CN114200779A - 气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于以简易构成来降低空间的温度分布的技术。气体供给装置具备构成气体的吹出口的框体和在与框体之间设有间隙并覆盖框体的罩，罩具有使从吹出口吹出的气体经过的开口部，在从正面观看吹出口时的平面观看时，开口部比吹出口小且位于收敛在吹出口的区域内的位置，罩具有在平面观看时与吹出口的一部分以及框体的第1面相向并形成开口部的第1部分和从第1部分延伸并与框体的不同于第1面的第2面相向的第2部分，第1部分将从吹出口吹出的气体的一部分向间隙引导，间隙构成由第1部分引导的气体的流路。

Description

气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法

技术领域

本发明涉及气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法。

背景技术

在液晶面板或半导体器件的制造工序(光刻工序)所使用的曝光装置中，原版和基板分别被保持于原版工作台和基板工作台，反复进行扫描移动。为了提高伴随扫描移动的曝光的精度，需要精确地控制原版工作台和基板工作台的位置。为此，由高精度的测量器测量原版工作台和基板工作台的位置。作为高精度的测量器，有编码器或干涉计。对于这些测量器，若该光路中的空气的折射率变化，则光路长度会变化。因而，在要求高精度的位置测量的场合，需要不使光路中的空气的折射率变化(不使空气晃动)。折射率由于根据温度、湿度、压力而变化，所以，重要的是将这些物性值保持为恒定。因而，在曝光装置中，已知有以下结构：将基板工作台和其测量器封入在1个空间(基板工作台空间)内，对该基板工作台空间进行空气调节，由此将测量器的光路的温度、湿度、压力保持为恒定。进而，作为其结构，已知有朝一个方向对基板工作台空间整体进行整流的方法以及在测量器的光路中在局部集中地进行空气调节的方法。以上的构成对于包含原版工作台和其测量器的空间(原版工作台空间)的空气调节也同样。

但是，在对基板工作台空间或者原版工作台空间进行空气调节的场合，仅单纯地使气体流动无法将测量器的光路的折射率保持为恒定。其理由在于，在基板工作台空间中有大量的热源，其热量可到达测量器的光路。例如，用于驱动基板工作台的促动器或其基板、各种测量系统所具备的电气部件会成为热源。另外，热量有时也从与基板工作台空间外的空间连接的部件向基板工作台内的部件传递，热量自此向测量器的光路扩散传递。进而，通过基板工作台进行扫描移动，即便在空调气流的上游存在测量器的光路，有时处于空调气流的下游的热量也扩散，会到达测量器的光路。此外，也有时供给气体的空调机的框体因热量而具有温度分布，框体内的空调气体自身具有温度分布。由于以上那样的热量的影响，在测量器的光路中产生温度波动，测量精度会降低。由于测量精度降低，也导致曝光精度的降低。

在专利文献1中公开了以下构成：测量基板工作台空间的壁面的温度，将被控制成与该温度大致相等的温度的气体向基板工作台空间整体供给。根据该构成，由于跟基板工作台空间外的空间连接的壁面与空调气体的温度大致相等，所以，基板工作台空间内的温度梯度有所降低，其结果，可降低测量器的光路中的温度波动。

在专利文献2中公开了以下构成：利用伯努利效应将空调气体向管道内吸引，从管道朝测量器的光路吹出气体。根据该构成，由于向测量器的光路吹出气体，所以，基板工作台移动的空间的热量、例如促动器或驱动促动器的电路部件等所产生的热量到达测量器的光路，能降低形成温度波动的情形。

另外，因基板工作台空间的热量而使得空调机的框体自身具有温度分布，为了不使框体内的空调气体产生温度分布，也有时将绝热材料贴装于框体的壁面。

另外，在专利文献3中公开了以下构成：在框体的壁面形成封闭空间并向该封闭空间单独地供给气体。根据该构成，通过向封闭空间充填气体，形成传热降低部，能降低热量从框体外向框体内传递的情形。

在先技术文献

专利文献1：日本特开平9－82626号公报

专利文献2：日本特开2015－95503号公报

专利文献3：日本特开2013－161991号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，在专利文献1中，由于测量壁面的温度，进行空气调节整体的气体的温度控制，所以，相对于基板工作台移动的空间的局部的温度分布，无法局部地对空气调节用的气体进行温度控制。因而，残留有局部的温度分布的气体到达测量器的光路，会产生温度波动。

