CN114144901A - 有机发光器件 - Google Patents
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- CN114144901A CN114144901A CN202180004501.5A CN202180004501A CN114144901A CN 114144901 A CN114144901 A CN 114144901A CN 202180004501 A CN202180004501 A CN 202180004501A CN 114144901 A CN114144901 A CN 114144901A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 288
- -1 naphthylphenyl Chemical group 0.000 claims description 137
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 75
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical group [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 6
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 6
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004556 carbazol-9-yl group Chemical group C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3N(C12)* 0.000 claims description 2
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 172
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 136
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 134
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 120
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 114
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 96
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 67
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 67
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 67
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 63
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 60
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 58
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 51
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 48
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 48
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N palladium;tritert-butylphosphane Chemical compound [Pd].CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 27
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 18
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 11
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 10
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 4
- ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N [2-(3-phenylphenoxy)-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound C1(=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005241 heteroarylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N (1s,2s,3r,4r)-3-[[5-chloro-2-[(1-ethyl-6-methoxy-2-oxo-4,5-dihydro-3h-1-benzazepin-7-yl)amino]pyrimidin-4-yl]amino]bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide Chemical compound CCN1C(=O)CCCC2=C(OC)C(NC=3N=C(C(=CN=3)Cl)N[C@H]3[C@H]([C@@]4([H])C[C@@]3(C=C4)[H])C(N)=O)=CC=C21 GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVFJWYZMQAEBMO-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[h]quinolin-10-one Chemical compound C1=CNC2=C3C(=O)C=CC=C3C=CC2=C1 ZVFJWYZMQAEBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQKGQNSCKJPIJ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxy-N-[2-(2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl)ethyl]benzamide Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)OC=1C=C(C(=O)NCCN2C(OCC2)=O)C=CC=1 FVQKGQNSCKJPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000006027 3-methyl-1-butenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical compound C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical compound NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N SnO2 Inorganic materials O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005332 alkyl sulfoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N anthracene-9,10-dione;methane Chemical compound C.C.C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001691 aryl alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003609 aryl vinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003943 azolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- IHZHBWRUTRZTGM-UHFFFAOYSA-N