CN114111281A - 一种半导体晶片加工用氮气烘干设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，包括烘干槽、空气压缩罐和排水口，烘干槽内壁两侧顶部均活动安装有水风共用管，空气压缩罐位于烘干槽一侧，排水口开设在烘干槽内壁底部，水风共用管表面前侧固定连接有齿轮。本发明能够活动冲洗烘干避免晶片二次转移，能够均与扫风烘干，保证烘干受热均，以解决现有直线冲洗后的颗粒还会残留在晶片表面，烘干后部分晶片顶部会有顽固的颗粒残存，致使产品残次量极大，同时大多冲洗后的烘干为静置烘干，烘干过程中微颗粒不会被动摇，依然贴附在晶片表面，严重影响晶片后期的使用，且静置烘干的不均匀，为后期的产品质检带来了很大阻碍，需要更仔细的辨别表面的问题。

Description

一种半导体晶片加工用氮气烘干设备
技术领域
本发明涉及半导加工设备技术领域，尤其涉及为一种半导体晶片加工用氮气烘干设备。
背景技术
晶片作为重要的半导体元件，一旦受到污染，容易造成集成电路晶片内电路功能的损坏，进而导致整个电路的失效。但是，在晶片加工制造过程中又不可避免地会受到各种环境因素的污染，为了严格控制加工环境，保证晶片的清洁度，几乎在晶片加工制造的每一道工序都涉及清洗工艺，而在清洗之后需要及时将晶片进行烘干处理，防止其受到外界环境的污染。此外，在晶片加工制造的过程中，由于加工工艺的需要，晶片表面经常会有油污、化学药剂、蜡、金属等物质的残留，利用清洗站将这些残留物清洗掉之后，同样需要及时对清洗后的晶片进行无污染的烘干处理。
目前，用于晶片湿法清洗后的烘干装置，结构粗糙，喷淋清洗后的干燥不考虑水中的微物质，且直线冲洗后的颗粒还会残留在晶片表面，烘干后部分晶片顶部会有顽固的颗粒残存，致使产品残次量极大，同时大多冲洗后的烘干为静置烘干，烘干过程中微颗粒不会被动摇，依然贴附在晶片表面，严重影响晶片后期的使用，且静置烘干的不均匀，为后期的产品质检带来了很大阻碍，需要更仔细的辨别表面。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明目的是提供一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，能够活动冲洗烘干避免晶片二次转移，能够均与扫风烘干，保证烘干受热均，以解决现有直线冲洗后的颗粒还会残留在晶片表面，烘干后部分晶片顶部会有顽固的颗粒残存，致使产品残次量极大，同时大多冲洗后的烘干为静置烘干，烘干过程中微颗粒不会被动摇，依然贴附在晶片表面，严重影响晶片后期的使用，且静置烘干的不均匀，为后期的产品质检带来了很大阻碍，需要更仔细的辨别表面的问题。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，包括烘干槽、空气压缩罐和排水口，所述烘干槽内壁两侧顶部均活动安装有水风共用管，所述空气压缩罐位于烘干槽一侧，所述排水口开设在烘干槽内壁底部，所述水风共用管表面前侧固定连接有齿轮，所述烘干槽内壁远离空气压缩罐的一侧固定连接有管道摆动机构，所述水风共用管背面连通有输送管，所述输送管远离水风共用管的一端连通有三通接头一，所述三通接头一远离输送管的一端连通有三通接头二，所述三通接头二远离输送管的一端连通有加热器，所述加热器另一端通过管道与空气压缩罐相连通，所述空气压缩罐底部连通有氮气输送管，所述三通接头二另一端连通有水管，所述烘干槽内壁底部设置有放置板，所述放置板底部固定连接有除渣机构，所述三通接头一靠近三通接头二的一侧连通有过滤机构，所述三通接头二靠近氮气输送管与水管的一侧分别连通有第一电磁阀与第二电磁阀。
进一步地，所述管道摆动机构包括步进电机，所述步进电机输出端固定连接有螺杆，所述螺杆表面套设有第一齿板，所述第一齿板与齿轮啮合，所述烘干槽内壁远离第一齿板的一侧滑动安装有第二齿板，所述第二齿板与齿轮啮合，所述第一齿板顶部固定安装有连接板，所述连接板底部远离第一齿板的一侧与第二齿板固定连接。
进一步地，所述除渣机构包括变频电机，所述变频电机输出端固定连接有凸轮，所述放置板底部固定连接有位于凸轮一侧的挡板，所述烘干槽内壁底部靠近第一齿板的一侧固定连接有固定板，所述固定板靠近挡板的一侧固定固定连接有弹簧，所述弹簧另一端与挡板固定连接。
进一步地，所述过滤机构包括过滤盒，所述过滤盒正面一侧固定连接有气缸，所述气缸活塞端固定连接有压板，所述压板底部滑动安装有过滤板，所述压板底部固定安装有位于过滤板外侧的密封圈。