在专利文献2中，在因基板工作台的移动而在管道周围使热扩散的场合，在管道产生局部的温度分布，会在管道内的气体产生局部的温度分布。其结果，具有局部的温度分布的气体向测量器的光路被吹出，会产生温度波动。另外，若贴装绝热材料以便热量不向管道或框体传递，则基板工作台空间的热量难以被回收，因而，该热量扩散，反而有时也会容易到达测量器的光路。在该场合，导致出现了测量器的光路的温度波动。

像专利文献3那样，在壁面设置封闭空间的场合，需要设置向该封闭空间供给与空气调节用的气体不同的气体的气体供给系统，结构会复杂化。

本发明提供有利于以简易构成来降低空间的温度分布的技术。

用于解决课题的方案

根据本发明的第1方面，提供一种气体供给装置，其特征在于，上述气体供给装置具备：框体，该框体构成气体的吹出口；以及罩，该罩在与上述框体之间设有间隙并覆盖上述框体，上述罩具有开口部，该开口部使从上述吹出口吹出的气体经过，在从正面观看上述吹出口时的平面观看时，上述开口部比上述吹出口小且位于收敛在上述吹出口的区域内的位置，上述罩具有：第1部分，该第1部分在上述平面观看时与上述吹出口的一部分以及上述框体的第1面相向，并形成上述开口部；以及第2部分，该第2部分从上述第1部分延伸，并与上述框体的不同于上述第1面的第2面相向，上述第1部分将从上述吹出口吹出的气体的一部分向上述间隙引导，上述间隙构成由上述第1部分引导的气体的流路。

根据本发明的第2方面，提供一种光刻装置，该光刻装置在基板上形成图形，其特征在于，上述光刻装置具有：基板工作台，该基板工作台保持上述基板并移动；测量器，该测量器射出测量光，利用由上述基板工作台反射的测量光来测量上述基板工作台的位置；以及上述第1方面所涉及的气体供给装置，上述气体供给装置配置成将从上述吹出口经由上述开口部吹出的气体向包含上述基板工作台以及上述测量器的第1空间供给。

根据本发明的第3方面，提供一种光刻装置，该光刻装置使用原版在基板上形成图形，其特征在于，上述光刻装置具有：原版工作台，该原版工作台保持上述原版并移动；测量器，该测量器射出测量光，利用由上述原版工作台反射的测量光来测量上述原版工作台的位置；以及上述第1方面所涉及的气体供给装置，上述气体供给装置配置成将从上述吹出口经由上述开口部吹出的气体向包含上述原版工作台以及上述测量器的第1空间供给。

根据本发明的第4方面，提供一种物品制造方法，其特征在于，上述物品制造方法具有：利用上述第2方面或第3方面所涉及的光刻装置对基板进行图形形成的工序；以及对进行过上述图形形成的上述基板进行加工的工序，从进行过上述加工的上述基板制造物品。

发明的效果

根据本发明，能提供有利于以简易构成来降低空间的温度分布的技术。

附图说明

图1是示出气体供给装置的构成例的图。

图2(a)至图2(c)是示出气体供给装置的构成例的图。

图3(a)及图3(b)是示出气体供给装置中的调整部的配置例的图。

图4是示出气体供给装置的配置例的图。

图5(a)及图5(b)是示出气体供给装置中的排气机构的配置例的图。

图6是示出气体供给装置中的排气机构的配置例的图。

图7是示出曝光装置中的气体供给装置的配置例的图。

图8是示出曝光装置中的气体供给装置的配置例的图。

图9(a)及图9(b)是示出曝光装置中的气体供给装置的配置例的图。

图10是示出曝光装置中的气体供给装置的构成的图。

图11是示出曝光装置中的气体供给装置的构成的图。

图12是示出具备气体供给装置的曝光装置的构成的图。

具体实施方式

以下，参照附图来详细说明实施方式。另外，以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的发明。在实施方式中记载了多个特征，但这多个特征并非全部都是发明的必要构成，另外多个特征也可以任意组合。进而，在附图中对相同或同样的构成标注相同的附图标记，省略重复说明。

