CN114096839A - 成像质量分析装置 - Google Patents

Abstract

本发明的一方案的成像质量分析装置具备：分析执行部(1、31)，对在试样上的二维区域内设定的多个测量点分别执行质量分析，对每个该测量点收集在规定的质荷比范围内的质谱数据；条件存储部(32)，预先存储基于在分析执行部的分析得到的质谱数据生成数据矩阵时的数据矩阵生成条件；数据矩阵生成部(42)，在从分析执行部进行分析的执行途中开始或者接在该分析结束后，依照在条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，基于在该时间点已经收集到的质谱数据来生成数据矩阵。

Description

成像质量分析装置

技术领域

本发明涉及成像质量分析装置。

背景技术

质量分析成像法是基于对生物体组织切片等试样上的规定区域内的多个测量点分别进行质量分析的结果，来调查具有特定的质量的物质的分布的方法，在药物研发、生物标记搜索、各种疾病与疾患的原因查明等的应用正被逐步推进。用于实施质量分析成像法的质量分析装置一般被称为成像质量分析装置。

在成像质量分析装置中，一般对试样上所设定的二维范围所包含的一个测量点照射细径的激光等离子化探针，将存在于该测量点的试样成分离子化，对由此生成的离子或者从该离子通过解离等而二次生成的离子进行质量分析。然后，在试样上对离子化探针的照射位置进行二维扫描的同时重复相同的测量，由此依次收集与多个测量点分别对应的、规定的质荷比m/z范围内的质谱数据。

通过这样在成像质量分析装置中获取的数据是三维数据，该三维数据是通过在一个测量点由质量分析得到的质荷比m/z-离子强度的二维数据中进一步加入了测量点的位置的信息。换言之，该三维数据是以实施了质量分析的质荷比范围内的质荷比轴向的数据点的数量形成有示出离子强度的空间分布的质量分析成像图像的数据，是非常庞大的量。在成像质量分析装置的数据解析中，为了从这样庞大的量的数据中提取具有应该关注的空间分布、有意义的离子强度的增减或者差异等的信息，而广泛利用主成分分析、簇分析等多变量解析的方法(参照非专利文献1等)。

为了高效地进行多变量解析，通常进行基于收集到的数据生成规定形式的数据矩阵的处理来作为解析的前处理作业(参照专利文献1等)。在该数据矩阵中，特定的质荷比值的离子强度数据将试样上的测量点数量的部分沿行方向或者列方向排列，进而该1行或者1列的数据排列将质荷比轴向的数据点的数量部分沿列方向或者行方向排列。通常，由于质荷比轴向的数据点数非常多，因此，一般通过仅提取与在质谱上检测到的峰的重心位置(质荷比)对应的数据点、或者以规定的质荷比间隔进行下采样(Down Sampling)(即，数据的间隔剔除)，来减少质荷比轴向的数据点数，由此削减数据的总量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-261882号公报

非专利文献

非专利文献1：“使IMAGEREVEALTM MS质量分析成像的数据解析简单化且如你所想”，[在线]，株式会社岛津制作所，[2019年7月4日检索]，网址<URL：https://www.an.shimadzu.co.jp/bio/imagalal/index.htm>

发明内容

发明所要解决的技术问题

近年来，质量分析领域的技术的发展显著，在成像质量分析装置中，质量分辨率的提高、质量分析成像图像的空间分辨率的提高(即高分辨率化)显著。因此，特别是质荷比轴向以及测量点的位置信息的方向上的数据点数大幅增加，对试样上的一个二维区域得到的数据的总量有时会超过100GB这样的程度。此外，随着质量分辨率的提高，在质谱中检测到的峰的数量也增大。由此，用于从庞大的量的数据中找出有意义的质量分析成像图像的多变量解析变得越来越重要。

然而，如上所述，在成像质量分析装置中收集的数据量庞大且数据矩阵本身也有形成大规模的倾向，因此作为多变量解析的前处理所必需的数据矩阵的生成所需要的时间变得非常长。例如，在目前市售的成像质量分析装置中，为了获取分辨率为100Mpixel且数据总量为数百GB的成像质量分析数据，最快也需要5～10小时左右，但基于这样得到的数据来生成数据矩阵的处理也需要数小时以上。在进行使用已经收集到的数据的多变量解析时，首先需要实施生成数据矩阵的处理，因此用户必须等待数小时左右才能开始实质的多变量解析的处理，这对于用户而言是较大的压力。