进一步地，所述放置板底部四角均固定连接有支撑板，所述支撑板外侧活动安装有活动柱，所述烘干槽内壁前侧与后侧的底部均开设有与活动柱滑动配合的滑槽。
进一步地，所述过滤板顶部固定连接有梯形滑块，所述压板底部开设有与梯形滑块配合使用的安装槽，所述梯形滑块顶部前侧固定连接有定位凸块，所述安装槽内壁底部前侧开设与定位凸块配合使用的凹槽。
进一步地，所述连接板底部固定连接有滑杆，所述烘干槽内壁后侧固定连接有限位板，所述限位板与滑杆滑动配合。
进一步地，所述步进电机右侧固定连接有防护罩，所述防护罩顶部固定连接有密封板。
本发明的有益效果：本发明通过管道摆动机构对水风共用管进行摆动喷水扫射喷气扫风，配合除渣机构将晶片进行晃动与喷水扫射喷气扫风动作配合震动除渣，再通过过滤机构将喷水与喷气更加纯净，减少氮气烘干时的颗粒，提高了烘干质量，保证产品后期的使用稳定性。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明的主视立体结构示意图；
图2为本发明的后视轴侧立体结构示意图；
图3为本发明的左视轴侧立体结构示意图；
图4为本发明的主视剖面结构示意图；
图5为图4中A处放大结构示意；
图6为图4中B处放大结构示意；
图7为图4中C处放大结构示意。
图中：1、烘干槽；2、空气压缩罐；3、排水口；4、水风共用管；5、齿轮；6、管道摆动机构；61、步进电机；62、螺杆；63、第一齿板；64、第二齿板；65、连接板；7、输送管；8、三通接头一；9、三通接头二；10、加热器；11、水管；12、放置板；13、除渣机构；131、变频电机；132、凸轮；133、挡板；134、固定板；135、弹簧；14、过滤机构；141、过滤盒；142、气缸；143、压板；144、过滤板；145、密封圈；15、第一电磁阀；16、第二电磁阀；17、支撑板；18、活动柱；19、滑槽；20、梯形滑块；21、安装槽；22、定位凸块；23、凹槽；24、滑杆；25、限位板；26、防护罩；27、密封板；28、氮气输送管；。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
请参阅图1，图1为本发明的主视立体结构示意图。
一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，包括烘干槽1、空气压缩罐2和排水口3，烘干槽1内壁两侧顶部均活动安装有水风共用管4，空气压缩罐2位于烘干槽1一侧，排水口3开设在烘干槽1内壁底部，水风共用管4表面前侧固定连接有齿轮5，烘干槽1内壁远离空气压缩罐2的一侧固定连接有管道摆动机构6，水风共用管4背面连通有输送管7，输送管7远离水风共用管4的一端连通有三通接头一8，三通接头一8远离输送管7的一端连通有三通接头二9，三通接头二9远离输送管7的一端连通有加热器10，加热器10另一端通过管道与空气压缩罐2相连通，空气压缩罐2底部连通有氮气输送管28，三通接头二9另一端连通有水管11，烘干槽1内壁底部设置有放置板12，放置板12底部固定连接有除渣机构13，三通接头一8靠近三通接头二9的一侧连通有过滤机构14。
请参阅图2、图3、图4、图5、图6和图7，图2为本发明的后视轴侧立体结构示意图；图3为本发明的左视轴侧立体结构示意图；图4为本发明的主视剖面结构示意图；图5为图4中A处放大结构示意；图6为图4中B处放大结构示意；图7为图4中C处放大结构示意。
管道摆动机构6包括步进电机61，步进电机61输出端固定连接有螺杆62，螺杆62表面套设有第一齿板63，第一齿板63与齿轮5啮合，烘干槽1内壁远离第一齿板63的一侧滑动安装有第二齿板64，第二齿板64与齿轮5啮合，第一齿板63顶部固定安装有连接板65，连接板65底部远离第一齿板63的一侧与第二齿板64固定连接，启动步进电机61能够带动螺杆62旋转，使螺杆62旋转带动第一齿板63进行上下活动，第一齿板63上下活动能够带动连接板65上下移动，使连接板65带动第二齿板64上下移动，同时第一齿板63与第二齿板64同时带动齿轮5旋转，使齿轮5带动水风共用管4旋转进行扫风或倾斜喷射清洗水。
除渣机构13包括变频电机131，变频电机131输出端固定连接有凸轮132，放置板12底部固定连接有位于凸轮132一侧的挡板133，烘干槽1内壁底部靠近第一齿板63的一侧固定连接有固定板134，固定板134靠近挡板133的一侧固定固定连接有弹簧135，弹簧135另一端与挡板133固定连接，启动变频电机131带动凸轮132旋转，凸轮132旋转带动挡板133左右晃动，挡板133带动放置板12左右晃动，使放置板12对顶部的晶片进行晃动配合顶部扫射的氮气烘干风与清洗水，消除顶部的粘黏的粉尘或微颗粒，在挡板133向左移动至极限位置时，弹簧135的弹力复位可将挡板133向右弹动进行复位，使挡板133可快速循环操作，且可通过变频电机131调频实现晃动频率的调整保证晃动效率。