本发明涉及有利于空间内的温度分布的降低(均匀化)的气体供给装置。以下，对在基板上形成图形的光刻装置中应用本发明的气体供给装置的例子进行说明。另外，在光刻装置中例如有曝光装置或压印装置。曝光装置通过经由原版对被供给到基板上的光致抗蚀剂进行曝光，在该光致抗蚀剂上形成与原版的图形对应的潜像。压印装置通过使被供给到基板上的可成形材料(压印材料)与模具接触，对压印材料赋予硬化用的能量，从而形成被转印了模具的凹凸图形的硬化物的图形。

以下，关于在作为光刻装置的一例的曝光装置中应用了气体供给装置的例子进行说明。

＜第1实施方式＞

在图1中示出了实施方式中的气体供给装置10的构成。另外，在图12中示出了具备气体供给装置10的曝光装置的构成。在本说明书以及附图中，在将水平面设为XY平面的XYZ坐标系中表示方向。一般来讲，作为被曝光基板的基板W以其表面与水平面(XY平面)平行的方式载置在基板工作台4上。由此，以下，将在沿着基板W的表面的平面内相互正交的方向设为X轴以及Y轴，将与X轴以及Y轴垂直的方向设为Z轴。另外，以下，将与XYZ坐标系中的X轴、Y轴、Z轴分别平行的方向称为X方向、Y方向、Z方向。

曝光装置具备照明光学系统1、原版工作台3、投影光学系统2、基板工作台4和控制部6。照明光学系统1利用来自光源5的光，对被保持于原版工作台3的原版M进行照明。投影光学系统2在被保持于基板工作台4的基板W上投影原版M的图形。原版工作台3保持原版并移动。基板工作台4保持基板并移动。基板工作台4和原版工作台3由控制部6基于各自的位置信息进行扫描驱动。基板工作台4的位置由第1测量器8a测量，原版工作台3的位置由第2测量器8b测量。第1测量器8a以及第2测量器8b可以是编码器或者干涉计。例如，在第1测量器8a为干涉计的场合，第1测量器8a朝基板工作台4射出测量光，检测由设在基板工作台4的端面的干涉计用反射镜反射的测量光，由此测量基板工作台4的位置。另外，在图12中，仅示出1个第1测量器8a，但第1测量器8a可配置多个以便能测量基板工作台4的XY位置、旋转量以及倾斜量。第2测量器8b也可与第1测量器8a同样地构成。

利用壁30，将第1空间21与第2空间22隔开。第1空间21例如是曝光装置内部的空间，在该场合，壁30可由支撑投影光学系统2以及基板工作台4等的结构体或者腔室等构成。壁30也可由供基板进入的货架、框体或者管道等使气体移动的路径等构成。将第1空间21之中的由配置在基板工作台4侧的气体供给装置10进行空气调节的空间记作第1空间21a，将由配置在原版工作台3侧的气体供给装置10进行空气调节的空间记作第1空间21b。第2空间22是指不同于第1空间21的空间，典型的可以是曝光装置外部的空间，但也可以是曝光装置内的空间。

基板工作台4以及第1测量器8a配置在第1空间21a内，原版工作台3、第2测量器8b配置在第1空间21b内。气体供给装置10将由空调机7进行了温度调节的气体G向第1空间21a、21b供给。框体12a以相对于第1空间21a吹出气体G的方式构成吹出口11。另外，框体12c(第2框体)形成为从吹出口11起在作为第1测量器8a的测量光的光路的第1光路34a的上方延伸，将从吹出口11吹出的气体G向第1光路34a引导。同样，框体12b以相对于第1空间21b吹出气体G的方式构成吹出口11。另外，框体12d(第2框体)形成为从吹出口11起在作为第2测量器8b的测量光的光路的第2光路34b的上方延伸，将从吹出口11吹出的气体G向第2光路34b引导。

气体供给装置10包括框体12a、框体12b、框体12c、框体12d之中的至少任一者，将从空调机7供给的气体G向第1空间21a、21b、第1光路34a、第2光路34b供给。第1空间21a、21b内的气体G由排气机构18向第2空间22排出，气体G的一部分返回空调机7。