benzo[h]quinolin-10-ol zinc Chemical compound [Zn].Oc1cccc2ccc3cccnc3c12.Oc1cccc2ccc3cccnc3c12 IHZHBWRUTRZTGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 238000011097 chromatography purification Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical class C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical group [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N phenylboron Chemical group [B]C1=CC=CC=C1 XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JLBRGNFGBDNNSF-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)borane Chemical group CB(C)C(C)(C)C JLBRGNFGBDNNSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical group CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N trimethylborane Chemical group CB(C)C WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical group C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- C07C211/43—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
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- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
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- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
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Abstract
本发明提供一种有机发光器件。
Description
技术领域
与相关申请的相互引用
本申请主张基于2020年4月9日的韩国专利申请第10-2020-0043573号和2021年4月8日的韩国专利申请第10-2021-0046081号的优先权，包含该韩国专利申请的文献中公开的全部内容作为本说明书的一部分。
本发明涉及有机发光器件。
背景技术
通常情况下，有机发光现象是指利用有机物质将电能转换为光能的现象。利用有机发光现象的有机发光器件具有宽视角、优异的对比度、快速响应时间，亮度、驱动电压和响应速度特性优异，因此正在进行大量的研究。
有机发光器件通常具有包括阳极和阴极以及位于上述阳极与阴极之间的有机物层的结构。为了提高有机发光器件的效率和稳定性，上述有机物层大多情况下由分别利用不同的物质构成的多层结构形成，例如，可以由空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等形成。对于这样的有机发光器件的结构而言，如果在两电极之间施加电压，则空穴从阳极注入有机物层，电子从阴极注入有机物层，当所注入的空穴和电子相遇时会形成激子(exciton)，该激子重新跃迁至基态时就会发出光。
对用于如上所述的有机发光器件的有机物，持续要求开发新的材料。
现有技术文献
专利文献
(专利文献0001)韩国专利公开号第10-2000-0051826号
发明内容
技术课题
本发明涉及改善了驱动电压、效率和寿命的有机发光器件。
课题的解决方法
为了解决上述课题，本发明提供下述的有机发光器件：
一种有机发光器件，其中，包括：
阳极、阴极、以及上述阳极与阴极之间的发光层，
上述发光层包含由下述化学式1表示的化合物和由下述化学式2表示的化合物：
[化学式1]
在上述化学式1中，
L1为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
L2和L3各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
Ar1和Ar2各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基；或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C5-60杂芳基，
R为氢、氘、或者取代或未取代的C6-60芳基，
[化学式2]
在上述化学式2中，
L4和L5各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
Ar3至Ar6各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基、或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C5-60杂芳基。
发明效果
上述有机发光器件的驱动电压、效率和寿命优异。
附图说明
图1图示了由基板1、阳极2、发光层3和阴极4构成的有机发光器件的例子。
图2图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。
具体实施方式
下面，为了帮助理解本发明而更详细地进行说明。
在本说明书中，
表示与其它取代基连接的键。
在本说明书中，“取代或未取代的”这一用语是指被选自氘；卤素基团；腈基；硝基；羟基；羰基；酯基；酰亚胺基；氨基；氧化膦基；烷氧基；芳氧基；烷基硫氧基(Alkyl thioxy)；芳基硫氧基(Aryl thioxy)；烷基磺酰基(Alkyl sulfoxy)；芳基磺酰基(Aryl sulfoxy)；甲硅烷基；硼基；烷基；环烷基；烯基；芳基；芳烷基；芳烯基；烷基芳基；烷基胺基；芳烷基胺基；杂芳基胺基；芳基胺基；芳基膦基；或者包含N、O和S原子中的1个以上的杂环基中的1个以上的取代基取代或未取代，或者被上述例示的取代基中的2个以上的取代基连接而成的取代或未取代。例如，“2个以上的取代基连接而成的取代基”可以为联苯基。即，联苯基可以为芳基，也可以被解释为2个苯基连接而成的取代基。
在本说明书中，羰基的碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为1至40。具体而言，可以为如下结构的化合物，但并不限定于此。
在本说明书中，酯基中，酯基的氧可以被碳原子数1至25的直链、支链或环状的烷基、或者碳原子数6至25的芳基取代。具体而言，可以为下述结构式的化合物，但并不限定于此。
在本说明书中，酰亚胺基的碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为1至25。具体而言，可以为如下结构的化合物，但并不限定于此。
在本说明书中，甲硅烷基具体有三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、乙烯基二甲基甲硅烷基、丙基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、二苯基甲硅烷基、苯基甲硅烷基等，但并不限定于此。
在本说明书中，硼基具体有三甲基硼基、三乙基硼基、叔丁基二甲基硼基、三苯基硼基、苯基硼基等，但并不限定于此。
在本说明书中，作为卤素基团的例子，有氟、氯、溴或碘。
在本说明书中，上述烷基可以为直链或支链，碳原子数没有特别限定，但优选为1至40。根据一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至20。根据另一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至10。根据另一实施方式，上述烷基的碳原子数为1至6。作为烷基的具体例，有甲基、乙基、丙基、正丙基、异丙基、丁基、正丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、1-甲基-丁基、1-乙基-丁基、戊基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、4-甲基-2-戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、环戊基甲基、环己基甲基、辛基、正辛基、叔辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基-丙基、1,1-二甲基-丙基、异己基、2-甲基戊基、4-甲基己基、5-甲基己基等，但并不限定于此。
