膜的加工设备，其特征在于：所述翻转机构（5）包括第二连接架，所述第二连接架设置在第二连接槽（22）内，所述第二连接架的上方设置有连接板（51），且连接板（51）的其中一端设置有夹持板（91），所述连接板（51）的另外一端设置有第二旋转电机，所述第二旋转电机贯穿设置在连接板（51）中且与夹持器（52）连接。

5.根据权利要求2所述的碳化硅陶瓷膜的加工设备，其特征在于：所述定位机构（7）包括配合座（73），所述配合座（73）设置在第三连接槽（74）内，且配合座（73）与第三连接槽（74）滑动连接，所述配合座（73）的上方设置有连接座（72），且连接座（72）的端部设置有定位板（71）。

6.根据权利要求1所述的碳化硅陶瓷膜的加工设备，其特征在于：所述限位槽（82）与限位块（84）横截面形状相同，且限位槽（82）的内径大于限位块（84）的外径。

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