空调机7向气体供给装置10供给气体G。空调机7除了包括风扇、管道、阀之外，还可以包括测量气体G的温度的温度测量器、调整气体G的温度的温度调整器等。

在第1空间21a、21b中，有以基板工作台4或者原版工作台3为起因的热源。例如，驱动基板工作台4或者原版工作台3的促动器、促动器的控制基板、有关位置控制的电气部件等会成为热源。另外，构成第1空间21a、21b的壁30、与壁30连接的构件32、33等也从其外部的第2空间22接受热量，会成为热源。热量从这些热源扩散，到达第1光路34a或者第2光路34b，会形成第1光路34a或者第2光路34b的温度波动。另外，热量向框体12a、框体12b、框体12c或者框体12d传递，在该框体12a～12d内的气体G具有温度分布的状态下，气体G向第1光路34a或者第2光路34b供给，由此会产生温度波动。进而，由于基板工作台4或者原版工作台3的扫描移动，第1空间21a、21b的空气调节变紊乱，热量扩散，可到达第1光路34a、第2光路34b。另外，同样，热量到达框体12a、框体12b、框体12c或者框体12d，在框体12a～12d内部的气体G具有温度分布的状态下，气体G向第1光路34a或者第2光路34b供给，会产生温度波动。气体供给装置10为了降低因这些热量的影响产生的第1光路34a或者第2光路34b的温度波动，将温度分布降低了的气体G向第1光路34a、第2光路34b供给。由此，可降低第1光路34a或者第2光路34b的温度分布。

如图1所示那样，气体供给装置10具有：框体12，该框体12构成用于向第1空间21引导气体G的气体的吹出口11；以及罩13，该罩13包围框体12的侧面的至少一部分地覆盖框体12。罩13在与框体12之间设置间隙14，并配置成覆盖框体12。另外，罩13具有使从吹出口11吹出的气体经过的开口部15。在从正面观看吹出口11(从Y方向观看)时的平面观看时，开口部15比吹出口11小，且位于收敛在吹出口11的区域内的位置。罩13具有导风构件16，该导风构件16是在从Y方向观看时的平面观看时与吹出口11的一部分以及框体12的端面(第1面)相向并形成开口部15的第1部分。罩13还具有第2部分162，该第2部分162从导风构件16延伸并与不同于框体12的端面的框体12的外侧面(第2面)相向。导风构件16将从吹出口11吹出的气体G的一部分向间隙14引导。导风构件16形成为将从吹出口11吹出的气体G的一部分遮蔽，被遮蔽的气体向间隙14被引导。间隙14构成由导风构件16引导的气体的流路。

气体供给装置10与包括风扇或压缩机、管道或管、软管等配管、阀或节流构件、调节构件等调整部件、测量气体G的温度的温度测量器、调整气体G的温度的温度调整器等在内的外部装置连接。或者，气体供给装置10也可以在框体12的内部具备上述构成。气体G的温度例如可由温度测量器和温度调整器进行调整。

在本实施方式中，当气体G从吹出口11吹出时，利用导风构件16使气体G的一部分流向间隙14。由此，相对于气体供给装置10的内侧，间隙14成为具有降低外侧的热量影响的绝热效果的空气层。另外，相对于气体供给装置10的外侧，间隙14成为具有温度调整效果的空气层。例如假设在气体供给装置10的外侧、也就是第1空间21存在热源。假设热量自该热源扩散，到达气体供给装置10。在没有罩13的场合，在框体12形成温度分布，因该温度分布使得在框体12内部的气体G也产生温度分布。另一方面，若设有罩13，气体G的一部分流向罩13与框体12的间隙14，则到达罩13的热量由气体G回收，从间隙14排出。其结果，可防止热量到达框体12，能降低气体G的温度分布产生。

另外，可以说对于第1空间21的热量也相同。经由罩13，第1空间21的热量由气体G回收，从间隙14排出。这是对于将绝热材料贴装于框体12等的构成所无法获得的效果。

这样，在本实施方式中，由于从间隙14、气体G的流动、罩13的结构回收热量，故而优选的是，间隙14大，气体G的流动也快。另外，由于由气体G回收的热量从间隙14排出，故而优选的是，间隙14的出口配置成远离开口部15。另外，开口部15的形状可任意设定，能将由吹出口11吹出的气体G的供给范围调整成任意范围。进而，由于是利用气体G的一部分的构成，所以无需另外准备气体，无需追加另外的气体供给装置。因而，根据本实施方式，能以简易构成实现曝光装置内的有效的空气调节。

