CN114126774A - 用液体处理凸版印刷版前体的装置和方法 - Google Patents

用液体处理凸版印刷版前体的装置和方法 Download PDF

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Abstract

一种用于处理具有背面(Pb)和凸面(Pr)的凸版印刷版前体(P)的装置,所述装置包括:壳体(10);保持液体的室(20);用于用至少一种液体处理凸版前体的处理器件(30);用于从凸版前体移除碎屑和/或液体的移除器件(40),所述移除器件布置在处理器件的下游;配置用于在输送方向(T)上输送凸版前体穿过壳体(10)的传送机构(50),其中,移除器件(40)包括安装用于从凸版前体的背面移除液体的液体移除引导体(45),所述传送机构配置为当凸版前体在输送方向上移动时将所述凸版前体拉到所述液体移除引导体(45)上并抵靠所述液体移除引导体(45),使得在操作中液体从背面被移除。

Description

用液体处理凸版印刷版前体的装置和方法
技术领域
本发明的领域涉及用液体处理凸版前体、特别是印刷版前体的装置和方法。
背景技术
可以通过将图像信息转移到可成像层上并移除可成像层的部分来制造凸版结构。然后可以使用形成的凸版在印刷步骤中将信息转移到基材上。凸版前体的一个例子是印刷版前体。可数字成像的柔性印刷版前体是已知的,并且通常包含至少在尺寸上稳定的支撑层、可光聚合层和可数字成像层。可数字成像层可以是例如可激光烧蚀层。在常规的印刷版前体的情况下,可数字成像层被连接到可光聚合层的掩模代替。
为了从印刷版凸版前体制造印刷版,根据现有方法,首先基于要印刷的图像数据将掩模写入可数字成像层。在写入掩模之后,版通过掩模用辐射曝光,使得可光聚合层在未被掩模覆盖的区域中进行聚合。曝光后,必须移除掩模和未聚合部分的残留物。这可以通过通常包括多个刷式清洗机的清洗装置中的一种或多种液体来完成。
用于印刷版前体的清洗装置是已知的。通常,输送杆用于使印刷版前体移动通过这种清洗装置。为此,印刷版前体的前缘联接到输送杆。带有联接板的输送杆被带到清洗装置的入口。输送杆在出口处离开清洗装置,在出口处它被回收以进行进一步处理。这种进一步的处理可以在于将印刷版放入烤炉中。当放置在烤炉中时,印刷版通常以其背面支撑。当液体留在印刷版背面时,可能会由于烤炉中气泡的形成而产生过压。这可能会损坏印刷版。此外,由于需要移除更多液体,烤炉中的干燥时间会延长。液体可以包含有机溶剂,其可能产生蒸汽,尤其是当干燥凸版时。必须限制这种蒸气(挥发性有机物质(Volatile OrganicContent,VOC))向环境的释放,因此当凸版进入干燥区时携带尽可能少的液体是有利的。
WO2016/030450A1公开了一种用于制造柔性版印刷版的装置,该装置包括:
-用于初步曝光的曝光单元(1),
-用于主曝光的曝光单元(2),
-冲洗单元(5),用于使用冲洗介质移除数字成像层的残留物以及凸版形成层的未聚合部分,
-干燥单元(7),用于干燥冲洗过的柔性版印刷版,
-后处理单元(9),用于用UVA和/或UVC光对干燥的柔性版印刷版进行后处理,和
-存储单元(10),用于容纳完成的柔性版印刷版。
DE4231102A1在图1中公开了一种用于冲洗、干燥和后处理柔性版印刷版的设备1。印刷版2沿箭头E的方向进入冲洗段P。此时印刷版2在旋转刷辊3和旋转带4之间通过,该旋转带4通过两个呈环形回路形式的转向辊5、6引导。刷辊3浸入盛有洗涤液的盆8中,将洗涤液从盆8中输送到印刷版2上。印刷版10穿过中间辊16,借助该中间辊16,可以使冲洗段P中的印刷版10的位置与干燥段T中的目标位置之间的小的高度差被均衡。在干燥段T中,印刷版,这里用10'表示,被引导至另一个传送带17。印刷版10'现在暴露于鼓风机21产生的由箭头20示意性示出的横向气流。
发明内容
本发明实施方式的目的是提供用于处理凸版前体的装置和方法,该装置和方法允许改进凸版前体的背面的液体移除。
根据本发明的第一方面,提供一种用于处理具有背面和凸面的凸版前体的装置。该装置包括:壳体;至少一个室,以容纳至少一种液体;处理器件,该处理器件用于用至少一种液体处理凸版前体;移除器件,该移除器件用于从凸版前体中移除碎屑和/或液体;和传送机构,该传送机构配置为用于在输送方向上输送凸版前体通过壳体。处理器件布置在壳体中。移除器件布置在处理器件的下游。移除器件包括液体移除引导体,该液体移除引导体安装用于从凸版前体的背面移除液体。传送机构配置为用于在输送方向上移动凸版前体时,将凸版前体拉至液体移除引导体上并抵靠液体移除引导体,使得液体从凸版前体的背面被移除。
通过在处理器件的下游提供这种移除器件,可以用简单且坚固的方式从凸版前体的背面有效地移除液体,并且可以在液体移除引导体的表面上被引导离开。实际上,液体移除引导体可具有简单的形状,并且传送机构可以容易地配置为将凸版前体拉到液体移除引导体上并抵靠该液体移除引导体。因此,可以避免在处理过的凸版前体的背面上仍然存在任何大量的液体,使得在随后的处理过程中可以减少或避免,例如,在烤炉中在背面形成气泡。同时缩短了干燥时间并减少了VOC。
优选地,传送机构配置为用于在液体移除引导体的上游的第一输送水平和液体移除引导体的下游的第二输送水平上输送凸版前体。该第一输送水平和第二输送水平可以是相同的或不同的,即,凸版前体可以在液体移除引导体之前和之后的相同高度处或在不同高度处被输送。第一输送水平和所述第二输送水平中的至少一个低于液体移除引导体的顶边缘。以这种方式,凸版前体在到达液体移除引导体时将向上移动和/或在离开液体移除引导体时将向下移动。
优选地,所述液体移除引导体由金属制成。金属主体的优点是坚固并且可承受腐蚀性液体。
优选地,液体移除引导体布置为在操作时基本上静止。这将进一步增强液体移除。
根据示例性实施方式,液体移除引导体的表面在输送方向上在第一线和顶边缘之间向上倾斜。以这种方式,凸版前体可沿着表面平滑地被引导,同时允许良好的液体移除。
优选地,顶边缘处的倾斜的角度小于20°。以这种方式,可以存在从第一输送水平到第二输送水平的平滑传送。
优选地,倾斜的角度从第一线到顶边缘逐渐减小。
根据另一示例性实施方式,液体移除引导体的表面在输送方向上在顶边缘和第二线之间向下倾斜。以这种方式,凸版前体可沿着表面平滑地被引导,同时允许良好的液体移除。
优选地,顶边缘处的倾斜的角度小于20°。以这种方式,可以存在从第一输送水平到第二输送水平的平滑传送。
优选地,角度从顶边缘到第二线逐渐增大。
根据示例性实施方式,传送机构配置为拉动处于张紧状态的凸版前体通过壳体并拉到液体移除引导体上。以这种方式,凸版前体可与液体移除引导体紧密接触,这进一步增强液体移除。当将凸版前体被拉动穿过装置时,凸版前体可以被支撑在多个基底上。例如,可以在壳体中提供多个工作台或多孔板,凸版前体被支撑在多个工作台或多孔板上同时被处理器件处理。
