CN114126745A - 气体处理方法、气体处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种气体处理方法和气体处理装置，其能够使用主发光波长为180nm以下的紫外线来有效地处理含有VOC的被处理气体。本发明是一种气体处理方法，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对上述被处理气体进行处理的气体处理方法，其中，在处理空间内配置有射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，经由与光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙，以23m/s以下的流速流通被处理气体。

Description

气体处理方法、气体处理装置

技术领域

本发明涉及一种气体处理方法和气体处理装置，特别是涉及通过对包含属于VOC(Volatile Organic Compounds：挥发性有机化合物)的处理对象物质的被处理气体照射紫外线来进行处理的气体处理方法和气体处理装置。

背景技术

以往，作为甲醛的分解去除装置，存在利用氧化催化剂、光催化剂的技术(参照下述的专利文献1、2)。

而且，在下述的专利文献3中公开了一种氙气准分子灯，其放射比上述低压汞灯的波长还短的172nm的光。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-163055号公报

专利文献2：日本特开2000-102596号公报

专利文献3：日本特开2007-335350号公报

发明内容

发明所要解决的问题

就如专利文献3中记载的那样的主发光波长为180nm以下的紫外线而言，以往在半导体、液晶面板的制造过程中，其用于光清洗、表面改性的用途，并设定为在氮气等不活泼气体、清洁干燥空气的气氛中进行照射。

近年来，可能影响地球环境、人体的气体成为问题，针对汽车、工厂等中的废气制定了统一规定。另外，在室内，也经常在实验设备、医疗场所等有可能利用特定药剂的场所中制定了VOC的排放规定。

然而，现在尚未获得关于使用主发光波长为180nm以下的紫外线来对包含VOC的被处理气体进行处理的见解。

本发明的目的在于，提供一种气体处理方法和气体处理装置，其可以使用主发光波长为180nm以下的紫外线来有效地处理包含VOC的被处理气体。

用于解决问题的手段

本发明是一种气体处理方法，其特征在于，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对上述被处理气体进行处理的气体处理方法，

其中，在上述处理空间内配置有射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

经由与上述光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙，以23m/s以下的流速流通上述被处理气体。

如后面在“具体实施方式”的部分进行叙述那样，根据本发明人的反复研究，确认了：在对被处理气体照射主发光波长为160nm～180nm的紫外线的情况下，当被处理气体的流速超过23m/s时，处理对象物质的分解性能随着流速加速而降低。

另外，由于主发光波长为160nm～80nm的紫外线的波长短，因此容易被氧吸收。故而，紫外线几乎不会到达在距光源的光出射区域超出10mm处流通的被处理气体，产生VOC几乎不会被分解的情况。

根据上述方法，能够有效地分解被处理气体中包含的属于VOC的处理对象物质。

此外，在本说明书中，“主发光波长”是指，在对于某波长λ在发光光谱上规定了±10nm的波长区域Z(λ)的情况下，相对于发光光谱内的总积分强度显示40％以上的积分强度的波长区域Z(λi)中的波长λi。例如封入有规定的发光气体的准分子灯等那样，在半峰宽极窄并且仅在特定波长下显示光强度的光源中，通常因为具有相对强度最高的波长(主峰波长)而也可以作为主发光波长。

在上述方法中，上述被处理气体的流速可以是0.3m/s以上。

通过将被处理气体的流速设为0.3m/s以上，可以在处理空间内在被处理气体中产生湍流。由此，对被处理气体照射来自光源的紫外线的时间变长而提高处理对象物质的分解效率。

上述处理对象物质可以包含属于由甲醛及甲苯构成的组中的至少一种。此外，处理对象物质除上述例子外还可以包含甲醇、异丙醇(IPA)、丙酮、甲基异丁酮(MIBK)、乙酸乙酯等。

本发明是一种气体处理装置，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对上述被处理气体进行处理的气体处理装置，