参照图2(a)至图2(c)对气体供给装置10的若干构成例进行说明。在图2(a)至图2(c)的各图中，左图是从气体供给装置10的X方向观看时的剖视图，右图是从气体供给装置10的Y方向观看的主视图。

图2(a)所示的构成是与图1同样的构成。罩13构成为覆盖框体12的整体。在该场合，罩13例如可与框体12的外形形状相应地形成。可是，也可以不由罩13覆盖框体12的整体。是否能获得有效的空调效果可取决于第1空间21内的温度分布。对于欲从第1空间21降低热量的影响的部位，配置罩13较好。优选的是，在从其部位扩展的范围内，可以增大罩13地进行配置。因而，由于通过覆盖框体12的整体能应对第1空间21的大范围的温度分布，故而更为优选。

在图2(a)中，间隙14设在框体12的端面与导风构件16(第1部分)之间以及框体12的外侧面与第2部分162之间。另外，罩13相对于框体12在多处经由垫片利用螺栓紧固等方式进行固定。在图2(a)的例子中，由间隙14形成的流路的出口形成在Z方向的两端部和X方向的两端部。在该场合，对于吹出口11附近或者框体12的Z方向的温度分布特别有效。

相对于此，图2(b)示出罩13仅相对于吹出口11的前面(气体出口的面)配置的例子。在图2(b)中，间隙14设在框体12的端面与导风构件16(第1部分)之间，而未设在框体12的外侧面与第2部分162之间。因此，在图2(b)的例子中，由间隙14形成的流路的出口未形成在Z方向的端部，而仅形成在X方向的两端部。图2(b)的构成对吹出口11的附近的温度分布是有效的。这样，根据第1空间21的温度分布，罩13的构成可以任意设定。

另外，开口部15的形状可以与从气体供给装置10吹出气体的区域的形状相应地形成。在图2(a)中，开口部15的形状设成为四方形状，但也可以是三角形状、梯形形状、凹凸形状，另外也可以是直线与曲线组合的形状，另外还可以是具有多个开口的形状。在开口部15采用复杂形状的场合，也有可能气体G没有以均匀的流速分布从开口部15被吹出。在该场合，也可以通过在吹出口11的气体出口的部分构成过滤器、烧结体、冲孔金属等来提高气体出口的压力损失，以均匀的流速分布吹出气体G。

导风构件16构成为相对于吹出口11将气体G的一部分遮蔽，能向间隙14引导气体G。例如像图2(a)、图2(b)所示那样，在从正面观看吹出口11(从Y方向观看)时的平面观看时，开口部15比吹出口11小，且位于收敛在吹出口11的区域内的位置。另外，开口部15的形状即便是相对于吹出口11仅有一部分小的结构，也能将气体G的一部分遮蔽，只要能向间隙14引导气体G即可。另外，如图2(c)所示那样，罩13还可以具备第3部分163，该第3部分163从导风构件16向吹出口11的内部延伸并与框体12的不同于端面以及外侧面的内侧面(第3面)相向。通过这样延长导风构件16而使其进入框体12的内部，能更有效地将气体向间隙14引导。

在图2(a)至图2(c)中，在吹出口11的周围整体构成有导风构件16，但导风构件16也可以仅在吹出口11的一部分构成。借助导风构件16，气体G只要向间隙14的一部分被引导即可，优选的是使气体G遍及间隙14的整体。遍及整体较好的理由在于，由气体G将间隙14形成为绝热空气层和温度调节空气层。

为了使气体G遍及间隙14的整体，也可以调整罩13相对于框体12的位置，调整间隙14的大小。如图3(a)、图3(b)所示那样，气体供给装置10还可以具备调整部17，该调整部17对在由间隙14构成的流路流动的气体的流量进行调整。调整部17具有能将间隙14的大小的一部分增大或减小的调整功能，例如可由能相对于间隙在上下移动的板或块等构成。调整部17例如可以如图3(a)所示那样，通过配置在间隙14的出口部分，在该位置调整间隙14b的大小，从而对在间隙14a流动的气体G的流量或者流速进行调整。由此，能调整成气体G遍及间隙14整体。另外，调整部17例如也可以如图3(b)所示那样，通过配置在间隙14的路径的中途，在该位置调整间隙14b的大小，从而对在间隙14a流动的气体G的流量或者流速进行调整。另外，在采用图2(b)所示那样的构成的场合，可在间隙14的X方向端部配置调整部17。