根据示例性实施方式,顶边缘与第一或第二输送水平面之间的距离在0.1mm至10mm的范围内,优选地0.5mm至8mm,更优选地0.5mm至5mm,最优选地1mm至5mm。换句话说,该距离可以相对较小,使得通过装置的输送不会受到液体移除引导体的显著阻碍。
优选地,液体移除引导体在基本上垂直于输送方向且平行于第一和第二输送水平的方向上延伸。
优选地,液体移除引导体配置并安装成基本上与凸版前体的整个宽度接触。
优选地,液体移除引导体是以下中的任一种:棒、杆、板、刀片。这种主体具有坚固且便宜的优点,并且可以容易地布置在装置中。
优选地,液体移除引导体由耐腐蚀和/或耐溶剂材料制成。液体移除引导体可以由诸如不锈钢的金属、聚合物、聚合物共混物、橡胶、陶瓷、玻璃或它们的组合制成。
优选地,液体移除引导体的横截面是直线、曲线、矩形、三角形、圆形、部分圆形、椭圆形、部分椭圆形、具有至少一个圆边或一个锐边的多边形形状。旨在与凸版前体接触的液体移除引导体的表面可以是弯曲表面或平坦表面。
优选地,液体移除引导体为固定式安装体或弹簧式静止体。换句话说,液体移除引导体优选是不可旋转的。
根据优选的实施方式,液体移除引导体的旨在与凸版前体接触的表面是弯曲的并且具有圆形上边缘,并且圆形上边缘的曲率半径在0.1mm至20mm的范围内,优选为5mm至15mm。这将允许凸版前体非常平滑地通过液体移除引导体,同时允许在表面上良好地引导移除的液体。
根据示例性实施方式,移除器件还包括至少一个下移除辊,该至少一个下移除辊布置成与凸版前体的背面接触旋转,所述至少一个下移除辊布置在液体移除引导器件的上游。此外,移除器件还包括至少一个上移除辊,该至少一个上移除辊布置成与所述凸版前体的凸面接触旋转,所述至少一个上移除辊布置在液体移除引导器件的上游。
优选地,至少一个上移除辊在输送水平的相对侧上与至少一个下移除辊相对布置。
优选地,每个下移除辊和/或上移除辊设有刮片或其他器件以从中移除碎屑。
至少一个上和/或下移除辊可以包括刷辊和/或布辊。通过使用不同的辊,可以逐步移除液体,类似于“洗车”系统中移除碎屑/液体的方式。
可选地,移除器件还包括液体施加器件以施加额外的液体,例如通过在至少一个上和/或下移除辊上喷射,以促进从凸版前体移除碎屑。
根据示例性实施方式,第一和第二输送水平在水平面中延伸。因此,当凸版前体经过液体移除引导体的表面上时,它可以向上和/或向下移动以从第一输送水平通过到第二输送水平。需要注意的是,第一输送水平可以在壳体中的水平面中延伸,并且第二输送水平可以在液体移除引导体的下游的水平面或倾斜面中延伸。
根据示例性实施方式,根据任一前述权利要求的装置包括具有光滑表面的移除器件。当根据ISO4287:1997测量时,液体移除引导体的顶面的粗糙度低于Ra 3.5μm。优选地,Ra低于3μm,更优选地低于2.8μm,最优选地,低于2.5μm。
根据示例性实施方式,该装置还包括调节器件,该调节器件配置为用于调节液体移除引导体的高度水平。以这种方式,可以根据前体的类型和/或在凸版前体上剩余的液体量来调节液体移除引导体的表面的高度。调节器件还可以用于在输送杆经过调节器件的短时间内将液体移除引导体移开。
根据示例性实施方式,移除器件还包括储液器,该储液器布置成用于收集由液体移除引导体移除的液体。收集的液体可以可选地重复利用。
根据示例性实施方式,壳体具有入口和出口,该入口和出口位于在输送方向上看时壳体的相对侧。第一输送水平在入口和液体移除引导体之间延伸。优选地,液体移除引导体正好位于出口之前或出口处。
根据示例性实施方式,至少一个液体室包括用于至少两种液体的至少两个液体室,所述至少两种液体是相同或不同的。可以根据要处理的凸版前体来选择所使用的至少一种液体的性质。例如,可以使用水性冲洗介质和/或有机冲洗介质或其组合。
传送机构可以设置有输送杆,该输送杆配置为联接至凸版前体的前缘,其中传送机构配置为将联接有凸版前体的输送杆拉到液体移除引导体上。
根据示例性实施方式,传送机构选自包括以下中至少一个的组:环形带、环形链、导螺杆、线性马达、具有抽吸器件的可移动器件、或它们的组合。当传送机构包括两个导螺杆时,输送杆的端部可以设置有适于与导螺杆联接的凹部。
根据示例性实施方式,处理器件配置为用于处理凸版前体的所述凸面和/或所述背面,并且其中处理器件包括以下中的任何一个或多个:旋转处理器件、振荡处理器件、喷射器件、冲洗器件或它们的组合;以及更特别地,圆柱形旋转刷、扁平旋转刷、振荡圆柱形或扁平刷、或它们的组合。
根据示例性实施方式,该装置还包括控制器件,该控制器件配置为控制以下中的至少一个:传送机构、处理器件、调节器件和移除器件。当然,该装置的其它部件也可以由相同的控制器件控制或者由不同的控制器件控制。控制器件可以连接至装置的任何部件(例如,马达、齿轮、传感器、泵、光源、开关),以便获得它们的状态信息和/或控制它们的动作。状态信息可以对操作员是可视化的,并且可以电子方式存储,以能够记录和分析数据。另外,控制单元可以能够接受来自操作员的命令,并将这些命令通信至不同的部件。命令可以以单一命令或以特定顺序的一组命令给出,并且命令可以电子方式生成和存储。控制器件可以包括:计算机或PLC(可编程逻辑控制器);用于可视化的屏幕或其它器件;扬声器和/或麦克风或用于声学信号和通信的其它器件。该计算机可以连接至转换器,该转换器将数字计算机信号转换成可以被部件读取和理解的模拟或数字信号。
根据本发明的第二方面,提供了一种用于处理凸版前体的方法。该方法包括以下步骤:提供具有可移除和不可移除材料的凸版前体,将凸版前体在输送方向上输送通过处理室,在该处理室中使用至少一种液体移除可移除材料,在输送方向上将凸版前体拉至液体移除引导体上并抵靠该液体移除引导体的表面,使得液体从背面被移除并被带走,优选地在液体移除引导体的表面上。优选地,当在液体移除引导体的表面上传送凸版前体时,液体移除引导体布置成基本上静止。
优选地,凸版前体以张紧状态被拉到液体移除引导体上。
优选地,至少一种液体包括以下任意一种或多种:水、水溶液、有机溶剂、有机溶剂的组合、或它们的组合。
上面针对装置阐述的特征和优点同样适用于该方法。
根据优选的实施方式,使用输送杆将凸版前体拉动通过壳体。输送杆可以设置有多个联接元件,多个联接元件可以联接到凸版前体的前缘。为此,可以在壳体的入口处提供板联接工位。
此外,可以提供板分离工位和板排出区域。板排出区域可以位于壳体的出口与板分离工位之间,使得凸版前体在板分离工位中与输送杆分离之前,在板排出区域中从壳体中完全拉出。