过滤机构14包括过滤盒141，过滤盒141正面一侧固定连接有气缸142，气缸142活塞端固定连接有压板143，压板143底部滑动安装有过滤板144，压板143底部固定安装有位于过滤板144外侧的密封圈145，过滤盒141可收集氮气烘干风与清洗水中的杂质，保证清洗时与烘干时的整洁，消除空气压缩罐2与外接水源中的杂质，保证氮气烘干的质量，启动气缸142可带动压板143进行上下活动，压板143向上移动可带动过滤板144向上脱离过滤盒141方便更换过滤板144，同时向下移动可通过压板143带动过滤板144与过滤盒141配合进行过滤操作，同时向下压紧的密封圈145可防止氮气烘干风与清洗水的泄漏。
放置板12底部四角均固定连接有支撑板17，支撑板17外侧活动安装有活动柱18，烘干槽1内壁前侧与后侧的底部均开设有与活动柱18滑动配合的滑槽19，支撑板17能够对放置板12进行支撑，同时再通过活动柱18可使放置板12进行稳定的左右晃动，配合滑槽19还能够进行上下浮动，使摇摆操作时幅度更全面，使微颗粒能够快速脱离晶片。
过滤板144顶部固定连接有梯形滑块20，压板143底部开设有与梯形滑块20配合使用的安装槽21，梯形滑块20顶部前侧固定连接有定位凸块22，安装槽21内壁底部前侧开设与定位凸块22配合使用的凹槽23，梯形滑块20能够配合安装槽21进行上下限位，防止梯形滑块20与滑槽19向上分离，保证梯形滑块20只能进行前后滑动，同时定位凸块22与凹槽23配合后可对梯形滑块20的前后位置进行定位，保证滑动到凹槽23处时压板143可进行向下移动，使压板143带动过滤板144密封。
连接板65底部固定连接有滑杆24，烘干槽1内壁后侧固定连接有限位板25，限位板25与滑杆24滑动配合，滑杆24能够配合限位板25对连接板65进行限位，使连接板65稳定的进行上下传动，同时可防止连接板65出现倾斜卡死影响第一齿板63对第二齿板64的传动。
步进电机61右侧固定连接有防护罩26，防护罩26顶部固定连接有密封板27，防护罩26采用隔热材料，防止步进电机61受损，同时密封板27可使向上活动的第一齿板63的缝隙被抵紧，避免喷淋的清洗水对步进电机61造成影响。
工作原理：需进行氮气烘干时，将放置晶片的放置架卡接或安装在放置板12顶部，随后通过关闭第一电磁阀15开启第二电磁阀16使水管11可进行清洗水的输送，清洗水通过三通接头一8进入水风共用管4进行喷水，随后再启动步进电机61带动螺杆62旋转，使螺杆62旋转带动第一齿板63进行上下活动，第一齿板63上下活动带动连接板65上下移动，使连接板65带动第二齿板64上下移动，同时第一齿板63与第二齿板64同时带动齿轮5旋转，使齿轮5带动水风共用管4旋转进行倾斜喷射清洗水，消除表面的残留物，冲洗过程中同步启动变频电机131带动凸轮132旋转，凸轮132旋转带动挡板133左右晃动，挡板133带动放置板12左右晃动，使放置板12对顶部的晶片进行晃动配合顶部扫射的清洗水，消除顶部的粘黏的粉尘或微颗粒，冲洗完成后再开启第一电磁阀15关闭第二电磁阀16使加热器10对氮气进行加热，随后喷射进入水风共用管4内部，再步进电机61带动螺杆62旋转，使螺杆62旋转带动第一齿板63进行上下活动，第一齿板63上下活动带动连接板65上下移动，使连接板65带动第二齿板64上下移动，同时第一齿板63与第二齿板64同时带动齿轮5旋转，使齿轮5带动水风共用管4旋转进行倾斜喷射热氮气烘干晶片，再同步启动变频电机131带动凸轮132旋转，凸轮132旋转带动挡板133左右晃动，挡板133带动放置板12左右晃动，使放置板12对顶部的晶片进行晃动配合顶部扫射的氮气烘干风均匀烘干晶片，同上两步骤均通过过滤盒141内部的过滤板144消除输送过程中的颗粒物，保证清洗与烘干的纯度，提高烘干与清洗的质量，定期启动气缸142可带动压板143进行上下活动，压板143向上移动可带动过滤板144向上脱离过滤盒141方便更换过滤板144，同时向下移动可通过压板143带动过滤板144与过滤盒141配合进行过滤操作。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点，对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (8)