其特征在于，其包括：

将上述被处理气体导入上述处理空间内的吸气口；

将在上述处理空间内被处理过的上述被处理气体排出的排气口；以及

配置在上述处理空间内、并射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

经由与上述光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙，以23m/s以下的流速在上述处理空间内流通上述被处理气体。

上述被处理气体的流速还可以为0.3m/s以上。

通过将被处理气体的流速设为0.3m/s以上，被处理气体在处理空间内产生湍流，因此可以确保被处理气体在处理空间内滞留的时间、并在处理对象物质分解所需时间内照射紫外线。

上述光源可以是包含封入有含有Xe的发光气体的管体的准分子灯。在该情况下，由光源照射主发光波长为172nm的紫外线。

上述气体处理装置还可以具有挡风部件，该挡风部件配置成具有上述间隙并且围绕上述管体、或者具有上述间隙并且夹入上述管体。

上述气体处理装置还可以具有配置在上述吸气口和上述排气口之间的控制上述被处理气体的流速的鼓风机。在该情况下，通过上述鼓风机，控制被处理气体以23m/s以下的流速被导入处理空间内。

发明效果

根据本发明，能够有效地分解被处理气体中包含的属于VOC的处理对象物质。

附图说明

图1是示意性地表示本发明的气体处理装置的一个实施方式的构成的图。

图2是准分子灯的示意性的剖面图。

图3是从方向d1观察准分子灯和挡风部件时的示意性的俯视图。

图4是使封入有包含Xe的发光气体的准分子灯的发光光谱、与氧(O₂)和臭氧(O₃)的吸收光谱重叠而显示的图表。

图5是表示在没有挡风部件的情况下、距准分子灯表面的距离与被处理气体中包含的羟基自由基(·OH)的浓度的关系的图表。

图6是准分子灯的又一种示意性的剖面图。

图7是准分子灯的又一种示意性的剖面图。

图8是示意性地表示实验系统的构成的图。

图9是表示被处理气体的流速与VOC去除率的关系的图表。

图10是示意性地表示本发明的气体处理装置的另一个实施方式的构成的图。

具体实施方式

适当地参照附图来对本发明的气体处理装置和气体处理方法的各实施方式进行说明。此外，在以下的附图中，附图上的尺寸比和实际的尺寸比并不一定一致。

图1是示意性地表示气体处理装置的一个实施方式的构成的图。气体处理装置1具有内置有中空状的处理空间8的箱体3。箱体3具有吸气口5和排气口7，该排气口7配置在相对于吸气口5在方向d1上分开的位置。从吸气口5导入的被处理气体G1在方向d1上行进、并在处理空间8内被处理，然后作为处理后气体G2从排气口7排出。

气体处理装置1对将属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体G1进行处理，并将被处理气体G1转变成使所含有的处理对象物质的浓度降低了的处理后气体G2。作为属于VOC的处理对象物质，可举出：甲醛、甲苯、甲醇、异丙醇(IPA)、丙酮、甲基异丁基酮(MIBK)、乙酸乙酯等。气体处理装置1可以用来处理包含一种以上这些处理对象物质的空气。

气体处理装置1具备配置在处理空间8内的准分子灯10。图2是被与方向d1正交的平面切断准分子灯10时的示意性的剖面图。

准分子灯10具有沿方向d1拉伸的管体14。更详细而言，该管体14具有外侧管14a和内侧管14b，该外侧管14a位于呈圆筒形状的外侧，该内侧管14b在外侧管14a的内侧配置在与外侧管14a同轴上，并且呈内径小于外侧管14a的圆筒形状。管体14(14a，14b)均由合成石英玻璃等介电材料形成。

外侧管14a和内侧管14b均在方向d1上的端部处被密封(未图示)，在两者之间形成有从方向d1观察时呈圆环形状的发光空间。在该发光空间内封入有通过放电形成准分子的发光气体13G。作为发光气体13G的更详细的一例，可以是由以规定比率(例如3:7)使氙气(Xe)和氖气(Ne)混合存在而成的气体形成并且进一步包含微量的氧、氢的发光气体。