根据优选的实施方式,传送机构包括前向输送机构,该前向输送机构配置为使联接有凸版前体的输送杆至少从壳体的入口输送到壳体的出口,以及从出口输送到板分离工位。而且,该传送机构还包括杆联接件,该杆联接件配置为将联接有凸版前体的输送杆联接至前向输送机构。该前向输送机构可以包括第一前向输送机构和第二前向输送机构,该第一前向输送机构和该第二前向输送机构分别在壳体的相对的第一侧面和第二侧面处延伸。该第一前向输送机构和该第二前向输送机构配置为分别联接至输送杆的第一端和第二端,并且配置为在输送杆的第一端和第二端分别沿着相对的第一侧面和第二侧面移动的同时,将输送杆从入口输送至出口。使用两个前向输送机构的优点在于,输送杆可以非常稳定地输送通过壳体。根据优选的实施方式,第一前向输送机构和/或第二前向输送机构包括第一导螺杆和/或第二导螺杆,并且输送杆的第一端和/或输送杆的第二端设置有第一联接部和/或第二联接部,该第一联接部和/或该第二联接部配置为分别联接至第一导螺杆和/或第二导螺杆。使用导螺杆的优点在于,允许简单且坚固地联接至输送杆的端部以及与输送杆的端部分离。根据另一个实施方式,第一和/或第二前向输送机构包括第一和/或第二链条或皮带或线性马达或其组合;以及输送杆的第一和/或第二端设置有第一和/或第二联接部,该第一和/或第二联接部配置为分别联接到第一和/或第二链条或皮带或线性马达。
可选地,可以提供后向输送机构,该后向输送机构配置为将输送杆从板分离工位输送回板联接工位。
附图说明
附图用于说明本发明的装置和方法的目前的优选的、非限制性的、示例性实施方式。当结合附图阅读时,根据以下的详细说明,本发明的特征和目的的上述和其它优点将变得更加明显,本发明将被更好地理解,其中:
图1A是用于处理凸版前体的装置的示例性实施方式的示意性侧视图;
图1B是用于处理凸版前体的装置的另一个示例性实施方式的示意性透视图;
图2A是图1A的示例性实施方式的移除器件的详细侧视图;
图2B是图1A的示例性实施方式的移除器件的示意性透视图;
图2C和图2D是图2A和图2B所示的液体移除引导体的示意图;
图3A是移除器件的另一个示例性实施方式的详细侧视图;
图3B是图3A所示的液体移除引导体的示意图;
图4是液体移除引导体的另一个示例性实施方式的示意图;
图5至图7示出了在用于处理凸版前体的装置中使用的液体移除引导体的其他示例性实施方式;
图8A和图8B示出了适用于本发明实施方式中的输送杆和导螺杆的示例性实施方式的透视图。
具体实施方式
图1A和图1B示意性地示出了使用至少一种液体处理凸版前体P(例如印刷版前体P)的装置1000。装置1000是一种洗涤装置,其用于用至少一种液体冲洗凸版前体并随后从凸版前体移除液体和/或碎屑。图1A示出了第一示例性实施方式,以及图1B非常示意性地示出了第二示例性实施方式,其中相同或相似的部件已经用相同的附图标记来表示。
该装置1000包括:壳体10;至少一个室20,以容纳至少一种液体;处理器件30,该处理器件30布置在壳体10中,用于用至少一种液体处理凸版前体P;和传送机构50(在图1B中示意性示出,以及图2和图3中部分示出),该传送机构50配置为用于在输送方向T上输送凸版前体P(优选以张紧状态)通过壳体10。
装置1000还包括用于至少部分地从凸版前体P中移除碎屑和液体的移除器件40。优选地,移除器件40布置在壳体10中。移除器件40布置在处理器件30的下游。壳体10具有入口11和出口12,该入口11和出口12位于在输送方向T上看时壳体10的相对侧。至少一个液体室20可以包括用于至少两种液体的至少两个液体室,所述至少两种液体是相同或不同的。输送机构50可以选自包括以下的组:至少一个环形带、至少一个环形链、至少一个导螺杆(如图2和图3所示)、至少一个线性马达、具有抽吸器件的可移动器件或其组合。
凸版前体P具有背面Pb和凸面Pr,例如参见图1B和图2C和图2D。处理器件30配置为用于处理凸版前体P的凸面Pr和/或背面Pb。处理器件30可以包括以下中的任何一个或多个:旋转处理器件、振荡处理器件、喷射器件、冲洗器件或它们的组合;以及更特别地,圆柱形旋转刷、扁平旋转刷、振荡圆柱形或扁平刷、或它们的组合。
在图2A至图2D中更详细地示出了移除器件40。移除器件40包括:至少一个上移除辊42a、42b,其布置为与凸版前体P的凸面Pr接触旋转;至少一个下移除辊41a、41b,其布置为与凸版前体P的背面Pb接触旋转;以及液体移除引导体45,其安装用于从凸版前体的背面Pb移除液体。液体移除引导体45布置在至少一个下移除辊41a、41b的下游。每个上移除辊42a、42b在第一输送水平L1的相对侧上与每个下移除辊41a、41b相对布置。在图示的实施方式中,提供了两个辊对。凸版前体P首先通过第一辊对41a、42a,使得背面Pb被下辊41a刷洗和清洁,并且凸面Pr被上辊42a刷洗和清洁。该第一辊对41a、42a将承担第一次移除碎屑。接着,凸版前体P通过第二辊对41b、42b,使得背面Pb被下辊41b进一步刷洗和清洁,并且凸面Pr进一步被上辊42b刷洗和清洁,导致进一步移除碎屑。每个下和上移除辊41a、41b、42a、42b可以设置有刮片43a、43b、44a、44b,从而在操作中从旋转移除辊中移除碎屑。至少一个下和/或上移除辊41a、41b、42a、42b可以包括刷辊和/或布辊。例如,第二辊对41b、42b可以具有比第一辊对41a、42a更软的刷。可选地,移除器件40还包括液体施加器件47a、48a、48b以施加额外的液体,例如通过在至少一个上和/或下移除辊41a、42a、42b上喷射以促进从凸版前体P移除碎屑,参见图2B。液体施加器件47a、48a、48b可以实施为具有喷射孔的管。可以提供额外的中间壁部分49以避免液滴在壳体中四处飞散。
液体移除引导体45设置有上表面46,该上表面46在输送方向T向上延伸至第一输送水平L1上方的顶边缘E,参见图2C,使得凸版前体P在经过上表面46时被向上提升。以这种方式,液体将从背面Pb移除并沿上表面46流动。事实上,液体移除引导体45具有擦拭功能,从凸版前体P的背面Pb擦拭任何残留的液体。在图1A以及图2A至图2D示出的实施方式中,液体移除引导体45成形为棒并且包括在基本上垂直于输送方向T且平行于第一输送水平L1的方向上延伸的细长主体。当凸版前体P沿着液体移除引导体45通过时,细长主体45配置并安装成基本上与凸版前体P的整个宽度接触。细长主体45优选地是静止的。可选地,细长主体45可以是弹簧式的,使得它被推靠在凸版前体P上,但它不是可旋转地安装的。液体移除引导体45可以设置有用于收集由液体移除引导体45移除的液体的储液器(未示出)。