本发明是鉴于上述技术问题而完成的，其主要目的在于提供一种成像质量分析装置，能够减轻从实施成像质量分析来收集数据的时间点开始到进行基于所得到的数据的多变量解析而得到其结果为止期间、用户的等待时间的压力，改善作业效率。

用于解决上述技术问题的方案

为了解决上述技术问题而完成的本发明的一方案的成像质量分析装置具备：

分析执行部，对在试样上的二维区域内设定的多个测量点分别执行质量分析，对每个该测量点收集规定的质荷比范围内的质谱数据；

条件存储部，预先存储基于通过在所述分析执行部的分析而得到的质谱数据生成数据矩阵时的数据矩阵生成条件；

数据矩阵生成部，从所述分析执行部进行的分析的执行途中开始或者接在该分析结束后，依照所述条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，基于在该时间点已经收集到的质谱数据来生成数据矩阵。

发明效果

在使用了以往的成像质量分析装置的解析中，在结束了对试样的全部测量并保存有对试样上的各测量点的质谱数据的状态下，若为了多变量解析等产生生成数据矩阵的需要，则用户在设定了数据矩阵生成条件后进行进行数据矩阵生成处理的指示，成像质量分析装置接收上述设定以及指示并实施数据矩阵生成。

与此相对，在本发明的上述方案的成像质量分析装置中，用于基于通过分析得到的质谱数据生成数据矩阵的数据矩阵生成条件通常在分析的执行前预先被储存至条件存储部中。该数据矩阵生成条件例如可以由用户在分析执行之前的任意的时间点设定，也可以是由装置制造商等准备的默认的信息。在设定了数据矩阵生成条件的状态下，例如接收由用户发出的分析开始的指示等，分析执行部开始对在试样上的二维区域内设定的多个测量点的质量分析，对每个测量点收集规定的质荷比范围的质谱数据。数据矩阵生成部不根据来自用户的指示，而是在分析的执行途中或者分析结束后，继续根据已经设定的数据矩阵生成条件，基于质谱数据来生成数据矩阵。即，在本发明的上述方案的成像质量分析装置中，连续地或者实质上一体地(一部分并行地)执行通过分析进行的数据的收集和基于收集到的数据生成数据矩阵。

因此，根据本发明的上述方案的成像质量分析装置，由于在用户想要实施多变量解析时已经完成了数据矩阵，因此能够省去以往所需要的生成数据矩阵的作业而立即进行多变量解析。由此，能够减轻进行多变量解析时的用户的等待时间的压力，改善作业效率。在该方案的成像质量分析装置中，虽然数据矩阵生成处理所需要的时间对应有实质上延长了到分析结束为止的所需要时间，但由于通过原本的分析来获取数据要耗费较长的时间，因此分析作业大多在夜间、休息日等自动进行。因此，即使通过将用于生成数据矩阵的时间相加而导致到分析结束为止的所需要的时间延长，但在较多情况下，这对于用户而言不会成为较大的问题，直接进行多变量解析这一优点的影响力要远大于问题。

此外，上述的数据矩阵是容易提取对任意的或者特定的质荷比的全部测量点的离子强度数据的数据排列，因此适合形成特定的质荷比的质量分析成像图像。因此，根据本发明的上述方案的成像质量分析装置，可以在数据获取完成后迅速地显示质量分析成像图像。

附图说明

图1是作为本发明的一实施方式的成像质量分析装置的主要部分的构成图。

图2是本实施方式的成像质量分析装置中的质量分析动作的说明图。

图3是本实施方式的成像质量分析装置中的从分析到多变量解析为止的一系列作业的流程的说明图。

图4是示出数据矩阵的概念的图。

图5是示出本实施方式的成像质量分析装置中的条件设定画面的一例的图。

图6是在图5所示的条件设定画面中变更了数据矩阵生成条件的状态的图。

图7是示出选择目标列表作为数据矩阵生成条件的情况的目标列表设定画面的一例的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的成像质量分析装置的一实施方式进行说明。