图2中示例的准分子灯10具有配置在外侧管14a的外壁面上的第一电极11和配置在内侧管14b的内壁面上的第二电极12。第一电极11呈筛网形状或线形状。另外，第二电极12呈膜形状。此外，第二电极12也可以为与第一电极11相同的筛网形状或线形状。

此外，在图1所示的例子中，准分子灯10在方向d1上的端部具有基部19。该基部19由块滑石、镁橄榄石、赛纶陶瓷、氧化铝等陶瓷材料(无机材料)形成，并且具有固定管体14的端部的功能。通过设置在基部19上的孔部或基部19的外缘，配置了与各电极(11、12)连接的未图示的供电线。

在准分子灯10中，当介由供电线由未图示的点灯电源在第一电极11和第二电极12之间施加例如50kHz～5MHz左右的高频交流电压时，介由管体14对发光气体13G施加上述电压。此时，在填充了发光气体13G的放电空间内产生放电等离子体，激发发光气体13G的原子而成为准分子状态，当该原子向基态迁移时，产生准分子发光。当使用了上述包含氙(Xe)的气体作为发光气体13G时，该准分子发光成为在172nm附近具有峰波长的紫外线L1。

本实施方式的气体处理装置1具备挡风部件20。图3是从方向d1观察准分子灯10和挡风部件20时的示意性的俯视图。挡风部件20具有在中央附近具有开口的挡风面23。就准分子灯10而言，通过在挡风部件20的上述开口的内侧贯通，在准分子灯10的光出射区域与挡风面23之间设置间隙21。该间隙21为10mm以下，更优选为8mm以下。另一方面，如果使间隙21过窄，则从吸气口5导入的被处理气体G1在与挡风部件20进行碰撞后该气体变得难以流入后段，处理能力可能会降低，因此间隙21优选为2mm以上，更优选为3mm以上。

此外，在图2所示的准分子灯10中，通过使第一电极11呈筛网形状或线形状，光出射区域与未被第一电极11隐藏而露出的管体14的壁面相对应。

图4是使封入有包含Xe的发光气体的准分子灯的发光光谱、与氧(O₂)和臭氧(O₃)的吸收光谱重叠而显示的图表。在图4中，横轴表示波长，左纵轴表示准分子灯的光强度的相对值，右纵轴表示氧(O₂)和臭氧(O₃)的吸收系数。

如图4所示，当使用包含Xe的气体作为准分子灯10的发光气体时，从准分子灯10射出的紫外线L1的主发光波长在160nm以上且小于180nm的范围内(以下称为“第一波段λ₁”)。如图4所示，该第一波段λ₁的光的基于氧(O₂)的吸收量较大。

当对被处理气体G1照射来自准分子灯10的第一波段λ₁的紫外线L1并被氧(O₂)吸收时，进行下述的(1)式的反应。在(1)式中，O(¹D)是激发状态的O原子，并显示高反应性。O(³P)是基态的O原子。此外，在(1)式中，hν(λ₁)表示第一波段λ₁的光被吸收。

O₂+hν(λ₁)→O(¹D)+O(³P) (1)

由(1)式生成的O(³P)与被处理气体G1中包含的氧(O₂)反应，按照式(2)生成臭氧(O₃)。

O(³P)+O₂→O₃ (2)

另外，显示高反应性的O(¹D)的一部分与被处理气体G1中包含的水(H₂O)反应，按照(3)式生成羟基自由基(·OH)。

O(¹D)+H₂O→·OH+·OH (3)

根据上述反应，通过生成显示高反应性的O(¹D)、羟基自由基(·OH)，被处理气体G1中包含的属于VOC的处理对象物质被有效地分解。

另一方面，参照图4，如以上所述，第一波段λ₁的紫外线L1的基于氧(O₂)的吸收量较大。因此，假如在箱体3的内侧未设置挡风部件20的情况下，即使从吸气口5导入被处理气体G1，紫外线L1也会被在准分子灯10附近流通的被处理气体G1中包含的氧吸收。其结果是，不能在维持高光量的情况下对在远离准分子灯10的位置流通的被处理气体G1照射紫外线L1。