优选地,与凸版前体接触的上表面46是以相对小的角度向上倾斜的倾斜表面。优选地,上表面的顶边缘E处的角度小于60°,更优选地小于45°,甚至更优选地小于20°。在图2A至图2D示出的实施例中,液体移除引导体45是具有圆形横截面的杆,使得在上表面46的顶边缘E处角度为零。更具体地,角度从表面46(在第一输送水平L1处)的第一线p1处的a1逐渐减小到表面46的第二线p2处的角度a2,至在表面46的顶边缘E处为零。上表面46可以是弯曲的并且具有圆形上边缘(参见顶边缘E)。优选地,圆形上边缘的曲率半径r在0.1mm至20mm的范围内,优选地为5mm至15mm。
优选地,顶边缘E和第一输送水平L1之间的距离d,参见图2C,在0.1mm至10mm的范围内,优选地0.5mm至8mm,更优选地0.5mm至5mm,最优选地1mm至5mm。
细长主体45可以由耐腐蚀和/或耐溶剂材料制成。例如,细长主体45可以由诸如不锈钢的金属、聚合物、聚合物共混物、橡胶、陶瓷、玻璃或它们的组合制成。
第一输送水平L1在水平面中延伸。当进入、穿过和离开移除器件40时,凸版前体P可以部分地由工作台60、61支撑。可以用相对高的力拉动凸版前体通过装置,例如,超过1000N的力,通常超过2000N。以这种方式,凸版前体P将被张紧,这可以增加棒45移除液体的效率。
图3A和图3B示出了可能的移除器件40的另一个示例性实施方式。相似的部件用相同的附图标记表示,并参考上面的描述。这里,顶边缘E与第一输送水平相同,但液体移除引导体45的下游的第二输送水平L2低于顶边缘E。与凸版前体P接触的上表面46是以相对小的角度向下倾斜的倾斜表面。优选地,上表面的顶边缘E处的角度小于60°,更优选地小于45°,甚至更优选地小于20°。在图3A和图3B示出的实施例中,液体移除引导体45是具有圆形横截面的杆,使得在上表面46的顶边缘E处角度为零。优选地,顶边缘E和第二输送水平L2之间的距离d,参见图3B,在0.1mm至10mm的范围内,优选地0.5mm至8mm,更优选地0.5mm至5mm,最优选地1mm至5mm。上表面46可以是弯曲的并且具有圆形上边缘(参见顶边缘E)。优选地,圆形上边缘的曲率半径r在0.1mm至20mm的范围内,优选地为5mm至15mm。
图4示出了又一可能的实施方式,其类似于图3B的实施方式,但其中联接有凸版前体P的输送杆100在第二输送水平L2处被传送,该第二传送水平L2在液体移除引导体45之后立即向下倾斜。本领域技术人员理解许多替代方案是可能的,只要将凸版前体拉到液体移除引导体45上并抵靠液体移除引导体45即可。
可选地,该装置可以包括调节器件(未示出),其配置用于调节液体移除引导体45的上表面46的高度水平。优选地,该装置包括控制器件800,参见图1B,其被配置为控制传送机构50、处理器件30、调节器件(未示出)和移除器件40中的一个或多个。
如图1B示意性示出的,装置1000可以包括传送机构50,该传送机构50具有至少一个,优选地至少两个,甚至更优选地至少三个输送杆100,该输送杆100旨在联接至凸版前体P。输送杆100联接至凸版前体P的前缘3,并且优选地,输送杆100延伸超过前缘3的整个长度,使得输送杆100的端部可联接至传送机构50。注意,也可以将多个凸版前体P联接至输送杆100。优选地,输送杆100的长度为100mm至1000mm,更优选地为1000mm至4000mm。注意,在图2A至图2D和图3A至图3B的实施方式中也示出了输送杆100。
图1B的装置1000还包括:板联接工位300,其配置为将凸版前体P联接至输送杆100;壳体10,该壳体10具有处理器件30(未示出)和移除器件40(未示出),该壳体10配置为用于在联接有凸版前体P的输送杆100移动穿过壳体10时,分别用至少一种液体处理凸版前体P并移除液体;以及板分离工位500,其配置为使处理后的凸版前体P与输送杆100分离。可选地,传送机构50可以是输送系统50、230的一部分,该输送系统50、230配置为:在板联接工位300中联接至凸版前体P之后,自动地将每个输送杆100从板联接工位300穿过壳体10移动至板分离工位500,并且在与处理后的凸版前体P分离之后,从板分离工位500返回至板联接工位300,从而使输送杆100以闭环方式移动通过装置1000。在图1B所示的示例中,四个输送杆100在装置1000中循环。
输送杆100的示例性实施方式在图8A中详细示出,并且图8B示出了输送杆100可以如何联接至第一导螺杆210。输送杆100具有第一端101和第二端102,第一端101设置有配置为联接至第一导螺杆210的第一联接部121,以及第二端102具有配置为联接至第二导螺杆的第二联接部122。然而,在其他实施方式中,第一前向输送机构210和/或第二前向输送机构220可以包括其它输送器件,例如链或带,并且第一联接部121和第二联接部122可以相应地适配。在优选的实施方式中,每个输送杆100都设置有多个穿透元件110(这里以销或棒的形式),并且板联接工位300配置为在凸版前体P的前缘3附近区域中接合多个穿透元件110。在图1B中,凸版前体P具有:前缘3和后缘4,二者均垂直于凸版前体P通过装置1000的前向输送方向T;以及两个侧边缘1、2,该两个侧边缘1、2平行于前向输送方向T。凸版前体P的前缘3附近的区域联接至输送杆100的多个穿透元件110。
壳体10具有入口11和出口12。联接有凸版前体P的输送杆100从入口11移动至出口12通过壳体10,其中,输送杆100在前向输送方向T上移动。在出口12和板分离工位500之间设置有板排出区域600。凸版前体P在于分离工位500中与输送杆100分离之前,在板排出区域600中被传送机构50以第二输送水平L2从壳体10中完全拉出。可以提供引导表面65(参见图2A、图2B和图3A)用于引导凸版前体P的后缘,同时前缘被输送杆100保持和拉出。当凸版前体P与输送杆100分离时,凸版前体P可以在板排出区域600中排出。在板排出区域600的底部,可以设置移除器件,该移除器件配置为在凸版前体P于板分离工位500中与输送杆100分离之后,移除处理后的凸版前体P。在所示的实施方式中,移除器件700是手推车,该手推车配置为在板排出区域600中接收处理后的凸版前体P,并且从板排出区域600中移出,由此该手推车可以容易地从板排出区域移走。在其它未示出的实施方式中,移除器件700可以是货架、机器人、输送带、至少一个旋转滚筒等。同样,这种设备可以配置为在凸版前体P于板分离工位500中分离之后使处理后的凸版前体P从板排出区域600移出。
在图1B的实施方式中,传送机构50包括位于装置1000的一侧上的第一机构和位于装置1000的另一侧上的第二输送机构。输送杆100的第一端101与第一前向输送机构联接,以及输送杆100的第二端102与第二输送机构联接。此外,提供了一种后向输送机构230,该后向输送机构230配置为将输送杆100从板分离工位500输送回板联接工位300。在图1B所示的实施方式中,后向输送机构230位于装置1000的上侧。然而,在其它实施方式中,后向输送机构230可布置在装置1000的下部中,位于传送机构50的下方。后向输送机构230可以包括以下中的任一项:一个或多个带、一个或多个链、一个或多个导螺杆、线性马达或它们的组合。