在本说明书中，上述烯基可以为直链或支链，碳原子数没有特别限定，但优选为2至40。根据一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至20。根据另一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至10。根据另一实施方式，上述烯基的碳原子数为2至6。作为具体例，有乙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯-1-基、2-苯基乙烯-1-基、2,2-二苯基乙烯-1-基、2-苯基-2-(萘-1-基)乙烯-1-基、2,2-双(二苯-1-基)乙烯-1-基、茋基、苯乙烯基等，但并不限定于此。
在本说明书中，环烷基没有特别限定，但优选为碳原子数3至60的环烷基，根据一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至30。根据另一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至20。根据另一实施方式，上述环烷基的碳原子数为3至6。具体而言，有环丙基、环丁基、环戊基、3-甲基环戊基、2,3-二甲基环戊基、环己基、3-甲基环己基、4-甲基环己基、2,3-二甲基环己基、3,4,5-三甲基环己基、4-叔丁基环己基、环庚基、环辛基等，但并不限定于此。
在本说明书中，芳基没有特别限定，但优选为碳原子数6至60的芳基，可以为单环芳基或多环芳基。根据一实施方式，上述芳基的碳原子数为6至30。根据一实施方式，上述芳基的碳原子数为6至20。关于上述芳基，作为单环芳基，可以为苯基、联苯基、三联苯基等，但并不限定于此。作为上述多环芳基，可以为萘基、蒽基、菲基、芘基、苝基、
基、芴基等，但并不限定于此。
在本说明书中，芴基可以被取代，2个取代基可以彼此
等。但并不限定于此。
在本说明书中，杂环基是包含O、N、Si和S中的1个以上作为杂元素的杂环基，碳原子数没有特别限定，但优选碳原子数为2至60。作为杂环基的例子，有噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、
唑基、
二唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、嘧啶基、三嗪基、吖啶基、哒嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、酞嗪基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡嗪并吡嗪基、异喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并
唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并咔唑基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、苯并呋喃基、菲咯啉基(phenanthroline)、异
唑基、噻二唑基、吩噻嗪基和二苯并呋喃基等，但不仅限于此。
在本说明书中，芳烷基、芳烯基、烷基芳基、芳基胺基中的芳基与上述芳基的例示相同。在本说明书中，芳烷基、烷基芳基、烷基胺基中的烷基与上述烷基的例示相同。在本说明书中，杂芳基胺中的杂芳基可以适用上述的关于杂环基的说明。在本说明书中，芳烯基中的烯基与上述烯基的例示相同。在本说明书中，亚芳基为2价基团，除此以外，可以适用上述的关于芳基的说明。在本说明书中，亚杂芳基为2价基团，除此以外，可以适用上述的关于杂环基的说明。在本说明书中，烃环不是1价基团，而是2个取代基结合而成，除此以外，可以适用上述的关于芳基或环烷基的说明。在本说明书中，杂环不是1价基团，而是2个取代基结合而成，除此以外，可以适用上述的关于杂环基的说明。
下面，按照各构成对本发明详细地进行说明。
阳极和阴极
本发明中使用的阳极和阴极是指在有机发光器件中使用的电极。
作为上述阳极物质，通常为了使空穴能够顺利地向有机物层注入，优选为功函数大的物质。作为上述阳极物质的具体例，有钒、铬、铜、锌、金等金属或它们的合金；氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等金属氧化物；ZnO:Al或SnO2:Sb等金属与氧化物的组合；聚(3-甲基噻吩)、聚[3,4-(亚乙基-1,2-二氧)噻吩](PEDOT)、聚吡咯和聚苯胺等导电性高分子等，但不仅限于此。
作为上述阴极物质，通常为了使电子容易地向有机物层注入，优选为功函数小的物质。作为上述阴极物质的具体例，有镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡和铅等金属或它们的合金；LiF/Al或LiO2/Al等多层结构物质等，但不仅限于此。
发光层
本发明中使用的发光层是指能够使从阳极和阴极接收的空穴和电子结合而发出可见区域的光的层。通常情况下，发光层包含主体材料和掺杂剂材料，在本发明中包含由上述化学式1表示的化合物和由上述化学式2表示的化合物作为主体。
优选地，上述化学式1由下述化学式1-1至1-4中的任一个表示。
[化学式1-1]
[化学式1-2]
[化学式1-3]
[化学式1-4]
在上述化学式1-1至1-4中，L1至L3、Ar1、Ar2和R与上述的定义相同。
优选地，L1为单键、亚苯基或亚萘基。更优选地，L1为单键、
优选地，L2和L3各自独立地为单键、亚苯基或亚萘基。
优选地，Ar1和Ar2各自独立地为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、三亚苯基、萘基苯基、苯基萘基、二甲基芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、咔唑-9-基、或9-苯基-9H-咔唑基，上述Ar1和Ar2各自独立地未被取代、或者被一个以上的氘取代。
优选地，R为氢、氘、苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、二苯并呋喃基、或二苯并噻吩基。
由上述化学式1表示的化合物的代表性的例子如下所示。
另外，本发明提供如下述反应式1所示的由上述化学式1表示的化合物的制造方法。
[反应式1]
在上述反应式1中，除了X以外的其余的定义与上述的定义相同，X为卤素，更优选地，各自独立地为氟、氯或溴。
上述各反应为铃木偶联反应，优选在钯催化剂和碱的存在下进行，用于铃木偶联反应的反应基团可以根据本技术领域中已知的技术进行变更。上述制造方法可以在后述的制造例中更具体化。
在上述化学式2中，优选地，L4和L5各自独立地为单键或亚苯基。
优选地，Ar3至Ar6各自独立地为苯基、联苯基、萘基、苯基萘基、萘基苯基、二甲基芴基、二苯并呋喃基、(二苯并呋喃基)苯基、二苯并噻吩基或(二苯并噻吩基)苯基。
由上述化学式2表示的化合物的代表性的例子如下所示。
另外，本发明提供如下述反应式2所示的由上述化学式2表示的化合物的制造方法。
[反应式2]
在上述反应式2中，各定义与上述的定义相同。
上述反应为铃木偶联反应，优选在钯催化剂和碱的存在下进行，用于铃木偶联反应的反应基团可以根据本技术领域中已知的技术进行变更。此外，在上述反应式2中，L5或L6为单键时，-L5-B(OH)2和-L6-B(OH)2各自可以为-H，这时作为胺取代反应进行反应。上述制造方法可以在后述的制造例中更具体化。
在上述发光层中，由上述化学式1表示的化合物和由上述化学式2表示的化合物的重量比为1:99至99:1、5:95至95:5、或者10:90至90:10。
上述掺杂剂材料只要是用于有机发光器件的物质，就没有特别限制。作为一个例子，有芳香族胺衍生物、苯乙烯基胺化合物、硼配合物、荧蒽化合物、金属配合物等。具体而言，芳香族胺衍生物是具有取代或未取代的芳基氨基的芳香族稠环衍生物，有具有芳基氨基的芘、蒽、
二茚并芘等，苯乙烯基胺化合物是在取代或未取代的芳基胺上取代有至少1个芳基乙烯基的化合物，被选自芳基、甲硅烷基、烷基、环烷基和芳基氨基中的1个或2个以上的取代基取代或未取代。具体而言，有苯乙烯基胺、苯乙烯基二胺、苯乙烯基三胺、苯乙烯基四胺等，但并不限定于此。此外，作为金属配合物，有铱配合物、铂配合物等，但并不限定于此。
空穴传输层
根据本发明的有机发光器件可以在上述电子抑制层与阳极之间包括空穴传输层。
上述空穴传输层是接收来自空穴注入层的空穴并将空穴传输至发光层的层，空穴传输物质是能够从阳极或空穴注入层接收空穴并将其转移至发光层的物质，对空穴的迁移率大的物质是合适的。
作为上述空穴传输物质的具体例，有芳基胺系有机物、导电性高分子、以及同时存在共轭部分和非共轭部分的嵌段共聚物等，但不仅限于此。
空穴注入层