图5是使下述关系图表化的图，该关系是在未设置挡风部件20的箱体3内配置准分子灯10、并一边使准分子灯10发光一边使被处理气体G1流通的情况下、距准分子灯10表面的距离与从准分子灯10照射的紫外线L1的相对照度的关系。详细而言，图5与下述结果相对应，该结果是以关于紫外线L1透射的距离呈指数函数衰减为前提，基于图4所示的准分子灯10的光谱数据和氧(O₂)的吸收系数以及紫外线L1的透射距离、并通过模拟而估算出的结果。在图5中，将在透射的距离为0的位置、即准分子灯10表面上的紫外线L1的照度设为100％，并使各个位置处的相对照度图表化。

由式(1)和式(3)可知：羟基自由基(·OH)的生成量与O(¹D)的量成正比，并且O(¹D)的量与所照射的光的量成正比。即，图5示出了距准分子灯10的表面、即光出射区域的距离、与羟基自由基(·OH)的生成量的关系。根据图5，确认：随着距准分子灯10的表面(光出射区域)的距离增加，羟基自由基(·OH)的浓度降低。并且确认：当距准分子灯10的表面(光出射区域)分开超过10mm左右时，羟基自由基(·OH)的浓度变得极低。此外，根据图5，确认：无论被处理气体G1的湿度如何都显示相同的趋势，并且被处理气体G1的湿度越高、则羟基自由基(·OH)的生成浓度越高。

如上上述，根据本实施方式的气体处理装置1，在箱体3的内侧配置有挡风部件20，因此被处理气体G1的流通区域被挡风部件20限定。更详细而言，从吸气口5导入的被处理气体G1与挡风面23碰撞而改变行进方向，并在10mm以下的间隙21内流通。其结果是，可以将被处理气体G1引导至准分子灯10的光出射区域附近。由此，对位于该区域的被处理气体G1以高比例照射准分子灯10的紫外线L1，因此显示高反应性的O(¹D)、·OH生成概率升高。

图1所示的气体处理装置1是在方向d1上分离的位置上设置有两片挡风部件20的构成，但挡风部件20可以为三片以上，还可以为一片。即使当气体处理装置1具备一片挡风部件20时，从吸气口5导入的被处理气体G1一旦通过间隙21后就朝向排气口7流通。其结果是，就被处理气体G1而言，虽然是暂时的但其一定在准分子灯10的光出射区域附近通过，因此通过在该通过时其被紫外线L1照射，显示高反应性的O(¹D)、·OH生成概率升高。

准分子灯10不限于图2的形状，也可以使用图6、图7所示的结构的准分子灯。图6是呈所谓的“单层管结构”的准分子灯10被与方向d1正交的平面切断时的示意性的剖面图。与图2所示的准分子灯10不同，图6所示的准分子灯10具有一个管体14。管体14在长度方向、即方向d1上的端部被密封(未图示)，在内侧的空间内封入有发光气体13G。而且，第二电极12配置在管体14的内侧(内部)，在管体14的外壁面上配置有网眼形状或者线形状的第一电极11。

图7是效仿图6示意性地图示出呈所谓的“扁平管构造”的准分子灯10的剖面图。图7所示的准分子灯10具有从长度方向、即方向d1观察时呈矩形的一个管体14。而且，准分子灯10具有第一电极11和第二电极12，该第一电极11配置在管体14的一个外表面上，该第二电极12在管体14的外表面、并配置在与第一电极11相对的位置上。为了不妨碍在管体14中产生的紫外线L1射出至管体14的外部，第一电极11和第二电极12均具有筛网形状(网眼形状)或线形状。