如图1B所示,控制器件800可以配置为控制装置的不同部件,例如输送机构50、230、处理器件30和移除器件40。控制器件800可以控制输送机构,使得当多个输送杆中的一个输送杆100移动通过壳体10时,另一输送杆100移回到板联接工位300。更优选地,至少三个输送杆在系统中移动。此外,在输送方向T上的输送速度可以与在后向输送方向Tb上的输送速度不同,其中优选地,在后向输送方向Tb上的输送速度比在前向输送方向T上的输送速度快。通常,前向输送速度和后向输送速度在1mm/秒至1000mm/秒的范围内。
如图1A所示,在壳体10中,凸版前体P被拉到处理器件30的刷下方以进行清洁。刷可以布置为,使得它们位于凸版前体P上方。可以设置另外的喷嘴和液体注入器件(未示出),以清洗凸版前体P,同时刷在凸版前体上方旋转。在所示的实施方式中,刷具有垂直于凸版前体P的输送方向T布置的旋转轴线。然而,在其它实施方式中,可以设置围绕竖直旋转轴线安装的大量旋转刷,这些旋转刷至少部分地浸入液池中。旋转刷或任何可选的刷布置为用于彻底地清洁凸版前体。刷的旋转方向可以与输送方向相同或相反,优选地,一些刷在输送方向上旋转,一些刷在与输送方向相反的方向上旋转。另外,刷可以在平行于它们轴线的方向上移动(摆动)。刷的速度可以在很宽的速度范围上变化,例如在1rpm至约2000rpm的范围内变化。另外,可以使用扁平的旋转刷或摆动刷。通过控制刷与凸版前体接触的压力和/或刷到凸版前体表面的距离,也可以改变侵入性。刷可以相同或不同,并且可以在以下方面发生改变:直径、刷毛的刚度或硬度、刷毛的密度、刷毛的厚度、刷毛的材料(例如铝、不锈钢、黄铜、聚乙烯、聚甲醛、聚酰胺(尼龙)、聚酯或它们的组合)、刷毛的布置(螺旋形或线性)、刷毛的长度和形状(例如圆形、椭圆形或矩形或六边形的横截面)或它们的组合。刷的侵入强度(高侵入性涉及移除大部分的材料)可以通过将侵入强度从开始时的高侵入性改变为工艺结束时的低侵入性来改变,或者以相反的方式来改变。
所使用的液体的性质取决于所采用的前体的性质。如果待移除的层在水或水溶液中是可溶解的、可乳化的或可分散的,则水或水溶液可以用作预清洗工位中的第一液体。如果该层在有机溶剂或有机混合物中是可溶解的、可乳化的或可分散的,则有机溶剂或有机混合物可以用作预清洗工位中的第二液体。如果前体具有水性可显影层,则水或主要为水性的溶剂可以用作显影工位中的第二液体。在有机可显影前体的情况下,不同的有机溶剂或它们的混合物可以用作显影工位中的第二液体。相应地,取决于待清洗的凸版层的性质,后清洗工位可以用作为第三液体的水、水溶液、有机溶剂或有机溶剂的混合物来操作。
液体可以是水或水溶液,水或水溶液可以包含其它成分,例如盐、酸、碱、乳化剂、分散助剂、粘度调节剂、表面活性剂或其组合。盐、酸和碱可用于控制液体的pH。乳化剂和分散助剂可以用于增强液体吸收材料的能力,以及稳定此类乳化液和分散体。水溶液可以包括:有机溶剂,例如醇、酯、醚;或烃,或它们的组合。
液体可以是有机溶剂或其混合物。例如,可以使用显影剂,该显影剂包括环烷或芳族石油馏分与醇(例如苄醇、环己醇或具有5至10个碳原子的脂族醇)的混合物;以及可选地,其它组分,例如脂环族烃、萜类烃、取代苯(例如二异丙基苯)、具有5至12个碳原子的酯、或二醇醚。例如,在EP-A332070或EP-A433374中公开了合适的清洗剂。另外,溶剂和溶剂混合物可以包括其它成分,例如盐、酸、碱、乳化剂、分散助剂、粘度调节剂、抗静电剂、水、表面活性剂或它们的组合。为了安全起见以及为了降低成本和所涉及装置的复杂度,使用有机溶剂时的温度应比所使用的清洗剂混合物的闪点低5℃至15℃。
处理器件30可以是使用单种液体的单个单元,但是也可以由两个或更多个可以使用相同流体或不同流体的子单元组成。同样,刷和包括泵、过滤器、槽、软管等的液体处理系统的布置可以是通用的,或者是根据子单元的数量划分的。
在未示出的实施方式中,可以提供后处理以对凸版前体进行后处理,例如,进一步干燥、后曝光、加热、冷却、移除材料等。
干燥工位允许完全移除液体。这可以通过加热或通过降低压力或两者的结合来实现,从而加快液体的蒸发。加热可以通过烤炉、热气(优选空气或蒸汽)、IR光照射、微波照射或它们的组合来实现。压力的降低可以通过通风、真空泵(例如扩散泵、吸气泵、油泵等)、文丘里管或它们的组合来实现。优选地,使用IR灯或热空气加热来进行干燥。优选地,在40℃至200℃,优选地,在50℃至160℃,更优选地,在在50℃至100℃,最优选地,在50℃至80℃的温度下进行干燥。在柔性版印刷元件的尺寸稳定支撑件是金属支撑件的情况下,干燥也可以在高达约160℃的较高温度下进行。
后曝光可以用于使显影的前体的表面不发粘和/或进一步固化可光固化的凸版层。在该工位中,显影的前体用电磁射线处理,优选地,用UVA或UVC光处理。作为光源,可以使用荧光灯、LED或闪光灯或这些光源中的几种的组合。优选地,安装LED或荧光灯。光源可连接至控制系统,该控制系统控制曝光时间、波长(在安装了具有不同发射光谱的光源的情况下)、光强度或它们的组合。
此外,在未示出的实施方式中,可以设置预处理室,以对凸版前体进行预处理,所述预处理选自:切割、烧蚀、暴露于电磁辐射、以及它们的组合。可选地,在后处理和预处理期间,凸版前体可以保持与输送杆联接。
优选地,预处理工位包括烧蚀设备、曝光设备或两者的组合。烧蚀处理包括从至少一层移除材料。例如,可以根据图像数据移除至少一层材料。更具体地,执行处理可以包括以下任意一项:暴露于电磁波中;雕刻,例如机械雕刻;暴露于物质射流,例如粒子射流、流体射流、气体射流;暴露于等离子体中;暴露于连续的网中,例如用于热显影;或它们的组合。电磁波可以是例如以下任意一种:宽带电磁波、窄带电磁波、单色电磁波、大面积电磁波(例如,使用灯)、选择性电磁波(例如由激光发射)、沿着感光鼓的整个轴向长度或者沿着感光鼓的一部分轴向长度发射的波、连续或脉冲电磁波、高能或低能电磁波、烧蚀或引发电磁波、UV到IR电磁波。电磁波的波长可以在200nm至20000nm的范围内,优选地,在250nm至15000nm的范围内,更优选地,在300nm至11000nm的范围内,最优选地,在350nm至11000nm的范围内。电磁辐射的总功率可以为从足以触发化学反应的低值到导致材料快速加热和蒸发或烧蚀的高值的范围,例如在0.1mW至2000W的范围内,优选地,在1mW至1000W的范围内,更优选地,在5mW至7500W的范围内,最优选地,在1W至200W的范围内。通常,烧蚀光束在表面上移动,以便例如通过旋转镜或在滚筒上旋转凸版前体来产生图像。