图1是本实施方式的成像质量分析装置的主要部分的构成图。此外，图2是本实施方式的成像质量分析装置中的质量分析动作的说明图。

本实施方式的成像质量分析装置具备：成像质量分析部1，可以对试样上的二维区域内的多个测量点分别执行质量分析，并对每个测量点获取质谱数据；控制部3，控制成像质量分析部1所包含的各部的动作；数据处理部4，保存并处理通过成像质量分析部1得到的数据；输入部5以及显示部6，作为用户界面。

成像质量分析部1包含可以进行MS/MS分析(或者n为2以上的MSⁿ分析)的质量分析装置，例如MALDI离子化离子阱飞行时间型质量分析装置(MALDI-IT-TOFMS)。也可以是具备了MALDI离子源的三重四极型质量分析装置、四极-飞行时间型质量分析装置等来代替MALDI-IT-TOFMS。此外，离子源不限于MALDI离子源，也可以不使用LDI离子源、SALDI离子源乃至激光，而使用离子束、电子束等粒子束来进行离子化。

如图2所示，在成像质量分析部1中，依次对载置于试样台(未图示)的试样80上的二维区域81内的多个测量点82执行质量分析(通常的质量分析或者MS/MS分析)。然后，能够对各测量点分别获取构成图2所示的质谱的数据。

控制部3包含分析控制部31、分析条件存储部32和分析条件设定部33作为功能模块，分析条件设定部33进一步包含数据矩阵生成条件设定部34作为下位的功能模块。数据处理部4包含MS成像数据储存部41、数据矩阵生成部42、矩阵数据储存部43、多变量解析执行部44、成像图像生成部45以及显示处理部46作为功能模块。

通常来说，控制部3以及数据处理部4由个人计算机等通用计算机2构成，通过执行安装在该计算机的专用的控制与处理软件，能够实现控制部3以及数据处理部4中的各功能模块。

在本实施方式的成像质量分析装置中，能够执行基于通过执行对试样的成像质量分析得到的大量的数据的解析多变量解析。接下来，对从收集这样的数据开始到输出多变量解析的结果为止的一系列处理以及作业进行说明。图3是本实施方式的成像质量分析装置中的从分析到多变量解析为止的一系列的作业的流程的说明图。

首先，在实施对试样的分析之前，若用户在输入部5进行规定的操作，则分析条件设定部33接收该操作，将规定样式的分析条件设定画面显示于显示部6。图5是分析条件设定画面100的一例。

如图5所示，在分析条件设定画面100中配置有设定对象试样选择区域101、激光照射条件设定区域102、MS分析条件设定区域103以及数据保存条件设定区域104。激光照射条件设定区域102以及MS分析条件设定区域103是用于设定在成像质量分析部1中执行分析时的分析条件的区域，具体而言，激光照射条件设定区域102是用于设定MALDI离子源中的离子化时的条件的区域，MS分析条件设定区域103是用于设定离子源以外的分析条件的区域。相对与此，数据保存条件设定区域104是用于设定对由成像质量分析部1收集到的质谱数据进行保存的条件的区域，在此包含数据矩阵生成条件的设定区域。

在激光照射条件设定区域102中可以设定的条件为一个测量点对应的照射次数、该激光照射的重复频率、激光照射直径以及激光强度。在MS分析条件设定区域103中可以设定的条件为测量对象的离子的极性、事件类别(选择通常的质量分析还是MS/MS分析)、测量范围(测量对象的质荷比范围)、以及检测器电压，在事件类别中选择MS/MS分析的情况下，还可以设定前体离子的质荷比值、前级的四极质量过滤器(Q1)中的分辨率、碰撞能量(CE)等。

在数据保存条件设定区域104中配置有用于指定数据保存目的地的文件名的数据文件名框105、用于选择数据矩阵生成条件的下拉框106，在数据矩阵生成条件设定部34的控制下，在该下拉框106中，能够从作为数据矩阵生成条件而预先准备的多个选项中选择一个。

如图4所示，数据矩阵是如下所述的矩阵：在一方向上(在该例中为水平方向)配置质荷比值(m/z值)，在另一方向(在该例中为垂直方向)上配置二维区域内的测量点的位置信息，且将针对某测量点中的某质荷比值的离子强度数据设为各矩阵的要素。数据矩阵生成条件是示出该矩阵的水平方向的m/z值的决定方法的条件。在此，对数据矩阵生成条件的具体内容进行描述。