此外，对于准分子灯10被与方向d1正交的平面切断时的形状，不限于图2和图6所示的圆形、图7所示的矩形，可以采用各种形状。

确认了：在气体处理装置1中，通过使被处理气体G1在准分子灯10的光出射区域附近处以23m/s以下的流速流通，能够进一步提高被处理气体G1中包含的VOC的分解效率。以下，参照实施例进行说明。

实施例

以下，基于实验数据进行说明。图8是示意性地表示模拟了气体处理装置1的实验系统的构成的图。实验系统2具有内置处理空间8的箱体3和与箱体3连接的导管(51、52、53)。VOC生成器30通过使VOC挥发，生成使空气中含有甲醛而成的被处理气体G1。被处理气体G1从吸气口5被吸入导管51内，并在导管51内流通，然后被引导至处理空间8中。被处理气体G1通过在处理空间8内被紫外线L1照射而处理，然后经过导管52和53作为处理后气体G2从排气口7排放到系统外。

导管52中设置有用于测定从处理空间8排出的气体中包含的VOC的浓度的VOC测量仪41。另外，在导管53内设置有用于控制被处理气体G1的流速的鼓风机42。

图9是表示下述关系的图表，该关系是在VOC生成器30生成作为VOC的甲醛、以及VOC生成器30生成作为VOC的甲苯这两种情况下、被处理气体G1的流速与VOC去除率的关系。VOC去除率Y1是指，将在照射紫外线L1之前被处理气体G1中包含的VOC的含有浓度设为基准浓度A1、将在处理后气体G2中包含的VOC的含有浓度设为处理后浓度A2时，由Y1＝(A1-A2)/A1定义的值。

此外，基准浓度A1采用了将准分子灯10设为关灯状态并且使被处理气体G1从吸气口5流通时、用VOC测量仪41读取的VOC浓度。另外，处理后浓度A2采用了将准分子灯10设为开灯状态、并以相同的方式测得的值。

实验系统2的详细条件如下。

在将VOC设为甲醛的情况下，通过VOC生成器30，将被处理气体G1中包含的甲醛的含有浓度设定为15ppm。另外，在将VOC设为甲苯的情况下，通过VOC生成器30，将被处理气体G1中包含的甲苯的含有浓度设定为10ppm。

准分子灯10采用了图7所示的扁平管结构的准分子灯。具体而言，从方向d1观察时的矩形部分为11mm×20mm，在方向d1上的长度为145mm。

挡风部件20设置于在d1方向上距准分子灯10的吸气口5侧的端部100mm处。挡风部件20是由PTFE等氟系树脂形成的板状部件，当准分子灯10的管体14被贯通时，为了确保距电极(11、12)6mm的间隙21而设置了开口。此外，在图7中，在管体14的宽度方向上的端面与挡风部件20之间形成的间隙21为6mm以下。

箱体3的流通部分的内径、导管(52、53)的内径均为Φ100。

被处理气体G1的流速通过红外线式风速仪testo425(株式会社testo制造)而进行了测定。此外，图9的横轴所表示的流速的值采用了下述值：由通过上述方法测得的在Φ100的导管53内流动的处理后气体G2的速度值、并通过对在3mm的间隙21中通过的被处理气体G1的速度值进行运算而估算出的值。更具体而言，被处理气体G1(及处理后气体G2)的流量Q由流通区域的剖面面积S与流速v的乘积来规定，当流量Q为恒定时，剖面面积S与流速v的乘积就是恒定的，因此可以由测得了流速v处的流通区域的剖面面积S1、测得的流速v1、以及期望求出处的流通区域的剖面面积S2来估算出期望求出处的流速v2。

在图9所示的图表上标绘的值如下表1所示。

表1

令人惊讶的是，根据图9，确认了：在通过间隙21的被处理气体G1的流速为23m/s以下的范围内时，VOC的去除率约为100％，而超过23m/s时，VOC的去除率随着流速的增加而降低。进一步确认了：当通过间隙21的被处理气体G1的流速超过35m/s时，VOC的去除率的降低趋势变得显著。此外，无论VOC物质是甲醛还是甲苯，其结果都是相同的。进而，即使将准分子灯10的结构设为图2所示的形状时，也获得了完全相同的结果。