根据间隙14的大小和在间隙14流动的气体G的流量或者流速，绝热效果以及温度调节效果变化。在由气体G将间隙14形成为绝热空气层和温度调节空气层的构成方面，优选的是间隙14的大小大，关于在间隙14流动的气体G的流量或者流速也优选大。可是，重要的是获取与从吹出口11向第1空间21吹出气体G的量的平衡。为了获取该平衡，调整部17是有效的。例如，若单纯地增大间隙14，则气体G从吹出口11向第1空间21吹出的量会减少。在该场合，由调整部17调整成间隙14b变小。由此，即便增大间隙14，也能借助调整部17避免从吹出口11向第1空间21吹出气体G的量减少。另外，在框体12为复杂结构的场合，有时也难以通过罩13的形状来控制间隙14的大小。在该场合，通过具备调整部17，也能调整向间隙14送入气体G的流量。

关于间隙14的具体的大小，根据气体G与第1空间21的温度差、气体G所能容许的温度变化等来确定。作为其一例，若气体G与第1空间21的温度差、气体G的温度变化的容许差例如为1/100℃～1/10℃，则间隙14的大小例如可以是1/10mm～2mm。若气体G与第1空间21的温度差例如为1/10℃～1℃，则间隙14的大小例如可以设为2mm～20mm。

＜第2实施方式＞

图5(a)及图5(b)是示出第2实施方式中的气体供给装置10的构成的图。另外，对于以下的说明没有特别提及的部位，与第1实施方式同样。

在第2实施方式中，如图5(a)、图5(b)所示那样，在框体12的附近配置排气机构18。排气机构18与第2空间22相连，将第1空间21内的气体G的至少一部分向跟第1空间21隔开的第2空间22排出。尤其是，排气机构18将经过了由间隙14形成的流路的气体G的至少一部分向第2空间22排出。由此，将由经过间隙14的气体G从第1空间21回收的热量向第2空间22排出，能防止返回第1空间21。在回收的热量返回第1空间21的场合，该热量再次到达罩13，会制造出将热量的影响带给框体12内部的机会。因而，通过防止回收的热量返回第1空间21，具有避免热量的影响传递至框体12内部的效果。因此，本实施方式的构成具有与没有排气机构18的场合相比降低朝向框体12内的气体G的温度分布的效果。

从经过前述的间隙14将回收了热量的气体G排出的观点出发，排气机构18的配置可以是框体12的附近，但优选的是由间隙14形成的流路的出口附近。另外，排气机构18的个数既可以如图5(a)所示那样为1个，也可以如图5(b)所示那样为多个。从经过间隙14将回收了热量的气体G排出的观点出发，更优选的是能与间隙14的多个出口对应地配置多个。另外，也可以如图6所示那样构成为在间隙14的出口处将排气机构18与间隙14直接连接。

＜第3实施方式＞

在上述的第1及第2实施方式中，说明的是气体供给装置10的罩13全部都包含在第1空间21中的形式。但是，也可以是以罩13的一部分位于第1空间21且一部分位于第2空间22的方式配置气体供给装置10。图4是图1的变形例。在图4的例子中，罩13的前端部(即由间隙14形成的流路的入口)与第1空间21连通。另一方面，罩13的后端部(即由间隙14形成的流路的出口)从将第1空间21和第2空间22分隔的壁31朝第2空间22侧突出，与第2空间22连通。在该场合，由于由经过间隙14的气体G回收的热量直接向第2空间22被排出，所以，对降低第1空间21内的热量影响更为有用。

图7是示出为了对曝光装置中的第1空间21a的整体进行空气调节而配置在基板工作台4附近的气体供给装置10的例子的图。如图7所示那样，气体供给装置10配置在形成第1空间21a的壁或者第1空间21a与第2空间22的交界面上。气体G的一部分经过框体12c而流向第1光路34a。气体G的一部分经过框体12c也流向投影光学系统2与基板工作台4之间。另外，气体供给装置10也可以分别配置在形成第1空间21a的壁或者交界面的一个侧面和另外的侧面上。例如，如图8所示那样，也可以在相互正交的壁上分别配置气体供给装置10。从气体供给装置10供给的气体G由排气机构18向第2空间22排出。另外，在第1空间21a的密闭度不高的场合，气体G也可以从第1空间21a的间隙向第2空间22漏出。根据本实施方式，能通过气体供给装置10使从气体的吹出口11流出的气体G的温度分布降低(均匀化)。由此，经过框体12c的气体G的温度分布降低。因而，第1光路34a中的温度分布降低，温度波动降低。

参照图9(a)及图9(b)对曝光装置中的气体供给装置10的配置例进行说明。在图9(a)的例子中，气体供给装置10配置在将第1空间21a和第2空间22分隔的壁31的开口部。在图9(a)的例子中，通过由罩13形成的间隙14构成的流路的入口位于第1空间21a，另一方面，通过由罩13形成的间隙14构成的流路的出口位于第2空间22。在图9(b)的例子中，气体供给装置10的整体配置于第2空间22。在该场合，气体G的吹出口11(以及罩的开口部)与形成于壁31的开口部接近地配置，气体供给装置10经由该开口部向第1空间21a供给气体。图9(a)是能更高效地排出经过间隙14的气体G所回收的热量的构成。另一方面，根据图9(b)的构成，气体供给装置10能有效地将第2空间22的温度分布降低了的气体G向第1空间21a供给。

＜第4实施方式＞

在图10中示出第4实施方式中的气体供给装置10的构成例。图10是示出为了对曝光装置中的第1空间21a的整体进行空气调节而配置在基板工作台4附近的气体供给装置10的例子的图。气体供给装置10具有框体12c(第2框体)，该框体12c也如图12及图7所示那样，从吹出口11起在作为第1测量器8a的测量光的光路的第1光路34a的上方延伸，形成为将从吹出口11吹出的气体G向第1光路34a引导。

气体供给装置10由于配置在第1光路34a的附近，所以，容易受到第1光路34a的附近的温度变化的影响。于是，在第4实施方式中，如图10所示那样，在第1光路34a与框体12c之间的高度位置以包围框体12c的外侧的一部分的方式配置罩13a。罩13a可相对于由框体12c构成的吹出口具备与图1、图2(a)至图2(c)等说明的罩13同样的构成。由此，能降低在罩13a的内部(即框体12c的内部)的气体G产生温度分布的情形。

＜第5实施方式＞

上述的图7或图9(a)及图9(b)等所示的气体供给装置的构成例关于为了对曝光装置中的第1空间21a的整体进行空气调节而配置在基板工作台4附近的气体供给装置10进行说明。可是，这些构成也同样能应用于为了对曝光装置中的第1空间21b的整体进行空气调节而配置在原版工作台3附近的气体供给装置10。

作为一例，在图11中示出了为了对曝光装置中的第1空间21b的整体进行空气调节而配置在原版工作台3附近的气体供给装置10的构成例。原版工作台3、第2测量器8b配置在第1空间21b内。由气体供给装置10向第1空间21b供给来自空调机7的气体G。相对于第1空间21b的气体G的吹出口11由框体12b构成，相对于第2测量器8b的第2光路34b的气体G的吹出口由框体12d构成。第1空间21b内的气体G由排气机构18向第2空间22排出，气体G的一部分返回空调机7。在第1空间21b中，有以原版工作台3中的促动器等为起因的热源。

在图11中，罩13包围框体12b的侧面的至少一部分并配置成覆盖框体12b。罩13在与框体12b之间设置间隙14并配置成覆盖框体12b。

这样，对于配置在原版工作台3附近的气体供给装置10，也能与有关图1说明的构成同样地构成，能针对以原版工作台3为起因的热量加以有效应对。

另外，也可以将第4实施方式所涉及的图10的构成引用到配置在原版工作台3附近的气体供给装置10中。即，也可以在第2光路34b与框体14d之间的高度位置以包围框体12d的外侧的一部分的方式配置罩13a。由此，尤其是能降低因第2光路34b附近的温度变化导致在罩13a的内部(即框体12d的内部)的气体G产生温度分布的情形。

＜物品制造方法的实施方式＞

本发明的实施方式中的物品制造方法例如适于制造半导体器件等微型器件或具有微细结构的元件等物品。本实施方式的物品制造方法可包括利用上述的光刻装置(曝光装置或压印装置、刻画装置等)向基板转印原版的图形来进行图形形成的工序以及对通过该工序转因了图形的基板进行加工的工序。进而，该制造方法可包括其他周知的工序(氧化、成膜、蒸镀、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、划片、贴合、封装等)。本实施方式的物品制造方法相比以往的方法在物品的性能、品质、生产性、生产成本中的至少一个方面是有利的。