根据本发明的有机发光器件可以根据需要而在上述阳极与空穴传输层之间进一步包括空穴注入层。
上述空穴注入层是注入来自电极的空穴的层，作为空穴注入物质，优选为如下化合物：具有传输空穴的能力，具有注入来自阳极的空穴的效果，具有对于发光层或发光材料的优异的空穴注入效果，防止发光层中生成的激子向电子注入层或电子注入材料迁移，而且薄膜形成能力优异的化合物。此外，优选空穴注入物质的HOMO(最高占有分子轨道，highest occupied molecular orbital)介于阳极物质的功函数与周围有机物层的HOMO之间。
作为空穴注入物质的具体例，有金属卟啉(porphyrin)、低聚噻吩、芳基胺系有机物、六腈六氮杂苯并菲系有机物、喹吖啶酮(quinacridone)系有机物、苝(perylene)系有机物、蒽醌及聚苯胺和聚噻吩系的导电性高分子等，但不仅限于此。
电子传输层
根据本发明的有机发光器件可以在上述发光层与阴极之间包括电子传输层。
上述电子传输层是接收来自阴极或形成在阴极上的电子注入层的电子并将电子传输至发光层，而且抑制空穴从发光层中的传递的层，电子传输物质是能够从阴极良好地接收电子并将其转移至发光层的物质，对电子的迁移率大的物质是合适的。
作为上述电子传输物质的具体例，有8-羟基喹啉的Al配合物、包含Alq3的配合物、有机自由基化合物、羟基黄酮-金属配合物等，但不仅限于此。电子传输层可以如现有技术中所使用的那样与任意期望的阴极物质一同使用。特别是，合适的阴极物质的例子是具有低功函数且伴有铝层或银层的通常的物质。具体为铯、钡、钙、镱和钐等，在各情况下均伴有铝层或银层。
电子注入层
根据本发明的有机发光器件可以根据需要而在上述电子传输层与阴极之间进一步包括电子注入层。
上述电子注入层是注入来自电极的电子的层，优选使用如下化合物：具有传输电子的能力，具有注入来自阴极的电子的效果，具有对于发光层或发光材料的优异的电子注入效果，防止发光层中生成的激子向空穴注入层迁移，而且薄膜形成能力优异的化合物。
作为可以在上述电子注入层中使用的物质的具体例，有芴酮、蒽醌二甲烷、联苯醌、噻喃二氧化物、
唑、
二唑、三唑、咪唑、苝四羧酸、亚芴基甲烷、蒽酮等和它们的衍生物、金属配位化合物和含氮五元环衍生物等，但并不限定于此。
作为上述金属配位化合物，有8-羟基喹啉锂、双(8-羟基喹啉)锌、双(8-羟基喹啉)铜、双(8-羟基喹啉)锰、三(8-羟基喹啉)铝、三(2-甲基-8-羟基喹啉)铝、三(8-羟基喹啉)镓、双(10-羟基苯并[h]喹啉)铍、双(10-羟基苯并[h]喹啉)锌、双(2-甲基-8-喹啉)氯化镓、双(2-甲基-8-喹啉)(邻甲酚)镓、双(2-甲基-8-喹啉)(1-萘酚)铝、双(2-甲基-8-喹啉)(2-萘酚)镓等，但并不限定于此。
有机发光器件
将根据本发明的有机发光器件的结构例示于图1。图1图示了由基板1、阳极2、发光层3和阴极4构成的有机发光器件的例子。此外，图2图示了由基板1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4构成的有机发光器件的例子。
根据本发明的有机发光器件可以通过依次层叠上述的构成而制造。这时可以如下制造：利用溅射法(sputtering)或电子束蒸发法(e-beam evaporation)之类的PVD(physical Vapor Deposition：物理气相沉积)方法，在基板上蒸镀金属或具有导电性的金属氧化物或它们的合金而形成阳极，然后在该阳极上形成上述的各层，之后在其上蒸镀可用作阴极的物质而制造。
除了这种方法以外，还可以在基板上以上述构成的反向顺序从阴极物质依次蒸镀到阳极物质而制造有机发光器件(WO 2003/012890)。此外，不仅可以利用真空蒸镀法，还可以利用溶液涂布法将主体和掺杂剂形成为发光层。在这里，所谓溶液涂布法是指旋涂法、浸涂法、刮涂法、喷墨印刷法、丝网印刷法、喷雾法、辊涂法等，但不仅限于此。
另一方面，根据所使用的材料，根据本发明的有机发光器件可以为顶部发光型、底部发光型或双向发光型。
根据本发明的有机发光器件的制造在下面的实施例中具体地进行说明。但是，下述实施例用于例示本发明，本发明的范围并不限定于此。
[制造例]
制造例1-1
在氮气氛下，将化合物Trz1(15g，40.8mmol)和化合物A(11.2g，42.8mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(16.9g，122.3mmol)溶解于水(51ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.9g的化合物1-1。(收率71％，MS:[M+H]+＝550)
制造例1-2
在氮气氛下，将化合物Trz2(15g，35.9mmol)和化合物A(9.9g，37.7mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.9g，107.7mmol)溶解于水(45ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.1g的化合物1-2。(收率61％，MS:[M+H]+＝600)
制造例1-3
在氮气氛下，将化合物Trz3(15g，35.7mmol)和化合物A(9.8g，37.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.8g，107.2mmol)溶解于水(44ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.7g的化合物1-3。(收率73％，MS:[M+H]+＝602)
制造例1-4
在氮气氛下，将化合物Trz4(15g，38.1mmol)和化合物A(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.8g的化合物1-4。(收率63％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-5
在氮气氛下，将化合物Trz5(15g，38.1mmol)和化合物A(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.6g的化合物1-5。(收率62％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-6
在氮气氛下，将化合物Trz6(15g，41.9mmol)和化合物A(11.5g，44mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(17.4g，125.8mmol)溶解于水(52ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14g的化合物1-6。(收率62％，MS:[M+H]+＝540)
制造例1-7
在氮气氛下，将化合物Trz7(15g，39.1mmol)和化合物A(10.8g，41mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(16.2g，117.2mmol)溶解于水(49ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14.1g的化合物1-7。(收率64％，MS:[M+H]+＝566)
制造例1-8
在氮气氛下，将化合物Trz8(15g，34.6mmol)和化合物A(9.5g，36.4mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.4g，103.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14.5g的化合物1-8。(收率68％，MS:[M+H]+＝615)
制造例1-9
在氮气氛下，将化合物Trz9(15g，38.1mmol)和化合物A(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了17.5g的化合物1-9。(收率80％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-10
在氮气氛下，将化合物Trz10(15g，34.6mmol)和化合物A(9.5g，36.3mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.3g，103.7mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14g的化合物1-10。(收率65％，MS:[M+H]+＝626)
制造例1-11
在氮气氛下，将化合物Trz11(15g，56mmol)和化合物B(16.6g，56mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.5g，112.1mmol)溶解于水(46ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.6mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了19.5g的化合物物质(sub)B-1。(收率72％，MS:[M+H]+＝484)