可以认为其原因是：通过使被处理气体G1通过间隙21，即使使被处理气体G1在准分子灯10的光出射区域附近流通，如果其速度过快，则在通过间隙21之后其立即扩散到远离准分子灯10的光出射区域处，从而上述(1)式～(3)的反应不会充分地发生。

另一方面，可以认为：在通过间隙21的被处理气体G1的流速在23m/s以下的范围内的情况下，在发生上述(1)～(3)式的反应期间内，由于可以使被处理气体G1在准分子灯10的光出射区域附近流动，因此能够有效地分解VOC。

此外，根据相同的运算，当将间隙21的大小设为7mm时，优选将通过间隙21的被处理气体G1的流速设为8m/s以下。当将间隙21的大小设为8mm时，优选将通过间隙21的被处理气体G1的流速设为6.7m/s以下。当将间隙21的大小设为9mm时，优选将通过间隙21的被处理气体G1的流速设为5.7m/s以下。当将间隙21的大小设为10mm时，优选将通过间隙21的被处理气体G1的流速设为5m/s以下。

另外，将被处理气体G1的粘度系数设为μ(N·s/m²)、将配管的直径设为L(m)、将密度设为ρ(kg/m³)、将流速设为v(m/s)时，雷诺数Re由下述式(4)定义。

Re＝(ρ·v·L)/μ (4)

在此，当雷诺数Re为2300以上时，判断流体是湍流。在此，当L的值采用导管(52、53)的内径Φ＝100mm并将粘度系数μ的值设为1.82×10^-5(Pa·s)、将密度ρ的值设为1.20×10^-3(g/cm³)时，确认：当流速v≥0.32m/s时，被处理气体G1在导管(52、53)内产生湍流。气体处理装置1如果设定通过与Φ100以上的通常的导管连接来利用，则通过将被处理气体G1的流速设为0.3m/s以上，被处理气体G1在气体处理装置1内变得容易产生湍流。其结果是大多数被处理气体G1变得容易在准分子灯10的光出射区域附近流通。

[其他实施方式]

以下，对其他实施方式进行说明。

＜1＞在上述实施方式中，挡风部件20由在中央附近具有开口的板状部件形成，通过使作为光源的准分子灯10贯通开口处而形成间隙21。然而，通过将不具有开口的多片挡风部件20配置成夹入准分子灯10的管体14，也可以将在挡风部件20和准分子灯10的光出射区域之间形成的间隙21的内径设为10mm以下。

＜2＞如图10所示，通过不设置挡风部件20而将箱体3的内侧的开口区域的一部分缩窄，可以将在箱体3的内壁和准分子灯10的光出射区域之间形成的间隙21的内径设为10mm以下。

在该情况下，如果在上述式(4)中设为L＝10mm，通过将被处理气体G1的流速设为3.5m/s以上，被处理气体G1变得容易在气体处理装置1内产生湍流。此外，在L＝9mm的情况下，通过将被处理气体G1的流速设为3.9m/s以上，被处理气体G1变得容易在气体处理装置1内产生湍流。此外，在L＝8mm的情况下，通过将被处理气体G1的流速设为4.4m/s以上，被处理气体G1变得容易在气体处理装置1内产生湍流。此外，在L＝7mm的情况下，通过将被处理气体G1的流速设为5m/s以上，被处理气体G1变得容易在气体处理装置1内产生湍流。此外，在L＝6mm的情况下，通过将被处理气体G1的流速设为5.8m/s以上，被处理气体G1变得容易在气体处理装置1内产生湍流。

＜3＞在上述实施方式中，虽然对准分子灯10的长度方向与被处理气体G1的流通方向d1一致的情况进行了说明，但准分子灯10的配置方式是任意的。

进而，在上述实施方式中，虽然对气体处理装置1具有准分子灯10作为光源的情况进行了说明，但只要发出主发光波长为160nm～180nm的紫外线L1，光源就不限于准分子灯10。

