CN114063334A - 一种抗电磁干扰的液晶显示屏 - Google Patents
一种抗电磁干扰的液晶显示屏 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114063334A CN114063334A CN202111422534.XA CN202111422534A CN114063334A CN 114063334 A CN114063334 A CN 114063334A CN 202111422534 A CN202111422534 A CN 202111422534A CN 114063334 A CN114063334 A CN 114063334A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- parts
- layer
- electromagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 66
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 43
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims abstract description 19
- QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 1lambda4,2lambda4-dimolybdacyclopropa-1,2,3-triene Chemical compound [Mo]=C=[Mo] QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910039444 MoC Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 12
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M dimethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC=C GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 claims description 5
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 5
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 4
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 210000000438 stratum basale Anatomy 0.000 abstract description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 37
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 10
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 9
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 9
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000010096 film blowing Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 230000003245 working effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
- G02F1/133334—Electromagnetic shields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C09D133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
- H05K9/0073—Shielding materials
- H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/38—Boron-containing compounds
- C08K2003/382—Boron-containing compounds and nitrogen
- C08K2003/385—Binary compounds of nitrogen with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/22—Antistatic materials or arrangements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本申请涉及液晶显示屏技术领域,具体公开了一种抗电磁干扰的液晶显示屏。一种抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,所述下基板上设置有基底层,所述基底层上设置有电磁屏蔽层,所述电磁屏蔽层主要由如下重量份数的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯220‑350份、聚乙烯二氧噻吩20‑35份、氧化锌50‑70份、锶铁氧体7‑15份、屏蔽剂12‑18份、二甲基亚砜5‑10份、增强剂0.5‑1.2份、分散剂1‑3份;所述屏蔽剂为碳化硅、氮化硼、碳化钼中的至少一种。本申请的抗电磁干扰的液晶显示屏具有抗电磁干扰性能好的优点。
Description
技术领域
本申请涉及液晶显示屏技术领域,更具体地说,它涉及一种抗电磁干扰的液晶显示屏。
背景技术
目前,液晶显示屏广泛应用于电视、计算机、工业人机显示等方面,具有耗电量低、体积小、辐射低的优点。液晶显示屏是通过电场的作用下,利用液晶分子的排列方向不断变化,使外光源透光率发生改变,完成电-光变换,再利用R、G、B三基色信号的不同激励,通过红绿蓝三基色滤光膜,完成时域和空间域的彩色重显。
随着科技的不断发展,人们对电子元器件的使用也更加频繁,会在工作环境中产生大量电磁波,当液晶显示屏在这种环境中工作时,电磁波会对液晶显示屏产生电磁干扰,造成信号失真、图像不清等现象,影响液晶显示屏的正常工作,因此需要采用电磁屏蔽材料进行保护。
针对上述问题,申请公开号为CN102604194A的中国专利公布了一种透明电磁屏蔽薄膜,具体涉及一种聚乙烯基纳米复合透明电磁屏蔽材料,将低密度聚乙烯和线性低密度聚乙烯、导电填料、二氧化硅、爽滑剂、抗氧剂和偶联剂按照比例称量后在混料机中高速混合10分钟,再经双螺杆挤出机中挤出造粒,螺杆转速为100-200转/分,螺杆温度为170-230℃,水冷后拉条切粒制成薄膜母料;母料80℃烘干后,加入吹膜机料斗,塑化挤出,吹胀牵引,吹制成薄膜。
上述的透明电磁屏蔽薄膜的导电性能较差,电磁屏蔽效果较低,对液晶显示屏的保护作用较小。