1.一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，包括烘干槽(1)、空气压缩罐(2)和排水口(3)，其特征在于：所述烘干槽(1)内壁两侧顶部均活动安装有水风共用管(4)，所述空气压缩罐(2)位于烘干槽(1)一侧，所述排水口(3)开设在烘干槽(1)内壁底部，所述水风共用管(4)表面前侧固定连接有齿轮(5)，所述烘干槽(1)内壁远离空气压缩罐(2)的一侧固定连接有管道摆动机构(6)，所述水风共用管(4)背面连通有输送管(7)，所述输送管(7)远离水风共用管(4)的一端连通有三通接头一(8)，所述三通接头一(8)远离输送管(7)的一端连通有三通接头二(9)，所述三通接头二(9)远离输送管(7)的一端连通有加热器(10)，所述加热器(10)另一端通过管道与空气压缩罐(2)相连通，所述空气压缩罐(2)底部连通有氮气输送管(28)，所述三通接头二(9)另一端连通有水管(11)，所述烘干槽(1)内壁底部设置有放置板(12)，所述放置板(12)底部固定连接有除渣机构(13)，所述三通接头一(8)靠近三通接头二(9)的一侧连通有过滤机构(14)，所述三通接头二(9)靠近氮气输送管(28)与水管(11)的一侧分别连通有第一电磁阀(15)与第二电磁阀(16)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述管道摆动机构(6)包括步进电机(61)，所述步进电机(61)输出端固定连接有螺杆(62)，所述螺杆(62)表面套设有第一齿板(63)，所述第一齿板(63)与齿轮(5)啮合，所述烘干槽(1)内壁远离第一齿板(63)的一侧滑动安装有第二齿板(64)，所述第二齿板(64)与齿轮(5)啮合，所述第一齿板(63)顶部固定安装有连接板(65)，所述连接板(65)底部远离第一齿板(63)的一侧与第二齿板(64)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述除渣机构(13)包括变频电机(131)，所述变频电机(131)输出端固定连接有凸轮(132)，所述放置板(12)底部固定连接有位于凸轮(132)一侧的挡板(133)，所述烘干槽(1)内壁底部靠近第一齿板(63)的一侧固定连接有固定板(134)，所述固定板(134)靠近挡板(133)的一侧固定固定连接有弹簧(135)，所述弹簧(135)另一端与挡板(133)固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述过滤机构(14)包括过滤盒(141)，所述过滤盒(141)正面一侧固定连接有气缸(142)，所述气缸(142)活塞端固定连接有压板(143)，所述压板(143)底部滑动安装有过滤板(144)，所述压板(143)底部固定安装有位于过滤板(144)外侧的密封圈(145)。
5.根据权利要求1所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述放置板(12)底部四角均固定连接有支撑板(17)，所述支撑板(17)外侧活动安装有活动柱(18)，所述烘干槽(1)内壁前侧与后侧的底部均开设有与活动柱(18)滑动配合的滑槽(19)。
6.根据权利要求4所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述过滤板(144)顶部固定连接有梯形滑块(20)，所述压板(143)底部开设有与梯形滑块(20)配合使用的安装槽(21)，所述梯形滑块(20)顶部前侧固定连接有定位凸块(22)，所述安装槽(21)内壁底部前侧开设与定位凸块(22)配合使用的凹槽(23)。
7.根据权利要求2所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述连接板(65)底部固定连接有滑杆(24)，所述烘干槽(1)内壁后侧固定连接有限位板(25)，所述限位板(25)与滑杆(24)滑动配合。
8.根据权利要求2所述的一种半导体晶片加工用氮气烘干设备，其特征在于：所述步进电机(61)右侧固定连接有防护罩(26)，所述防护罩(26)顶部固定连接有密封板(27)。
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Denomination of invention: A nitrogen drying equipment for semiconductor wafer processing

Effective date of registration: 20230907

Granted publication date: 20230512

Pledgee: BINHAI YIRUN ELECTRONICS CO.,LTD.

Pledgor: YANCHENG XIRUN SEMICONDUCTOR Co.,Ltd.

Registration number: Y2023980055661