在本实施方式的成像质量分析装置中，作为数据矩阵生成条件，准备了图5所示的“最大强度谱的质心”和图6所示的“目标列表”这两个条件作为选项。

在“最大强度谱的质心”中，按照下述方式决定数据矩阵的m/z值。首先，从全部的测量点的质谱中对每个m/z值搜索最大的离子强度数据，生成将该最大离子强度数据沿着m/z轴排列的最大强度谱。接下来，在最大强度谱中根据规定的峰检测条件来检测峰，对检测到的每个峰进行质心处理并计算峰的重心位置。然后，将与检测到的全部的峰的重心位置对应的m/z值设为数据矩阵的m/z值，即图4中的m/z值。另外，此时也可以具有以下功能：从得到的数据矩阵的m/z值列表中去除例如源自MALDI用的矩阵的m/z值等的、其m/z值已知且明显不需要解析的信息。

另一方面，在“目标列表”中，将由用户设定的目标列表中例举的m/z值直接设为数据矩阵的m/z值，即图4中的m/z值。如图6所示，若用户在下拉框106中选择“目标列表”，则在其右端部出现列表设定用的按钮。若对该按钮进行点击操作，则数据矩阵生成条件设定部34以其他的画面显示图7所示的目标列表设定画面200。用户在目标列表201中输入作为测量对象的化合物名称和与其对应的m/z值。此外，也能够利用导入的功能，从另外生成的某化合物列表等中，将化合物名、m/z值等信息读取至目标列表201中。若目标列表201完成，则通过对“OK”按钮202进行点击操作来确定目标列表201。

除了上述那样的数据矩阵生成条件的选项以外，也可以添加下述的选项。

·“平均强度谱的质心”：在该数据矩阵生成条件中，只要使用平均谱即将全部的测量点的质谱平均而得到的质谱，来代替上述“最大强度谱的质心”中的最大强度谱即可。

·“全部的质荷比值”：在该数据矩阵生成条件中，不进行m/z方向的数据的缩减(down sizing)，而是将通过质量分析得到的全部的m/z值的离子强度数据用于数据矩阵。

·“特定的质荷比范围内的质荷比值”：在该数据矩阵生成条件中，使用户设定特定的m/z范围，将该范围所包含的全部的m/z值的离子强度数据用于数据矩阵。

·“以特定的质荷比间隔进行下采样”：在该数据矩阵生成条件中，使用户设定特定的m/z间隔，将每个该m/z间隔的m/z值的离子强度数据用于数据矩阵。

用户在显示的分析条件设定画面上适当地设定激光照射条件、MS分析条件以及数据保存条件中的各项目。针对数据矩阵生成条件，能够通过在上述那样的下拉框106中的选择以及目标列表的设定来进行该设定(步骤S1)。另外，在数据文件名框105中，只要对通过分析收集到的质谱数据或数据矩阵生成后的数据设定想要保存的适当的文件名即可。在如上述那样设定分析条件后，若用户执行规定的操作，则分析条件设定部33将包含数据矩阵生成条件的分析条件存储至分析条件存储部32。

然后，若用户通过规定的操作指示开始分析执行(步骤S2)，则分析控制部31根据分析条件存储部32中存储的分析条件来控制成像质量分析部1，从而实施成像质量分析。由此，成像质量分析部1针对在试样80上的二维区域81内设定的各测量点依次执行质量分析，获取与各测量点对应的质谱数据(步骤S3)。

所获取的数据被储存在数据处理部4中的MS成像数据储存部41中。如图2中的一例所示，相对于此时的一个测量点的质谱数据是在规定的质荷比范围(作为MS分析条件而设定的质荷比范围)内，由装置的分辨率决定的质荷比间隔的离子强度值的一维的数据列。此外，MS成像数据储存部41中的数据的保存目的地的文件是先被赋予了在数据文件名框105中设定的文件名的文件。

若针对二维区域81内的全部的测量点82结束质量分析并将该全部的质谱数据储存至MS成像数据储存部41，则成像质量分析部1中的分析动作本身结束。接收到该分析结束后，数据矩阵生成部42接着开始基于收集到的质谱数据的数据矩阵生成处理(步骤S4)。数据矩阵生成部42根据分析执行前在分析条件设定画面100上设定的数据矩阵生成条件，生成数据矩阵。

具体而言，在设定“最大强度谱的质心”作为数据矩阵生成条件的情况下，数据矩阵生成部42首先基于相对于储存在MS成像数据储存部41中的全部测量点的质谱数据，对每个质荷比值搜索最大的离子强度。然后，使用每个质荷比值的最大离子强度值来生成最大强度谱。接下来，在该最大强度谱中进行峰检测，对检测到的每个峰进行质心处理，即求出峰的重心的位置。如果在最大强度谱中检测到的峰的数量为100个，则求出相互不同的100个质荷比值。采用该质荷比值作为数据矩阵中的m/z值，并从各测量点的质谱数据中提取该m/z值的离子强度数据。然后，使用该提取出的离子强度数据来生成图4所示的数据矩阵。

另一方面，在设定“目标列表”作为数据矩阵生成条件的情况下，数据矩阵生成部42采用在所指定的目标列表中例举的质荷比值作为数据矩阵中的m/z值，例如若在图7所示的目标列表中，采用m/z为126.32、m/z为158.45这两个m/z值作为数据矩阵中的m/z值。然后，从各测量点的质谱数据中提取上述m/z值的离子强度数据，使用该提取出的离子强度数据来生成图4所示的数据矩阵。

数据矩阵生成部42将如上述那样生成的数据矩阵储存在矩阵数据储存部43中(步骤S5)。另外，在此为了便于说明，将MS成像数据储存部41和矩阵数据储存部43分开，但实际上，只要在具有根据数据保存条件设定的数据文件名的一个文件中储存这些全部的数据即可。

在由用户指示分析执行的开始后，便不需要人工而是连续地进行如下一系列的处理：即，执行对试样的分析，生成基于由此而获取的数据的数据矩阵，并将该数据矩阵储存至矩阵数据储存部43为止的处理。因此，在此，通过分析实现的数据获取和数据矩阵生成实质上是一体的。

对试样的分析所需要的时间根据试样上的二维区域的宽度、空间分辨率(测量点的间隔)等的不同而不同，一般来说要耗费数小时以上。另一方面，由于数据矩阵的生成所需要的时间依存于数据矩阵生成条件、测量点数等，导致有时需要数小时左右，因此若使到数据矩阵生成为止一体地进行，则对于用户而言，这部分对应的时间导致了到分析结束为止的时间延长。然而，由成像质量分析装置进行的分析的作业大多在夜间或休息日等无人的状态下执行，不是用户(分析负责人)等待到分析结束为止的状况。因此，如上述那样到分析结束为止的时间延长这一情况对于用户而言不会成为太大的问题。

在分析结束后(紧接之后或者后一天等)，在想要进行基于收集到的数据的多变量解析的情况下，用户通过输入部5进行规定的操作，在指定了解析对象的数据文件等后指示解析执行(步骤S6)。多变量解析的方法多种多样，在成像质量分析中，例如能够使用主成分分析、层次聚类解析、局部最小二乘回归等。

如果是以往的装置，则从该时间点起首先开始数据矩阵的生成，但在本实施方式的成像质量分析装置中，数据矩阵已经生成完成。因此，接收到解析开始的指示的多变量解析执行部44从矩阵数据储存部43读取多变量解析所需要的数据，使用该数据立即执行多变量解析处理(步骤S7)。然后，若多变量解析结束，则通过显示处理部46将该解析结果输出并显示于显示部6(步骤S8)。

多变量解析所需要的时间根据解析对象的数据量、多变量解析方法的种类等的不同而不同，但无论如何，不进行数据矩阵的生成相对应地会缩短数小时左右，即根据情况会缩短数小时左右。在进行多变量解析的情况下，在用户确认多变量解析的过程中判断为不适当的解析的情况下进行中断解析或者变更参数等作业的情况时有发生。因此，在多变量解析的执行中也有用户在场的情况较多，但若等待到数据矩阵的生成完成为止则精神上的压力较大，作业效率也容易降低。相对与此，在本实施方式的成像质量分析装置中，没有用于生成数据矩阵的等待时间，因此能够立即进行目标多变量解析，从而减轻等待的压力，作业效率也得到提高。

此外，在接着分析之后预先生成数据矩阵这一方式在显示质量分析成像图像方面也是优点。

在以图2所示的通常的数据形式保存数据的情况下，需要对每个测量点从质荷比值-离子强度的数据排列中搜索与目标质荷比对应的数据来构成成像图像。因此，质荷比方向以及位置方向的数据越增加，成像图像的生成以及显示越耗费时间。相对与此，在本实施方式的成像质量分析装置中，如图4所示，数据被整理为数据矩阵的状态，因此若指定目标质荷比，则成像图像生成部45迅速地从矩阵数据储存部43读出与其对应的全部测量点的离子强度数据并构成成像图像。由此，能够迅速地显示由用户指定的质荷比的质量分析成像图像。

在上述说明中，接在通过分析完成了全部数据的收集后，实施了数据矩阵生成处理，但根据数据矩阵生成条件的不同，即使未集齐全部的数据也能够开始生成数据矩阵。具体而言，如果是最大强度谱或平均强度谱等不需要在最开始实施使用了全部测量点的质谱数据的处理的数据矩阵生成条件，则即使在针对全部测量点的分析结束之前也能够开始生成数据矩阵。在该情况下，也可以从分析的途中开始生成数据矩阵。由此，能够缩短到数据矩阵完成为止所需要的时间。

此外，在图3中能够省略步骤S1的处理。即，也能够采用以下构成：即，用户不设定数据矩阵生成条件或其他的分析条件，而是根据预先存储在分析条件存储部32中的分析条件来执行分析或执行数据矩阵生成。此外，用户也可以在分析前设定数据矩阵生成条件以外的分析条件，将数据矩阵生成条件预先存储在分析条件存储部32中。

此外，上述实施方式是本发明的一例，在本发明的主旨的范围内适当地进行变更、修正、追加，当然也包含在本申请权利要求的范围内。

例如，可以适当地变更用户设定数据矩阵生成条件时的样式或该数据矩阵生成条件本身。此外，成像质量分析部1并不限于如图2所示那样对试样上的测量点直接照射激光等离子化探针来进行质量分析，也可以使用通过将从试样上的各测量点分别采集的试样微细片载置或者粘贴在试样板上而制备的样品，对与各测量点对应的样品照射离子化探针并进行质量分析来收集质谱数据。无论是那种情况，只要能够收集与试样上的各测量点对应的质谱数据即可。

[各种方案]

本领域技术人员能够理解上述的例示性的实施方式是以下方案的具体例。

(第1项)本发明的一方案的成像质量分析装置具备：

分析执行部，对在试样上的二维区域内设定的多个测量点分别执行质量分析，对每个该测量点收集规定的质荷比范围内的质谱数据；

条件存储部，预先存储基于通过在所述分析执行部的分析得到的质谱数据生成数据矩阵时的数据矩阵生成条件；

数据矩阵生成部，从所述分析执行部进行的分析的执行途中开始或者接在该分析结束后，依照所述条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，基于在该时间点已经收集到的质谱数据生成数据矩阵。

根据第1项所记载的成像质量分析装置，由于在用户想要实施多变量解析时已经完成了数据矩阵，因此能够省去以往所需要的生成数据矩阵的作业而立即进行多变量解析。由此，能够减轻进行多变量解析时的用户的等待时间的压力，改善作业效率。此外，所生成的数据矩阵是容易提取相对于任意的或者特定的质荷比的全部测量点的离子强度数据的数据排列，因此适合形成特定的质荷比的质量分析成像图像。因此，根据第1项所记载的成像质量分析装置，也可以在数据获取完成后迅速地显示质量分析成像图像。

(第2项)能够设为在第1项所记载的成像质量分析装置中，进一步具备多变量解析处理部，进行使用了由所述数据矩阵生成部生成的数据矩阵的多变量解析。

根据第2项所记载的成像质量分析装置，例如能够接在生成数据矩阵后进行使用了该数据矩阵的多变量解析。

(第3项)能够设为在第1项所记载的成像质量分析装置中，进一步具备条件设定部，在所述分析执行部执行分析之前，使用户设定所述数据矩阵生成条件，并将该设定的数据矩阵生成条件存储至所述条件存储部。

根据第3项所记载的成像质量分析装置，用户能够根据分析的目的、数据矩阵的用途等，设定任意的或者所期望的数据矩阵生成条件。

(第4项)能够设为在第3项所记载的成像质量分析装置中，所述条件设定部用户设定由所述分析执行部进行分析时的分析条件并且设定所述数据矩阵生成条件。

根据第4项所记载的成像质量分析装置，能够将分析条件和数据矩阵生成条件一并设定，因此能够减轻用户的负担。

(第5项)能够设为在第1项所记载的成像质量分析装置中，所述数据矩阵生成部根据所述条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，在所述分析执行部进行分析的执行途中和该分析刚结束后切换数据矩阵的生成处理的开始时间点。

根据第5项所记载的成像质量分析装置，通过在分析的执行途中开始数据矩阵的生成处理，有时能够缩短到完成数据矩阵为止所需要的时间。

(第6项)能够设为在第1项所记载的成像质量分析装置中，所述数据矩阵生成条件将记载于目标物质的列表中的质荷比设为对象来生成数据矩阵。

根据第6项所记载的成像质量分析装置，在决定了想要观测的化合物的情况下，能够迅速地生成仅将该化合物设为对象的数据矩阵。

(第7项)能够设为在第1项所记载的成像质量分析装置中，所述数据矩阵生成条件将与基于收集到的全部的质谱数据计算的平均质谱或者最大强度质谱中的峰对应的质荷比设为对象来生成数据矩阵。

根据第7项所记载的成像质量分析装置，包含已知、未知的试样在内，能够尽可能地减少试样所包含的各种化合物的检测遗漏，同时高效地生成以这些化合物为对象的数据矩阵。

附图标记说明

1 成像质量分析部

2 通用计算机

3 控制部

31 分析控制部

32 分析条件存储部

33 分析条件设定部

34 数据矩阵生成条件设定部

4 数据处理部

41 MS成像数据储存部

42 数据矩阵生成部

43 矩阵数据储存部

44 多变量解析执行部

45 成像图像生成部

46 显示处理部

5 输入部

6 显示部

80 试样

81 二维区域

82 测量点

100 分析条件设定画面

101 设定对象试样选择区域

102 激光照射条件设定区域

103 MS分析条件设定区域

104 数据保存条件设定区域。

Claims (7)

1.一种成像质量分析装置，其特征在于，具备：

分析执行部，对在试样上的二维区域内设定的多个测量点分别执行质量分析，对每个该测量点收集规定的质荷比范围内的质谱数据；

条件存储部，预先存储基于通过在所述分析执行部的分析而得到的质谱数据生成数据矩阵时的数据矩阵生成条件；

数据矩阵生成部，从所述分析执行部进行的分析的执行途中开始或者接在该分析结束后，依照所述条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，基于在该时间点已经收集到的质谱数据生成数据矩阵。

2.如权利要求1所述的成像质量分析装置，其特征在于，

进一步具备多变量解析处理部，进行使用了由所述数据矩阵生成部生成的数据矩阵的多变量解析。

3.如权利要求1所述的成像质量分析装置，其特征在于，

进一步具备条件设定部，使用户在所述分析执行部执行分析之前设定所述数据矩阵生成条件，并将该设定的数据矩阵生成条件存储至所述条件存储部。

4.如权利要求3所述的成像质量分析装置，其特征在于，

所述条件设定部使用户设定由所述分析执行部进行分析时的分析条件并且设定所述数据矩阵生成条件。

5.如权利要求1所述的成像质量分析装置，其特征在于，

所述数据矩阵生成部根据所述条件存储部中存储的数据矩阵生成条件，在所述分析执行部进行分析的执行途中和该分析刚结束后，切换数据矩阵的生成处理的开始时间点。

6.如权利要求1所述的成像质量分析装置，其特征在于，

所述数据矩阵生成条件将记载于目标物质的列表中的质荷比设为对象来生成数据矩阵。

7.如权利要求1所述的成像质量分析装置，其特征在于，

所述数据矩阵生成条件将与基于收集到的全部的质谱数据计算的平均质谱或者最大强度质谱中的峰对应的质荷比作为对象，生成数据矩阵。

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