在氮气氛下，将化合物物质B-1(15g，31mmol)和化合物物质1(5.6g，32.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(12.9g，93mmol)溶解于水(39ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14.3g的化合物1-11。(收率80％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-12
在氮气氛下，将化合物Trz9(15g，38.1mmol)和化合物B(11.3g，38.1mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(10.5g，76.2mmol)溶解于水(32ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了16.7g的化合物物质B-2。(收率72％，MS:[M+H]+＝610)
在氮气氛下，将化合物物质B-2(15g，24.6mmol)和化合物物质2(3.1g，25.8mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(10.2g，73.8mmol)溶解于水(31ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了11.7g的化合物1-12。(收率73％，MS:[M+H]+＝652)
制造例1-13
在氮气氛下，将化合物物质B-1(15g，31mmol)和化合物物质3(6.9g，32.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(12.9g，93mmol)溶解于水(39ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.7g的化合物1-13。(收率72％，MS:[M+H]+＝616)
制造例1-14
在氮气氛下，将化合物物质B-1(15g，31mmol)和化合物物质4(7.4g，32.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(12.9g，93mmol)溶解于水(39ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.9g的化合物1-14。(收率71％，MS:[M+H]+＝633)
制造例1-15
在氮气氛下，将化合物Trz11(15g，56mmol)和化合物C(16.6g，56mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.5g，112.1mmol)溶解于水(46ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.6mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了16.2g的化合物物质C-1。(收率60％，MS:[M+H]+＝484)
在氮气氛下，将化合物物质C-1(15g，31mmol)和化合物物质5(6.9g，32.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(12.9g，93mmol)溶解于水(39ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了12.8g的化合物1-15。(收率67％，MS:[M+H]+＝616)
制造例1-16
在氮气氛下，将化合物Trz12(15g，40.1mmol)和化合物B(11.9g，40.1mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(11.1g，80.2mmol)溶解于水(33ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14.7g的化合物物质B-3。(收率62％，MS:[M+H]+＝590)
在氮气氛下，将化合物物质B-3(15g，25.4mmol)和化合物物质6(5.3g，26.7mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(10.5g，76.3mmol)溶解于水(32ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了10.8g的化合物1-16。(收率60％，MS:[M+H]+＝708)
制造例1-17
在氮气氛下，将化合物Trz13(15g，43.6mmol)和化合物C(12.9g，43.6mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(12.1g，87.3mmol)溶解于水(36ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了16.8g的化合物物质C-2。(收率69％，MS:[M+H]+＝560)
在氮气氛下，将化合物物质C-2(15g，26.8mmol)和化合物物质1(4.8g，28.1mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(11.1g，80.3mmol)溶解于水(33ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14g的化合物1-17。(收率80％，MS:[M+H]+＝652)
制造例1-18
在氮气氛下，将化合物Trz6(15g，41.9mmol)和化合物D(12.4g，41.9mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(11.6g，83.8mmol)溶解于35ml的水而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了17.3g的化合物物质D-1。(收率72％，MS:[M+H]+＝574)
在氮气氛下，将化合物物质D-1(15g，26.1mmol)和化合物物质2(3.3g，27.4mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(10.8g，78.4mmol)溶解于水(33ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了10.5g的化合物1-18。(收率62％，MS:[M+H]+＝652)
制造例1-19
在氮气氛下，将化合物Trz14(15g，31mmol)和化合物C(9.2g，31mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(8.6g，62mmol)溶解于水(26ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.2g的化合物物质C-3。(收率61％，MS:[M+H]+＝700)
在氮气氛下，将化合物物质C-3(15g，21.4mmol)和化合物物质2(2.7g，22.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(8.9g，64.3mmol)溶解于水(27ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了10.3g的化合物1-19。(收率65％，MS:[M+H]+＝742)
制造例1-20
在氮气氛下，将化合物Trz15(15g，35.7mmol)和化合物E(9.8g，37.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.8g，107.2mmol)溶解于水(44ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.7g的化合物1-20。(收率73％，MS:[M+H]+＝602)
制造例1-21
在氮气氛下，将化合物Trz16(15g，35.7mmol)和化合物E(9.8g，37.5mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.8g，107.2mmol)溶解于水(44ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14g的化合物1-21。(收率65％，MS:[M+H]+＝602)
制造例1-22