发明内容
为了提高液晶显示屏的抗电磁干扰能力,本申请提供一种抗电磁干扰的液晶显示屏。
本申请提供一种抗电磁干扰的液晶显示屏,采用如下的技术方案:
一种抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,所述下基板上设置有基底层,所述基底层上设置有电磁屏蔽层,所述电磁屏蔽层主要由如下重量份数的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯220-350份、聚乙烯二氧噻吩20-35份、氧化锌50-70份、锶铁氧体7-15份、屏蔽剂12-18份、二甲基亚砜5-10份、增强剂0.5-1.2份、分散剂1-3份;所述屏蔽剂为碳化硅、氮化硼、碳化钼中的至少一种。
通过采用上述技术方案,聚甲基丙烯酸甲酯形成膜体系,聚乙烯二氧噻吩、氧化锌、锶铁氧体、屏蔽剂均匀分散在膜体系内,一方面锶铁氧体可以产生自发磁化,起到很好的涡流损耗和磁滞损耗,使电磁波通过电磁屏蔽层时被消耗,不对液晶层产生干扰。另一方面,氧化锌、聚乙烯二氧噻吩以及屏蔽剂具有良好的导电性能,并且还能够吸收锶铁氧体损耗电磁波产生的热能,构成热电势,在膜体系内形成微电场,协同锶铁氧体对中高频电磁波产生较强的吸收屏蔽效果,使液晶层能够在复杂电磁环境中正常使用。
优选的,所述锶铁氧体经过氧化石墨烯包覆处理。
通过采用上述技术方案,氧化石墨烯包覆锶铁氧体后,在锶铁氧体表面形成一层氧化石墨烯层,利用氧化石墨烯上丰富的极性官能团,使锶铁氧体能更均匀的分散在膜体系内,减少膜体系中电磁屏蔽漏洞的产生。并且,氧化石墨烯还能够提升锶铁氧体的磁滞损耗,进一步提升对电磁波的吸收屏蔽作用。
优选的,所述屏蔽剂由碳化硅、氮化硼、碳化钼按质量比为(1.2-1.5):(2-3):(5-7)组成。
通过采用上述技术方案,优化和调整屏蔽剂中碳化硅、氮化硼和碳化钼的组成比例,增强在膜内与锶铁氧体、氧化锌构成的共轭体系,电子的离域性增强,电学性能得到显著提高,对电磁波的屏蔽效果更好。
优选的,所述屏蔽剂与锶铁氧体的质量比为(0.8-2.1):1。
通过采用上述技术方案,进一步调整和试验屏蔽剂与锶铁氧体之间的比例,综合对膜体系电阻和磁滞的效果,在保证膜体系的整体导电性能的同时还提供较好的吸波作用,具有较佳的磁效应和电学效用,综合抗电磁干扰性能更佳。
优选的,所述电磁屏蔽层的厚度为120-300μm。
通过采用上述技术方案,调整和优化电磁屏蔽层的厚度,一方面对中高频电磁波进行阻隔吸收,另一方面使可见光波长范围内电磁波的通过率正常,保证液晶显示屏的正常工作。
优选的,所述增强剂由柠檬酸钠、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、二甲基二烯丙基氯化铵按质量比为(1.5-2):(2-3.5):(0.5-0.8)组成。
通过采用上述技术方案,优化和调整增强剂的种类和配比,提升膜体系的力学性能。此外还减少屏蔽剂、锶铁氧体等原料之间发生团聚的几率,提高原料在膜内的分散均匀性,降低出现屏蔽缺陷部位的几率。
优选的,所述分散剂为丙烯酸酯、聚乙烯亚胺中的一种。
通过采用上述技术方案,丙烯酸酯、聚乙烯亚胺能够进一步提升原料在膜内的分散均匀性,提高电磁屏蔽层的力学性能。另外还能提升成膜性和膜体系内的透光性,增强可见光波段的透过性。
优选的,所述基底层由PET、聚碳酸酯、钠钙玻璃中的一种制成。
通过采用上述技术方案,PET、聚碳酸酯和钠钙玻璃与电磁屏蔽层的相容性和结合性更好,使用寿命更长,工作稳定性更佳。
优选的,所述基底层的厚度为550-780μm。
通过采用上述技术方案,调整基底层的厚度,在保证可见光波段电磁波透过性的同时具有更好的力学性能,环境稳定性更好,使用寿命更长,环境稳定性好。
综上所述,本申请具有以下有益效果:
1、由于本申请采用锶铁氧体、氧化锌、屏蔽剂之间协同作用,提高对中高频电磁波的吸收和消耗作用,获得了很好的电磁屏蔽作用,提升液晶显示屏的抗电磁干扰性能。
2、本申请中优选采用氧化石墨烯对锶铁氧体进行包覆处理,进一步提高了电磁屏蔽层的电磁波屏蔽作用。
3、本申请中调整屏蔽剂和锶铁氧体的比例以及电磁屏蔽层的厚度,改善电磁屏蔽层的屏蔽效率和对可见光的透过性能,提升液晶显示屏的工作性能。
具体实施方式
以下结合实施例对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例及对比例主要原料信息如表1所示。
表1本申请实施例及对比例主要原料信息
原料 | 规格型号 | 来源厂家 |
锶铁氧体 | 纯度99.9% | 北京德科岛金科技有限公司 |
二甲基亚砜 | 99.9% | 沧州东丽精细化工有限公司 |
聚乙烯二氧噻吩 | 优级纯 | 西安齐岳生物科技有限公司 |
实施例
实施例1
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本实施例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2200g、聚乙烯二氧噻吩200g、氧化锌500g、锶铁氧体70g、屏蔽剂180g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将聚乙烯二氧噻吩、氧化锌、锶铁氧体、屏蔽剂、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
实施例2
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本实施例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2850g、聚乙烯二氧噻吩280g、氧化锌600g、锶铁氧体120g、屏蔽剂155g、二甲基亚砜75g、增强剂8g、分散剂22g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例1中相同。
实施例3
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本实施例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯3500g、聚乙烯二氧噻吩350g、氧化锌700g、锶铁氧体150g、屏蔽剂120g、二甲基亚砜100g、增强剂12g、分散剂30g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例1中相同。
实施例4
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:屏蔽剂为氮化硼,其余的与实施例2中相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例5
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:屏蔽剂为碳化钼,其余的与实施例2中相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例6
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,锶铁氧体经过氧化石墨烯包覆处理,其余的与实施例2中相同。