曝光设备包括电磁辐射源,该电磁辐射源将具有所需波长的光传递到凸版前体的凸面或背面。优选地,波长处于电磁光谱的UV-Vis区域中。电磁波的波长可以在200nm至800nm的范围内,优选地,在250nm至500nm的范围内,更优选地,在300nm至450nm的范围内,最优选地,在350nm至400nm的范围内。电磁辐射的强度可以在0.1mW/cm2至200W/cm2的范围内,优选地,在1mW/cm2至200W/cm2的范围内,更优选地,在10mW/cm2至200W/cm2的范围内。作为光源,可以使用金属卤化物灯、荧光灯、LED或闪光灯或这些光源中的几种的组合。优选地,安装LED或荧光灯。光源可连接至控制系统,该控制系统控制曝光时间、波长(在安装了具有不同发射光谱的光源的情况下)、光强度或它们的组合。光源和凸版前体在曝光期间可以是静止的,或者在曝光期间可以相对彼此运动。优选地,条状LED阵列移动穿过凸版前体或凸版前体通过LED阵列。通常,曝光通过掩模进行,该掩模可以是凸版前体的集成部分或单独的掩模层或可电子切换的掩模(例如,具有可切换的透明和非透明区域或像素的显示器状的设备)。也可以使用不使用掩模的扫描光束。曝光室可以在环境条件下或在特定大气(例如氧气含量降低)中使用。
图5至图7示出了细长主体的三个进一步可能的实施方式。通常,细长主体45可以是以下中的任一种:棒、杆、板、刀片。细长主体45的横截面可以是直线、曲线、矩形、三角形、圆形、部分圆形、椭圆形、部分椭圆形、具有至少一个圆边或一个锐边的多边形形状。上表面46可以是弯曲或平坦的上表面。在图6的实施方式中,细长的液体移除体45是具有线形式的横截面的板,该板具有相对于第二顶部45a成角度的第一部分45b。第一部分45b是相对于第一输送水平L1成角度定向的倾斜部分,并且第二部分在水平面中、在第一输送水平L1之上和/或第二输送水平L2之上的水平E上延伸。在图4的实施方式中,细长的液体移除体45是相对于水平的第一和第二输送水平L1、L2成角度布置的平板,使得其用作擦拭刀片。在图6的实施方式中,细长的液体移除体45具有带圆形顶边缘的基本上呈三角形的横截面。
在以上示出的实施方式中,液体移除体45的任务是从凸版前体P的背面Pb移除液体,优选地不引起划痕。以这种方式,可以减少干燥时间并且可以收集移除的液体。这具有在进一步干燥步骤期间具有较少的VOC的进一步优点。与其他液体移除技术相比,本发明的实施方式具有简单且坚固的优点,无需额外的复杂的机械机构,也无需使用吸收材料。
通常,凸版前体包括由第一材料制成的支撑层和由不同于所述第一材料的第二材料制成的附加层。支撑层可以是柔性金属、天然或人造聚合物、纸或它们的组合。优选地,支撑层是柔性金属或聚合物膜或片。在柔性金属的情况下,支撑层可包括薄膜、筛状结构、网状结构、织物或非织物结构或它们的组合。钢、铜、镍或铝板是优选的,并且可以为约50μm至1000μm的厚度。在聚合物膜的情况下,该膜在尺寸上是稳定的,但可弯曲,并且可以由例如聚亚烷基、聚酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺和聚碳酸酯、用织物、非织物或层状纤维(例如玻璃纤维、碳纤维、聚合物纤维)增强的聚合物或它们的组合。优选地,使用聚乙烯和聚酯箔,并且它们的厚度可以在约100μm至300μm的范围内,优选地,在100μm至200μm的范围内。
凸版前体可以带有附加层。例如,附加层可以是以下任意一种:可直接雕刻层(例如通过激光)、溶剂或水可显影层、热可显影层、光敏层、以及光敏层和掩模层的组合。可选地,可以在附加层的顶部上设置一个或多个另外的附加层。这样的一个或多个另外的附加层可以包括位于所有其它层的顶部的覆盖层,该覆盖层在对可成像层进行成像之前移除。一个或多个附加层可以包括凸版层和防光晕层,该防光晕层位于支撑层和凸版层之间或位于支撑层的与凸版层相反的一侧。一个或多个附加层可以包括凸版层、可成像层以及一个或多个阻挡层,该一个或多个阻挡层位于凸版层与可成像层之间并且防止氧的扩散。在上述不同层之间可以设置一个或多个粘合层,该一个或多个粘合层确保不同层的合适粘合。
在优选的实施方式中,凸版前体包括光敏层和掩模层。掩模层可以在预处理期间被烧蚀或改变透明度,并形成具有透明和非透明区域的掩模。在掩模的透明区域下面,光敏层在照射时经历溶解度和/或流动性的变化。该变化用于通过在一个或多个后续步骤中移除光敏层的一部分来产生凸版。溶解度和/或流动性的变化可以通过光诱导聚合和/或交联来实现,从而使得被照射的区域的溶解性更低和熔融性更低。在其它情况下,电磁辐射可以导致键的断裂或保护基团的裂解,从而使得被照射的区域的溶解性更高和/或熔融性更高。优选地,使用应用光诱导交联和/或聚合的工艺。
尽管上面已经结合具体实施方式阐述了本发明的原理,但是应当理解,该描述仅是示例性的,而不是对由所附权利要求确定的保护范围的限制。

Claims (29)

1.一种用于处理具有背面(Pb)和凸面(Pr)的凸版前体(P)的装置,所述装置包括:
壳体(10),
至少一个室(20),以容纳至少一种液体,
处理器件(30),所述处理器件(30)用于用所述至少一种液体处理凸版前体,所述处理器件布置在所述壳体中,
移除器件(40),所述移除器件(40)用于从所述凸版前体中移除碎屑和/或液体,所述移除器件布置在所述处理器件的下游,
传送机构(50),所述传送机构(50)配置为用于在输送方向(T)上输送所述凸版前体通过所述壳体(10),
其中所述移除器件(40)包括液体移除引导体(45),所述液体移除引导体(45)安装用于从所述凸版前体的所述背面移除液体,所述传送机构配置为用于在所述输送方向上移动所述凸版前体时,将所述凸版前体拉至所述液体移除引导体(45)上到并抵靠所述液体移除引导体(45),使得在操作中液体从所述背面被移除。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述传送机构(50)配置为用于在所述液体移除引导体(45)的上游的第一输送水平(L1)和所述液体移除引导体(45)的下游的第二输送水平(L2)上输送所述凸版前体,其中所述第一输送水平和所述第二输送水平可以是相同的或不同的,其中所述第一输送水平和所述第二输送水平中的至少一个低于所述液体移除引导体的顶边缘(E)。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述液体移除引导体(45)布置为在操作时基本上静止。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体由金属制成,例如不锈钢。