在氮气氛下，将化合物Trz17(15g，38.1mmol)和化合物E(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.6g的化合物1-22。(收率62％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-23
在氮气氛下，将化合物Trz18(15g，39.1mmol)和化合物E(10.8g，41mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(16.2g，117.2mmol)溶解于水(49ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.9g的化合物1-23。(收率63％，MS:[M+H]+＝566)
制造例1-24
在氮气氛下，将化合物Trz19(15g，35.9mmol)和化合物F(9.9g，37.7mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.9g，107.7mmol)溶解于水(45ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.8g的化合物1-24。(收率64％，MS:[M+H]+＝600)
制造例1-25
在氮气氛下，将化合物Trz20(15g，38.1mmol)和化合物F(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.4g的化合物1-25。(收率61％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-26
在氮气氛下，将化合物Trz21(15g，41.9mmol)和化合物F(11.5g，44mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(17.4g，125.8mmol)溶解于水(52ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.1g的化合物1-26。(收率67％，MS:[M+H]+＝540)
制造例1-27
在氮气氛下，将化合物Trz22(15g，42mmol)和化合物F(11.6g，44.1mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(17.4g，126.1mmol)溶解于水(52ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.2g的化合物1-27。(收率67％，MS:[M+H]+＝539)
制造例1-28
在氮气氛下，将化合物Trz23(15g，38.1mmol)和化合物G(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应9小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了16.9g的化合物1-28。(收率77％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-29
在氮气氛下，将化合物Trz24(15g，38.1mmol)和化合物G(10.5g，40mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(15.8g，114.3mmol)溶解于水(47ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.3g的化合物1-29。(收率70％，MS:[M+H]+＝576)
制造例1-30
在氮气氛下，将化合物Trz25(15g，35.4mmol)和化合物G(9.7g，37.2mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.7g，106.2mmol)溶解于水(44ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.4mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了13.3g的化合物1-30。(收率62％，MS:[M+H]+＝606)
制造例2-1
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质7(19g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了21.6g的化合物物质H-1。(收率79％，MS:[M+H]+＝532)
在氮气氛下，将化合物物质H-1(10g，18.8mmol)、化合物胺(amine)1(3.3g，19.7mmol)、叔丁醇钠(2.3g，24.4mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了7.9g的化合物2-1。(收率63％，MS:[M+H]+＝665)
制造例2-2
在氮气氛下，将化合物物质H-1(10g，18.8mmol)、化合物胺2(4.8g，19.7mmol)、叔丁醇钠(2.3g，24.4mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了8.6g的化合物2-2。(收率62％，MS:[M+H]+＝741)
制造例2-3
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质8(21.6g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了20.9g的化合物物质H-2。(收率70％，MS:[M+H]+＝582)
在氮气氛下，将化合物物质H-2(10g，17.2mmol)、化合物胺1(3.1g，18mmol)、叔丁醇钠(2.1g，22.3mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了6.3g的化合物2-3。(收率51％，MS:[M+H]+＝715)
制造例2-4
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质9(17.6g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了17.7g的化合物物质H-3。(收率68％，MS:[M+H]+＝506)
在氮气氛下，将化合物物质H-3(10g，19.8mmol)、化合物胺3(4.6g，20.7mmol)、叔丁醇钠(2.5g，25.7mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了6.8g的化合物2-4。(收率50％，MS:[M+H]+＝689)
制造例2-5
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质10(21.6g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了18.2g的化合物物质H-4。(收率61％，MS:[M+H]+＝582)
在氮气氛下，将化合物物质H-4(10g，17.2mmol)、化合物胺4(4.4g，18mmol)、叔丁醇钠(2.1g，22.3mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了7.1g的化合物2-5。(收率52％，MS:[M+H]+＝791)
制造例2-6
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质11(15g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了14.5g的化合物物质H-5。(收率62％，MS:[M+H]+＝456)
在氮气氛下，将化合物物质H-5(10g，21.9mmol)、化合物胺5(6g，23mmol)、叔丁醇钠(2.7g，28.5mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了8g的化合物2-6。(收率54％，MS:[M+H]+＝679)
制造例2-7
在氮气氛下，将化合物物质H-5(10g，21.9mmol)、化合物胺6(8.1g，23mmol)、叔丁醇钠(2.7g，28.5mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.6g的化合物2-7。(收率63％，MS:[M+H]+＝772)
制造例2-8
在氮气氛下，将化合物物质H-5(10g，21.9mmol)、化合物胺7(7.7g，23mmol)、叔丁醇钠(2.7g，28.5mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了8.3g的化合物2-8。(收率50％，MS:[M+H]+＝755)
制造例2-9