其中,氧化石墨烯的平均厚度为0.55-1.2nm,平均直径为0.5-3μm。
本实施例的锶铁氧体经氧化石墨烯的包覆处理方法包括如下步骤:
1)、将锶铁氧体、氧化石墨烯以质量比为2:3.5分散于去离子水内形成分散液;
2)、将分散液置于水热反应釜内以180℃的条件水热反应20min,然后烘干后即得。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例7
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例6的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,屏蔽剂由碳化硅、氮化硼、碳化钼按质量比为1.2:2:5组成,碳化硅22.68g,氮化硼37.8g,碳化钼94.51g,其余的与实施例6相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例6中相同。
实施例8
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例6的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,屏蔽剂由碳化硅、氮化硼、碳化钼按质量比为1.5:3:7组成,碳化硅20.22g,氮化硼40.43g,碳化钼94.35g,其余的与实施例6相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例6中相同。
实施例9
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:电磁屏蔽层的厚度为120μm,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例10
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:电磁屏蔽层的厚度为300μm,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例11
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例8的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,增强剂由柠檬酸钠、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、二甲基二烯丙基氯化铵按质量比为1.5:2:0.5组成,其余的与实施例8相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例8中相同。
实施例12
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例8的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,增强剂由柠檬酸钠、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、二甲基二烯丙基氯化铵按质量比为2:3.5:0.8组成,其余的与实施例8相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例8中相同。
实施例13
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,分散剂为聚乙烯亚胺,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例14
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:基底层由PET材料制成,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例15
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:基底层由聚碳酸酯材料制成,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例16
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例2的不同之处在于:基底层由钠钙玻璃材料制成,其余的与实施例2相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例2中相同。
实施例17
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例14的不同之处在于:基底层的厚度为550μm,其余的与实施例14相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例14中相同。
实施例18
本实施例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例14的不同之处在于:基底层的厚度为780μm,其余的与实施例14相同。
本实施例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例14中相同。
对比例
对比例1
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2270g、聚乙烯二氧噻吩200g、氧化锌500g、屏蔽剂120g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将聚乙烯二氧噻吩、氧化锌、屏蔽剂、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
对比例2
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2770g、聚乙烯二氧噻吩200g、屏蔽剂120g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将聚乙烯二氧噻吩、屏蔽剂、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
对比例3
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2850g、锶铁氧体120g、屏蔽剂120g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将锶铁氧体、屏蔽剂、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
对比例4
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2380g、聚乙烯二氧噻吩200g、氧化锌500g、锶铁氧体150g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将聚乙烯二氧噻吩、氧化锌、锶铁氧体、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