5.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述液体移除引导体(45)的顶面(46)在所述输送方向上在第一线(p1)与所述顶边缘(E)之间向上倾斜和/或在所述输送方向上在所述顶边缘(E)与第二线(p2)之间向下倾斜。
6.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述传送机构配置为拉动处于张紧状态的所述凸版前体(P)通过所述壳体并拉至所述液体移除引导体(45)上。
7.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述传送机构设置有输送杆,所述输送杆配置为联接至所述凸版前体的前缘,其中所述传送机构配置为将联接有凸版前体的所述输送杆拉至所述液体移除引导体上。
8.根据权利要求2、可选地与任一前述权利要求结合所述的装置,其中,所述顶边缘(E)与所述第一输送高度和所述第二输送高度(L1、L2)中的一个之间的距离(d)在0.1mm至10mm的范围内。
9.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体(45)在基本上垂直于所述输送方向(T)且平行于所述凸版前体通过所述壳体的输送平面的方向上延伸。
10.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体(45)配置并安装成基本上与所述凸版前体的整个宽度接触。
11.根据权利要求1至3和5至10中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体由聚合物、聚合物共混物、橡胶、陶瓷、玻璃或它们的组合制成。
12.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体(45)是以下中的任一种:棒、杆、板、刀片。
13.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体的横截面是直线、曲线、矩形、三角形、圆形、部分圆形、椭圆形、部分椭圆形、具有至少一个圆边或一个锐边的多边形形状;和/或其中所述液体移除引导体的所述顶面(46)是弯曲表面或平坦表面。
14.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体的所述顶面是弯曲的并具有圆形上边缘,所述圆形上边缘的曲率半径(r)在0.1mm至20mm的范围内。
15.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述移除器件(40)还包括至少一个下移除辊(41a、41b),所述至少一个下移除辊(41a、41b)布置成与所述凸版前体的所述背面接触旋转,所述至少一个下移除辊布置在所述液体移除引导体的上游。
16.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述移除器件还包括至少一个上移除辊(42a、42b),所述至少一个上移除辊(42a、42b)布置成与所述凸版前体的所述凸面接触旋转,所述至少一个上移除辊布置在所述液体移除引导体的上游。
17.根据权利要求15和16所述的装置,其中,所述至少一个上移除辊在所述输送水平的相对侧上与所述至少一个下移除辊相对布置。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的装置,其中,所述下移除辊(41a、41b)和/或上移除辊(42a、42b)设有刮片(43b)以从中移除碎屑和/或液体。
19.根据权利要求15至18中任一项所述的装置,其中,所述至少一个上移除辊和/或下移除辊包括刷辊和/或布辊。
20.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述液体移除引导体的顶面的粗糙度低于Ra3.5μm。
21.根据前述权利要求所述的装置,还包括调节器件,所述调节器件配置为用于调节所述液体移除引导体的高度水平。
22.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述移除器件(40)还包括储液器,所述储液器布置成用于收集由所述液体移除引导体(45)移除的液体。
23.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,至少一个液体室(20)包括用于至少两种液体的至少两个液体室,所述至少两种液体是相同或不同的。
24.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述传送机构选自包括以下中至少一个的组:环形带、环形链、导螺杆、线性马达、具有抽吸器件的可移动器件、或它们的组合。
25.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述处理器件(30)配置为用于处理所述凸版前体的所述凸面和/或所述背面,并且其中所述处理器件包括以下中的任何一个或多个:旋转处理器件、振荡处理器件、喷射器件、冲洗器件或它们的组合;以及更特别地,圆柱形旋转刷、扁平旋转刷、振荡圆柱形或扁平刷、或它们的组合。
26.根据前述权利要求中任一项所述的装置,还包括控制器件,所述控制器件配置为控制以下中的至少一个:所述传送机构、所述处理器件、所述调节器件和所述移除器件。
27.用于处理凸版前体的方法,包括步骤:
i.提供具有可移除和不可移除材料的凸版前体(P),
ii.将所述凸版前体在输送方向(T)上输送通过处理室,在所述处理室中使用至少一种液体移除可移除材料,
iii.在输送方向(T)上将所述凸版前体拉至向上运行的液体移除引导体的表面(46)上并抵靠所述液体移除引导体的表面(46),使得液体从所述背面移除。
28.根据权利要求27所述的方法,其中,所述凸版前体在所述液体移除引导体(45)的上游的第一输送水平(L1)和所述液体移除引导体(45)的下游的第二输送水平(L2)上被输送,其中所述第一输送水平和所述第二输送水平中的至少一个低于所述液体移除引导体的顶边缘(E)。
29.根据权利要求27或28所述的方法,其中,所述至少一种液体包括以下任意一种或多种:水、水溶液、有机溶剂、有机溶剂的组合、或它们的组合。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0225678A1 (en) * 1985-12-10 1987-06-16 Anderson & Vreeland B.V. Apparatus for treating printing plates with a liquid