发明并不限制于上述实施方式，在不脱离发明的构思以及范围的情况下能进行各种变更以及变形。因此，为了公开发明的范围而附以权利要求书。

附图标记的说明

10：气体供给装置，11：吹出口，12：框体，13：罩，14：间隙，15：开口部，16：导风构件。

Claims (15)

1.一种气体供给装置，其特征在于，

上述气体供给装置具备：

框体，该框体构成气体的吹出口；以及

罩，该罩在与上述框体之间设有间隙并覆盖上述框体，

上述罩具有开口部，该开口部使从上述吹出口吹出的气体经过，

在从正面观看上述吹出口时的平面观看时，上述开口部比上述吹出口小且位于收敛在上述吹出口的区域内的位置，

上述罩具有：第1部分，该第1部分在上述平面观看时与上述吹出口的一部分以及上述框体的第1面相向，并形成上述开口部；以及第2部分，该第2部分从上述第1部分延伸，并与上述框体的不同于上述第1面的第2面相向，

上述第1部分将从上述吹出口吹出的气体的一部分向上述间隙引导，上述间隙构成由上述第1部分引导的气体的流路。

2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述间隙设在上述第1面与上述第1部分之间以及上述框体的上述第2面与上述第2部分之间。

3.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述间隙设在上述第1面与上述第1部分之间，而不设在上述框体的上述第2面与上述第2部分之间。

4.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述罩还具有第3部分，该第3部分从上述第1部分向上述吹出口的内部延伸，并与不同于上述第1面以及上述第2面的上述框体的第3面相向。

5.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述气体供给装置还具有调整部，该调整部对在上述间隙流动的气体的流量进行调整。

6.一种光刻装置，该光刻装置在基板上形成图形，其特征在于，

上述光刻装置具有：

基板工作台，该基板工作台保持上述基板并移动；

测量器，该测量器射出测量光，利用由上述基板工作台反射的测量光来测量上述基板工作台的位置；以及

权利要求1至5中任一项所述的气体供给装置，

上述气体供给装置配置成将从上述吹出口经由上述开口部吹出的气体向包含上述基板工作台以及上述测量器的第1空间供给。

7.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述光刻装置还具有排气机构，该排气机构将上述第1空间内的气体的至少一部分向跟上述第1空间隔开的第2空间排出。

8.如权利要求7所述的光刻装置，其特征在于，

上述气体供给装置配置于上述第1空间，上述排气机构将经过上述流路的气体向上述第2空间排出。

9.如权利要求8所述的光刻装置，其特征在于，

上述流路的出口与上述排气机构连接。

10.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述流路的入口与上述第1空间连通，上述流路的出口与跟上述第1空间隔开的第2空间连通。

11.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述光刻装置具有将上述第1空间与第2空间隔开的壁，

上述气体供给装置配置于上述第2空间，经由形成于上述壁的开口向上述第1空间供给气体。

12.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述框体包括第2框体，该第2框体从上述吹出口在上述测量光的光路的上方延伸，并形成为将从上述吹出口吹出的气体向上述光路引导，

上述罩进而配置在上述光路与上述第2框体之间的高度位置。

13.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述气体供给装置将由空调机进行了温度调节的气体向上述第1空间供给。

14.一种光刻装置，该光刻装置使用原版在基板上形成图形，其特征在于，

上述光刻装置具有：

原版工作台，该原版工作台保持上述原版并移动；

测量器，该测量器射出测量光，利用由上述原版工作台反射的测量光来测量上述原版工作台的位置；以及

权利要求1至5中任一项所述的气体供给装置，

上述气体供给装置配置成将从上述吹出口经由上述开口部吹出的气体向包含上述原版工作台以及上述测量器的第1空间供给。

15.一种物品制造方法，其特征在于，

上述物品制造方法具有：

利用权利要求6至14中任一项所述的光刻装置对基板进行图形形成的工序；以及

对进行过上述图形形成的上述基板进行加工的工序，

从进行过上述加工的上述基板制造物品。

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