在氮气氛下，将化合物物质H-1(10g，18.8mmol)、化合物胺8(5.1g，19.7mmol)、叔丁醇钠(2.3g，24.4mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了7.7g的化合物2-9。(收率54％，MS:[M+H]+＝755)
制造例2-10
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质12(19g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了20.8g的化合物物质H-6。(收率76％，MS:[M+H]+＝532)
在氮气氛下，将化合物物质H-6(10g，18.8mmol)、化合物胺9(6.6g，19.7mmol)、叔丁醇钠(2.3g，24.4mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.8g的化合物2-10。(收率69％，MS:[M+H]+＝830)
制造例2-11
在氮气氛下，将化合物物质H-5(10g，21.9mmol)、化合物胺10(7.7g，23mmol)、叔丁醇钠(2.7g，28.5mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了10.1g的化合物2-11。(收率61％，MS:[M+H]+＝754)
制造例2-12
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质13(41.3g，113.2mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(35.6g，257.2mmol)溶解于水(107ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，1mmol)。反应8小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了31.5g的化合物2-12。(收率75％，MS:[M+H]+＝817)
制造例2-13
在氮气氛下，将化合物物质H-5(15g，28.2mmol)和化合物物质9(10.5g，31mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(11.7g，84.6mmol)溶解于水(35ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。反应12小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了16.3g的化合物2-13。(收率73％，MS:[M+H]+＝791)
制造例2-14
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质11(32.7g，113.2mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(35.6g，257.2mmol)溶解于水(107ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，1mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了24.3g的化合物2-14。(收率71％，MS:[M+H]+＝665)
制造例2-15
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质14(42.9g，113.2mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(35.6g，257.2mmol)溶解于水(107ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g，1mmol)。反应11小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了34.7g的化合物2-15。(收率80％，MS:[M+H]+＝845)
制造例2-16
在氮气氛下，将化合物H(15g，51.4mmol)和化合物物质14(19.7g，52mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(14.2g，102.9mmol)溶解于水(43ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g，0.5mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了21.6g的化合物物质H-7。(收率77％，MS:[M+H]+＝546)
在氮气氛下，将化合物物质H-7(15g，27.5mmol)和化合物物质15(11.9g，30.2mmol)加入到THF(300ml)中，搅拌及回流。然后，将碳酸钾(11.4g，82.4mmol)溶解于水(34ml)而投入，充分搅拌后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。反应10小时后，冷却至常温，将有机层和水层分离后，蒸馏有机层。将其再次溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，加入无水硫酸镁，搅拌后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而制造了15.4g的化合物2-16。(收率65％，MS:[M+H]+＝861)
制造例2-17
在氮气氛下，将化合物H(10g，34.3mmol)、化合物胺2(17.7g，72mmol)、叔丁醇钠(8.2g，85.7mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了15.9g的化合物2-17。(收率70％，MS:[M+H]+＝665)
制造例2-18
在氮气氛下，将化合物H(10g，34.3mmol)、化合物胺1(5.8g，34.3mmol)、叔丁醇钠(3.6g，37.7mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了8.3g的化合物物质H-8。(收率64％，MS:[M+H]+＝380)
在氮气氛下，将化合物物质H-8(10g，26.3mmol)、化合物胺11(8.2g，27.6mmol)、叔丁醇钠(3.3g，34.2mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了9.4g的化合物2-18。(收率56％，MS:[M+H]+＝639)
制造例2-19
在氮气氛下，将化合物物质H-8(10g，26.3mmol)、化合物胺12(9.5g，27.6mmol)、叔丁醇钠(3.3g，34.2mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.3mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了9.1g的化合物2-19。(收率50％，MS:[M+H]+＝689)
制造例2-20
在氮气氛下，将化合物H(10g，34.3mmol)、化合物胺2(8.4g，34.3mmol)、叔丁醇钠(3.6g，37.7mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g，0.3mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了9.5g的化合物物质H-9。(收率61％，MS:[M+H]+＝456)
在氮气氛下，将化合物物质H-9(10g，22mmol)、化合物胺13(6.4g，23.1mmol)、叔丁醇钠(2.7g，28.6mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g，0.2mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了7.6g的化合物2-20。(收率50％，MS:[M+H]+＝695)
制造例2-21
在氮气氛下，将化合物H(10g，34.3mmol)、化合物胺14(18.7g，72mmol)、叔丁醇钠(8.2g，85.7mmol)加入到二甲苯(200ml)中，搅拌及回流。然后，投入双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g，0.7mmol)。5小时后，反应结束时，冷却至常温，减压而去除溶剂。然后，将化合物再次完全溶解于氯仿，用水洗涤2次后，分离有机层，用无水硫酸镁处理后过滤，将滤液减压蒸馏。将浓缩的化合物用硅胶柱层析进行纯化，从而得到了14.2g的化合物2-21。(收率60％，MS:[M+H]+＝693)
[实施例]
实施例1
将ITO(氧化铟锡，indium tin oxide)以
的厚度被涂布成薄膜的玻璃基板放入溶解有洗涤剂的蒸馏水中，利用超声波进行洗涤。这时，洗涤剂使用菲希尔公司(Fischer Co.)制品，蒸馏水使用了利用密理博公司(Millipore Co.)制造的过滤器(Filter)过滤两次的蒸馏水。将ITO洗涤30分钟后，用蒸馏水重复两次而进行10分钟超声波洗涤。在蒸馏水洗涤结束后，用异丙醇、丙酮、甲醇的溶剂进行超声波洗涤并干燥后，输送至等离子体清洗机。此外，利用氧等离子体，将上述基板清洗5分钟后，将基板输送至真空蒸镀机。
在这样准备的ITO透明电极上，作为空穴注入层，将下述HI-1化合物以
的厚度形成，且将下述A-1化合物以1.5％的浓度进行p-掺杂(p-doping)。在上述空穴注入层上，将下述HT-1化合物进行真空蒸镀，从而形成膜厚度
的空穴传输层。接着，在上述空穴传输层上，以膜厚度
将下述EB-1化合物进行真空蒸镀而形成电子阻挡层。接着，在上述的EB-1蒸镀膜上，将上述制造的化合物1-2、化合物2-2(以上为主体)和下述Dp-7化合物(红色掺杂剂)以49:49:2的重量比进行真空共蒸镀，从而形成
厚度的红色发光层。在上述发光层上，以膜厚度
将下述HB-1化合物进行真空蒸镀而形成空穴阻挡层。接着，在上述空穴阻挡层上，将下述ET-1化合物和下述LiQ化合物以2:1的重量比进行真空蒸镀，从而以
的厚度形成电子注入和传输层。在上述电子注入和传输层上，依次将氟化锂(LiF)以
的厚度、将铝以
的厚度进行蒸镀，从而形成阴极。
在上述过程中，有机物的蒸镀速度维持
阴极的氟化锂维持
的蒸镀速度，铝维持
的蒸镀速度，在蒸镀时，真空度维持2×10-7～5×10-6托，从而制作了有机发光器件。
实施例2至实施例102
通过与实施例1的有机发光器件的制造方法相同的方法进行制造，且分别使用下述表1至4中记载的化合物代替化合物1-2和化合物2-2，从而制造了有机发光器件。
比较例1至124
通过与实施例1的有机发光器件的制造方法相同的方法进行制造，且分别使用下述表5至8中记载的化合物代替化合物1-2和化合物2-2，从而制造了有机发光器件。下述表5至8中记载的化合物如下所示。
对上述实施例1至102和比较例1至124中制造的有机发光器件施加电流时，测定了电压、效率(15mA/cm2基准)，将其结果示于下述表1至8。寿命T95是指亮度从初始亮度(6000尼特)减少至95％所需的时间。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
[表8]
根据本发明，将化学式1的化合物和化学式2的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，如表1至4所示，可以确认，相对于比较例，驱动电压减小，效率和寿命增加。此外，如表5和6所示，将作为比较例的化合物B-1至B-12和本发明的化学式2的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，与根据本发明的组合相比，大体上显示出驱动电压上升、效率和寿命降低的结果。此外，如表7和8所示，将作为比较例的C-1至C-12和本发明的化学式1的化合物进行共蒸镀而用作红色发光层时，与根据本发明的组合相比，同样显示出驱动电压上升、效率和寿命降低的结果。
由此可以确认本发明的作为第一主体的化学式1的化合物和作为第二主体的化学式2的化合物的组合向红色发光层内的红色掺杂剂的能量传递良好地形成，由此电压得到改善，效率和寿命提高。这可以确认是由于与和比较例化合物的组合相比，本发明的化学式1的化合物和化学式2的化合物的组合在发光层内通过更稳定的平衡，使电子与空穴结合而形成激子，从而提高效率和寿命。因此，可以确认在将本发明的化学式1的化合物和化学式2的化合物组合并进行共蒸镀而用作红色发光层的主体时，可以改善有机发光器件的驱动电压、发光效率和寿命特性。
[符号说明]
1：基板2：阳极
3：发光层4：阴极
5：空穴注入层6：空穴传输层
7：电子传输层8：电子注入层。
Claims (10)
1.一种有机发光器件，包括：
阳极、阴极、以及所述阳极与阴极之间的发光层，
所述发光层包含由下述化学式1表示的化合物和由下述化学式2表示的化合物：
化学式1
在所述化学式1中，
L1为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
L2和L3各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
Ar1和Ar2各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基；或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C5-60杂芳基，
R为氢、氘、或者取代或未取代的C6-60芳基，
化学式2
在所述化学式2中，
L4和L5各自独立地为单键、或者取代或未取代的C6-60亚芳基，
Ar3至Ar6各自独立地为取代或未取代的C6-60芳基、或者取代或未取代的包含选自N、O和S中的任一个或更多个的C5-60杂芳基。
2.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L1为单键、亚苯基或亚萘基。
3.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L1为单键、
4.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，L2和L3各自独立地为单键、亚苯基或亚萘基。
5.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，Ar1和Ar2各自独立地为苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、三亚苯基、萘基苯基、苯基萘基、二甲基芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、咔唑-9-基或9-苯基-9H-咔唑基，
所述Ar1和Ar2各自独立地未被取代、或者被一个以上的氘取代。
6.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，R为氢、氘、苯基、联苯基、三联苯基、萘基、菲基、二苯并呋喃基或二苯并噻吩基。
7.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，由所述化学式1表示的化合物为选自下述化合物中的任一个：
8.根据权利要求1所述的有机发光器件，L4和L5各自独立地为单键或亚苯基。
9.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，Ar3至Ar6各自独立地为苯基、联苯基、萘基、苯基萘基、萘基苯基、二甲基芴基、二苯并呋喃基、(二苯并呋喃基)苯基、二苯并噻吩基或(二苯并噻吩基)苯基。
10.根据权利要求1所述的有机发光器件，其中，由所述化学式2表示的化合物为选自下述化合物中的任一个：
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2020-0043573 | 2020-04-09 | ||
| KR20200043573 | 2020-04-09 | ||
| KR10-2021-0046081 | 2021-04-08 | ||
| KR1020210046081A KR102573176B1 (ko) | 2020-04-09 | 2021-04-08 | 유기 발광 소자 |
| PCT/KR2021/004492 WO2021206504A1 (ko) | 2020-04-09 | 2021-04-09 | 유기 발광 소자 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114144901A true CN114144901A (zh) | 2022-03-04 |
Family
ID=78022560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202180004501.5A Pending CN114144901A (zh) | 2020-04-09 | 2021-04-09 | 有机发光器件 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114144901A (zh) |
| WO (1) | WO2021206504A1 (zh) |
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- 2021-04-09 WO PCT/KR2021/004492 patent/WO2021206504A1/ko active Application Filing
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