GB9522481D0 (en) * 1995-11-02 1996-01-03 Horsell Graphic Ind Ltd Plate processing
US5552262A (en) * 1992-09-17 1996-09-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for production of photopolymerizable flexographic printing plates
CN102089714A (zh) * 2008-07-31 2011-06-08 麦克德米德印刷方案股份有限公司 用于光敏印刷元件的热处理的方法和装置
CN206037601U (zh) * 2016-09-22 2017-03-22 山东狮子王陶瓷科技有限公司 瓷砖抛光线吸水装置
CN206373096U (zh) * 2016-05-06 2017-08-04 文登蓝岛建筑工程有限公司 一种sip板双面清洗装置
CN107111238A (zh) * 2014-08-28 2017-08-29 富林特集团德国有限公司 用于生产柔性版印刷印版的装置和方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2306697A (en) * 1938-05-21 1942-12-29 Bakelite Corp Production of urea-formaldehyde molding mixtures
US4231102A (en) * 1978-12-21 1980-10-28 Raytheon Company Cordic FFT processor
DE3807929A1 (de) 1988-03-10 1989-09-28 Basf Ag Verfahren zur herstellung von reliefformen
DE68926242T2 (de) 1988-08-23 1996-09-19 Du Pont Verfahren zur herstellung von flexographischen druckreliefs
DE19600846C1 (de) * 1996-01-12 1997-04-03 Heidelberger Druckmasch Ag Vorrichtung zur Reinigung direkt bebilderter Druckformen in einer Druckmaschine
US9214864B2 (en) * 2012-04-26 2015-12-15 Freescale Semiconductor, Inc. Switch mode power supply with switchable output voltage polarity
PL3047336T3 (pl) * 2013-09-18 2018-07-31 Flint Group Germany Gmbh Obrazowalny cyfrowo element fleksodrukowy i sposób wytwarzania płyt fleksodrukowych
CN105637419B (zh) * 2013-09-30 2018-03-09 富林特集团德国有限公司 用于柔性版印刷版的线上生产的装置和方法
WO2016026499A1 (en) * 2014-08-22 2016-02-25 Flexo Wash Aps Method and apparatus for cleaning of plate-shaped clichés
WO2017207006A1 (en) * 2016-05-31 2017-12-07 Glunz & Jensen A pin system for easy mounting and disassembling printing plates
EP3495890A1 (en) * 2017-12-08 2019-06-12 Flint Group Germany GmbH Apparatus and method for developing printing precursors
CN209110785U (zh) * 2018-09-10 2019-07-16 河南鑫金汇不锈钢产业有限公司 一种钢板酸洗除锈系统

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0225678A1 (en) * 1985-12-10 1987-06-16 Anderson & Vreeland B.V. Apparatus for treating printing plates with a liquid
US5552262A (en) * 1992-09-17 1996-09-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for production of photopolymerizable flexographic printing plates
GB9522481D0 (en) * 1995-11-02 1996-01-03 Horsell Graphic Ind Ltd Plate processing
CN102089714A (zh) * 2008-07-31 2011-06-08 麦克德米德印刷方案股份有限公司 用于光敏印刷元件的热处理的方法和装置
CN107111238A (zh) * 2014-08-28 2017-08-29 富林特集团德国有限公司 用于生产柔性版印刷印版的装置和方法
US20180217502A1 (en) * 2014-08-28 2018-08-02 Flint Group Germany Gmbh Apparatus and method for producing flexographic printing plates
CN206373096U (zh) * 2016-05-06 2017-08-04 文登蓝岛建筑工程有限公司 一种sip板双面清洗装置
CN206037601U (zh) * 2016-09-22 2017-03-22 山东狮子王陶瓷科技有限公司 瓷砖抛光线吸水装置

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