＜4＞在参照了图8的实验系统2中，虽然通过鼓风机42控制了被处理气体G1的流速，但将在间隙21内流通的被处理气体G1的流速设为23m/s以下的方法是任意的。

＜5＞根据图9和表1，可知：当被处理气体G1的流速超过35m/s时，VOC去除率进一步降低。而且，当将被处理气体G1的流速设为35m/s以下时，对于甲醛和甲苯这两者都实现80％以上的去除率。

根据环境标准，如果可以从包含VOC的气体(在此称为被处理气体G1)中去除80％以上的VOC，则存在容许将其从管道中排放到系统外的情况。在该情况下，可以将被处理气体G1的流速设定为35m/s以下。当然，从将VOC去除率进一步提高到超过80％的观点考虑，优选将被处理气体G1的流速设为31m/s以下，特别优选设为23m/s以下。

符号说明

1气体处理装置、2实验系统、3箱体、5吸气口、7排气口、8处理空间、10准分子灯、11第一电极、12第二电极、13G发光气体、14管体、14a外侧管、14b内侧管、19基部、20挡风部件、21间隙、23挡风面、30VOC生成器、41VOC测定仪、42鼓风机、51、52、53导管、L1紫外线

Claims (12)

1.一种气体处理方法，其特征在于，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对所述被处理气体进行处理的气体处理方法，

其中，在所述处理空间内配置有射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

经由与所述光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙，以23m/s以下的流速流通所述被处理气体。

2.根据权利要求1所述的气体处理方法，其特征在于，所述被处理气体的流速为0.3m/s以上。

3.根据权利要求1或2所述的气体处理方法，其特征在于，所述光源是包含封入有含有Xe的发光气体的管体的准分子灯。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体处理方法，其特征在于，所述处理对象物质包含属于由甲醛及甲苯构成的组中的至少一种。

5.一种气体处理装置，其特征在于，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对所述被处理气体进行处理的气体处理装置，

其包括：

将所述被处理气体导入所述处理空间内的吸气口；

将在所述处理空间内被处理过的所述被处理气体排出的排气口；以及

配置在所述处理空间内、并射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

所述被处理气体经由与所述光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙、并以23m/s以下的流速在所述处理空间内流通。

6.根据权利要求5所述的气体处理装置，其特征在于，所述被处理气体的流速为0.3m/s以上。

7.根据权利要求5或6所述的气体处理装置，其特征在于，所述光源是包含封入有含有Xe的发光气体的管体的准分子灯。

8.根据权利要求7所述的气体处理装置，其特征在于，其具有挡风部件，该挡风部件配置成具有所述间隙并且围绕所述管体、或者具有所述间隙并且夹入所述管体。

9.根据权利要求5至8中的任一项所述的气体处理装置，其特征在于，其具有配置在所述吸气口和所述排气口之间的控制所述被处理气体的流速的鼓风机。

10.根据权利要求5至9中任一项所述的气体处理装置，其特征在于，所述处理对象物质包含属于由甲醛及甲苯构成的组中的至少一种。

11.一种气体处理方法，其特征在于，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对所述被处理气体进行处理的气体处理方法，

其中，在所述处理空间内配置有射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

经由与所述光源的光出射区域相距10mm以下的间隙，以35m/s以下的流速流通所述被处理气体。

12.一种气体处理装置，其特征在于，其是使属于VOC的处理对象物质在空气中混合存在而成的被处理气体在处理空间内流通、并对所述被处理气体进行处理的气体处理装置，

其包括，

将所述被处理气体导入所述处理空间内的吸气口；

将在所述处理空间内被处理过的所述被处理气体排出的排气口；以及

配置在所述处理空间内、并射出主发光波长为160nm～180nm的紫外线的光源，

所述被处理气体经由与所述光源的光出射区域的相隔距离为10mm以下的间隙、并以35m/s以下的流速在所述处理空间内流通。

Images