对比例5
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2450g、聚乙烯二氧噻吩200g、氧化锌500g、二甲基亚砜50g、增强剂5g、分散剂10g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法包括如下步骤:
S1:将聚甲基丙烯酸甲酯溶于二氯乙烷制得成膜液,然后将聚乙烯二氧噻吩、氧化锌、锶铁氧体、二甲基亚砜、增强剂、分散剂加入成膜液内进行超声分散,混合均匀后制得混合液;
S2:将混合液旋涂在基底层表面,然后在负压环境下以60℃的温度烘干后制得电磁屏蔽层,电磁屏蔽层的平均厚度为400μm。
对比例6
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例6的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,屏蔽剂由碳化硅、氮化硼、碳化钼按质量比为3:1.5:2.5组成,其余的与实施例6相同。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例6相同。
对比例7
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏与实施例8的不同之处在于:电磁屏蔽层的原料中,增强剂由柠檬酸钠、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、二甲基二烯丙基氯化铵按质量比为5:1.5:0.5组成,其余的与实施例8相同。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例8相同。
对比例8
本对比例的抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,下基板上沿出光方向依次设置有基底层和电磁屏蔽层。
其中,基底层为聚丙烯材料制成,厚度为900μm。
本对比例的电磁屏蔽层由如下重量的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯2850g、聚乙烯二氧噻吩280g、氧化锌600g、锶铁氧体60g、屏蔽剂155g、二甲基亚砜75g、增强剂8g、分散剂22g。
其中,氧化锌的平均粒径为50nm。锶铁氧体的纯度为99.9%,平均粒径为80nm,比表面积28㎡/g,颗粒形态为球形。屏蔽剂为碳化硅,碳化硅的平均粒径为50-100nm,粒径形态为纤维棒状,比表面积30㎡/g,纯度99.9%。增强剂为乙烯基三乙氧基硅烷。分散剂为乙二醇。
本对比例的电磁屏蔽层的制备方法与实施例1中相同。
性能检测试验
检测方法
取实施例1-18以及对比例1-8的电磁屏蔽层按国家标准GB/T 30142-2013《平面型电磁屏蔽材料屏蔽效能测量方法》测定电磁屏蔽性能,采用紫外-可见和红外分光光度仪测定可见光透过率,采用方阻测试仪测定方块电阻值,测试结果如表2所示。
表2实施例1-18以及对比例1-8的电磁屏蔽层的性能测试结果
分析实施例1-3以及对比例1-5并结合表2可以看出,调整和优化原料的组成配比,调控电磁屏蔽效果和透光率的综合性能,可以看出锶铁氧体与屏蔽剂协同作用大大提升了电磁屏蔽层的抗电磁干扰性能,屏蔽效能可以达到45db。
分析实施例4-5并结合表2可以看出,屏蔽剂选用碳化硅时的屏蔽效果更好。
分析实施例1-3、实施例6并结合表2可以看出,经过氧化石墨烯包覆处理的锶铁氧体对电磁波的屏蔽效果更佳。
分析实施例7、实施例8、对比例6并结合表2可以看出,调整和优化屏蔽剂的原料组成配比,提升屏蔽效果的同时也提升电磁屏蔽层的透光性。
分析实施例9、实施例10并结合表2可以看出,调整电磁屏蔽层的厚度,综合抗电磁性能和透过性。
分析实施例11、实施例12、实施例13、实施例14-16、实施例17-18、对比例7-8并结合表2可以看出,进一步调整增强剂和分散剂的组成配比,锶铁氧体与屏蔽剂的组成配比,以及基底层的材质种类,进一步优化电磁屏蔽层的透光和屏蔽性能。
本具体实施例仅仅是对本申请的解释,其并不是对本申请的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本申请的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (9)
1.一种抗电磁干扰的液晶显示屏,沿发射光方向依次包括背光板、下基板、液晶层、电极层、上基板,其特征在于:所述下基板上设置有基底层,所述基底层上设置有电磁屏蔽层,所述电磁屏蔽层主要由如下重量份数的原料制成:聚甲基丙烯酸甲酯220-350份、聚乙烯二氧噻吩20-35份、氧化锌50-70份、锶铁氧体7-15份、屏蔽剂12-18份、二甲基亚砜5-10份、增强剂0.5-1.2份、分散剂1-3份;所述屏蔽剂为碳化硅、氮化硼、碳化钼中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述锶铁氧体经过氧化石墨烯包覆处理。
3.根据权利要求2所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述屏蔽剂由碳化硅、氮化硼、碳化钼按质量比为(1.2-1.5):(2-3):(5-7)组成。
4.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述屏蔽剂与锶铁氧体的质量比为(0.8-2.1):1。
5.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述电磁屏蔽层的厚度为120-300μm。
6.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述增强剂由柠檬酸钠、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、二甲基二烯丙基氯化铵按质量比为(1.5-2):(2-3.5):(0.5-0.8)组成。
7.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述分散剂为丙烯酸酯、聚乙烯亚胺中的一种。
8.根据权利要求1所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述基底层由PET、聚碳酸酯、钠钙玻璃中的一种制成。
9.根据权利要求8所述的一种抗电磁干扰的液晶显示屏,其特征在于:所述基底层的厚度为550-780μm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111422534.XA CN114063334B (zh) | 2021-11-26 | 2021-11-26 | 一种抗电磁干扰的液晶显示屏 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111422534.XA CN114063334B (zh) | 2021-11-26 | 2021-11-26 | 一种抗电磁干扰的液晶显示屏 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114063334A true CN114063334A (zh) | 2022-02-18 |
CN114063334B CN114063334B (zh) | 2024-03-22 |
Family
ID=80276732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111422534.XA Active CN114063334B (zh) | 2021-11-26 | 2021-11-26 | 一种抗电磁干扰的液晶显示屏 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114063334B (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10214717A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Mitsui Chem Inc | 電磁波シールド |
CN1479142A (zh) * | 2002-06-03 | 2004-03-03 | 三星电子株式会社 | 具有噪声屏蔽元件的液晶显示装置 |
JP2004356581A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Kenzo Shibuya | 電磁波遮蔽材及びその製造方法 |
CN102634177A (zh) * | 2012-05-07 | 2012-08-15 | 杭州千石科技有限公司 | 一种用于电缆的复合电磁屏蔽材料 |
CN105238179A (zh) * | 2015-10-19 | 2016-01-13 | 广东三和化工科技有限公司 | 一种水性电磁屏蔽涂料及其制备方法 |
CN108084516A (zh) * | 2016-11-21 | 2018-05-29 | 沈阳赛亚橡胶制品有限公司 | 一种磁性橡胶及其制备方法 |
CN111334260A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-26 | 武汉理工大学 | 一种具有导热绝缘和电磁屏蔽性能的有机硅复合材料 |
-
2021
- 2021-11-26 CN CN202111422534.XA patent/CN114063334B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10214717A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Mitsui Chem Inc | 電磁波シールド |
CN1479142A (zh) * | 2002-06-03 | 2004-03-03 | 三星电子株式会社 | 具有噪声屏蔽元件的液晶显示装置 |
JP2004356581A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Kenzo Shibuya | 電磁波遮蔽材及びその製造方法 |
CN102634177A (zh) * | 2012-05-07 | 2012-08-15 | 杭州千石科技有限公司 | 一种用于电缆的复合电磁屏蔽材料 |
CN105238179A (zh) * | 2015-10-19 | 2016-01-13 | 广东三和化工科技有限公司 | 一种水性电磁屏蔽涂料及其制备方法 |
CN108084516A (zh) * | 2016-11-21 | 2018-05-29 | 沈阳赛亚橡胶制品有限公司 | 一种磁性橡胶及其制备方法 |
CN111334260A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-26 | 武汉理工大学 | 一种具有导热绝缘和电磁屏蔽性能的有机硅复合材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114063334B (zh) | 2024-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2634146B1 (en) | Indium tin oxide powder, method for producing same, dispersion, paint, and functional thin film | |
CN106928784A (zh) | 透明抗静电膜 | |
CN103351757B (zh) | 用于节能门窗的水性透明隔热涂料及其制备方法 | |
CN101219859B (zh) | 纳米油性ato隔热浆料与制备方法及其应用 | |
JP3302186B2 (ja) | 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置 | |
JPH11353934A (ja) | 有機−無機複合導電性ゾル及びその製造法 | |
CN104637570A (zh) | 柔性透明导电薄膜及其制备方法 | |
CN104250442B (zh) | 吸波复合材料及其制备方法、超材料及其应用 | |
KR20070035832A (ko) | 전자파 차폐 소재 | |
CN103357346A (zh) | 颜料分散剂、颜料分散液、彩色光刻胶及其制备和应用 | |
JP2017082221A (ja) | 混合分散液 | |
CN108773141B (zh) | 一种聚酯反射膜及其制备方法和应用 | |
CN108753044A (zh) | 一种镀铜纳米粒子石墨烯导电油墨及其制备方法 | |
CN102775604A (zh) | 核壳型钛酸钡/聚苯胺复合吸波材料的制备方法 | |
CN112552733A (zh) | 铯钨青铜水性浆料及其制备方法 | |
CN109439060A (zh) | 一种铯钨青铜/石墨烯复合粉体及其制备方法与应用 | |
CN106118287B (zh) | 一种纳米ATO/CuS填料水性丙烯酸透明隔热涂料 | |
CN114063334A (zh) | 一种抗电磁干扰的液晶显示屏 | |
JP2005139026A (ja) | 鎖状酸化アンチモン微粒子、該微粒子分散液の製造方法および用途 | |
CN107015394B (zh) | 具有屏蔽近红外光功能的反式电控调光膜及其制备方法 | |
CN109971300A (zh) | 一种吸波涂层及其制备方法 | |
CN108314932A (zh) | 一种基于光固化石墨烯导电油墨印刷方法 | |
CN108912871B (zh) | 一种水性透明隔热玻璃涂料的制备方法 | |
CN108346493B (zh) | 一种通过改变等离子体共振强度降低纳米银线透明导电膜黄度的方法 | |
CN109031812A (zh) | 一种手写板专用柔性透明导电膜及基于其的柔性手写膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |