CN114008241A - 用于原子层沉积（ald）的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于根据原子层沉积(ALD)原理以批处理方式处理一个或多个基材的设备(1)和方法。设备(1)包括反应室(2)、用于关闭反应室(2)的室板(3)、马达(9)以及连接至所述马达(9)的致动器臂机构(5)，所述马达(9)被布置成使室板(3)在打开位置和关闭位置之间移动，在所述打开位置中反应室(2)是打开的，在所述关闭位置中反应室(2)被关闭。致动器臂机构(5)具有三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)，该三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)具有连接至室板(3)的远端，三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)的远端限定在室板(3)上的平面。

Description

用于原子层沉积(ALD)的设备和方法
技术领域
本发明涉及用于以批处理方式处理一个或多个基材的设备，并且更具体地，涉及在独立权利要求1的前序部分中限定的设备。
本发明还涉及用于以批处理方式处理一个或多个基材的方法，并且更具体地，涉及在独立权利要求14的前序部分中限定的方法。
背景技术
本发明涉及用于通过使基材的表面的至少一部分经受两种或更多种前体材料的交替表面反应处理基材的设备和方法。更具体地，本发明涉及用于根据原子层沉积(ALD)原理处理基材的设备和方法。在本申请中，术语ALD意指原子层外延(ALE)和实现ALD原理的其他类似命名的方法。原子层沉积设备通常包括真空室，在该真空室内部基材被处理。单独的反应室也可以布置在真空室内部，使得基材被装载到反应室中并且在反应室中被处理。基材的装载可以手动地进行，或通过诸如装载机械手的装载装置进行。常规地，将基材装载到ALD设备中是在正常环境空气、室内空气或洁净室内空气中进行的。
WO 2009/144371公开了一种设备，其中将材料沉积在反应室中一批竖直放置的基材的表面上。在该公开中，一批竖直放置的基材包括平行放置在可移动基材保持器中的一组晶片。基材保持器附接至可移动的反应室盖，并且反应室的尺寸针对这批竖直放置的基材的尺寸或承载基材的基材保持器的尺寸进行了专门的优化。反应室通过螺纹连接关闭。
螺纹连接使反应室关闭耗时。形成关闭的反应室的另一种方式是通过移动室盖与反应室本体接触。然而，由于室盖和/或反应室本体的误差，室盖和反应室本体的连接可能是不紧密的。
发明内容
本发明的目的是提供用于以批处理方式处理一个或多个基材的设备和方法，其中关闭反应室被简单并且安全地执行，使得反应室紧密地关闭。本发明的目的还在于提供用于以批处理方式处理一个或多个基材的设备和方法，其中可以调节基材架相对于反应室本体或相对于被布置成装载要在反应室中处理的基材的装载机构的取向。
本发明的目的通过一种设备和方法来实现，其特征在于独立权利要求中所阐明的内容。本发明的优选实施例在从属权利要求中公开。
本发明基于如下想法：提供用于通过根据原子层沉积(ALD)原理使基材的表面的至少一部分经受至少第一原始材料和第二原始材料的交替表面反应、以批处理方式处理一个或多个基材的设备，其中设备包括：反应室，该反应室在反应室内形成反应空间；室板，该室板用于关闭反应室，使得在反应室内形成关闭的反应空间。设备可以进一步包括基材架，该基材架用于保持包括一个或多个基材的基材批量，所述基材架设置成与室板连接，使得基材架设置在关闭的反应空间内以处理一个或多个基材。作为示例，基材架可以设置在室板的面向反应空间的表面上，或当反应室被布置成使得室板从上面关闭反应室时，基材架可以被布置成悬挂在室板上。可替代地，室板可以包括基材保持器，该基材保持器与室板连接，使得基材被布置于基材保持器以用于在反应室中处理基材。设备进一步包括马达，该马达被布置成使室板在反应室的打开位置和反应室的关闭位置之间沿第一方向移动。第一方向优选地为竖直方向或大体竖直方向。在打开位置中，反应室是打开的，并且在关闭位置中，反应室是关闭的，使得当设备包括基材架时，那么基材架设置在处于关闭的反应空间的反应室内。设备进一步包括致动器臂机构，该致动器臂机构连接至马达。致动器臂机构具有三个或更多个致动器臂。三个或更多个臂中的每一者具有远端和近端，并且远端连接至室板。三个或更多个致动器臂的远端限定在室板上的平面。这意味着三个或更多个致动器臂被布置成与室板连接，这样的平面由致动器臂的远端限定。换句话说，致动器臂不是在室板上成排设置的。三个或更多个致动器臂中的每一者具有远端，该远端连接至室板并且三个或更多个致动器臂的远端限定在室板上的平面。这意味着三个或更多个致动器臂的远端被定位到室板上，使得三个或更多个致动器臂的远端限定形成在室板上的平面的角。
连接至马达的致动器臂机构被布置成通过使室板沿第一方向移动以将反应室用室板关闭，使得基材架设置在反应室内的反应空间中。当反应室打开并且基材从基材架卸载时，室板通过致动器臂机构沿与第一方向相反的方向移动。换句话说，室板沿第一方向从打开位置移动到关闭位置，并且沿与第一方向相反的第二方向从关闭位置移动到打开位置。
致动器臂机构包括三个或更多个致动器臂和与三个或更多个致动器臂中的至少一者连接的调节机构。与马达连接的致动器臂机构被布置成使室板朝向反应室移动到室板被布置成关闭反应室的位置，并且调节机构被布置成当室板压靠反应室以紧固和密封室板和反应室之间的连接时，调节室板相对于反应室的取向。调节机构还被布置成调节室板相对于被布置成将基材装载到基材保持器或基材架的装载机构的取向，使得在基材架中或作为与室板连接的单个基材保持器的基材保持器的取向设置成平行于装载机构中的基材。换句话说，基材保持器应该相对于要装载到基材保持器的基材处于正确的水平面，并且基材保持器应该与要通过装载机构装载到基材保持器的基材具有相同的取向。基材保持器的正确的水平面和取向由调节机构与致动器臂一起提供。
根据本发明的一实施例，设备包括两个马达，该两个马达连接至致动器臂机构，使得两个马达中的一者连接至三个或更多个致动器臂中的一者，用于移动三个或更多个致动器臂中的所述一者，并且两个马达中的另一者连接至致动器臂机构，用于移动三个或更多个致动器臂中的其余的致动器臂。
根据本发明的一实施例，设备包括三个或更多个马达，该三个或更多个马达连接至三个或更多个致动器臂，使得三个或更多个致动器臂中的每一者包括马达，该马达被布置成单独地移动三个或更多个致动器臂中的每一者。换句话说，致动器臂中的每一者包括马达以单独于其他致动器臂致动致动器臂。通过单独地移动致动器臂中的每一者，可以控制室板的取向。
根据本发明的一实施例，设备进一步包括调节机构，该调节机构与三个或更多个致动器臂中的至少一者连接。所述调节机构被布置成调节室板相对于反应室的取向。这在用室板关闭反应室并且将室板朝向反应室紧固时特别方便。
根据本发明的一实施例，调节机构包括第一调节机构，该第一调节机构布置在三个或更多个致动器臂中的至少一者的远端处，使得三个或更多个致动器臂中的所述至少一者的远端通过第一调节机构连接至室板。换句话说，调节机构设置于致动器臂中的至少一者的远端，并且调节机构形成致动器臂的一部分，调节机构设置在致动器臂的所述一部分上使得致动器臂的远端和室板之间的连接被设置成调节机构和室板之间的连接。
根据本发明的一实施例，三个或更多个致动器臂中的每一者具有近端，该近端与远端相反；并且调节机构包括第二调节机构，该第二调节机构布置在三个或更多个致动器臂中的至少一者的近端处。
根据本发明的一实施例，第一调节机构是弹簧或弹性构件或气动构件；或，第二调节机构是弹簧或弹性构件或气动构件；或，第一调节机构和第二调节机构是弹簧或弹性构件或气动构件。弹性构件可以是例如橡胶构件或类似的柔性构件。
马达和调节机构能够使室板相对于反应室定位，使得室板可以与反应室正确对准，并且使得室板和反应室之间的连接是紧密的。在本发明的有利实施例中，当三个或更多个致动器臂中的每一者包括马达时，室板可以相对于反应室特别紧密地对准。这是有利的，例如当基材架相对较高并且反应室较窄时，如果设置有基材架的室板的位置没有被校准，使得基材架将在基材架的上端处接触反应室的壁。
根据本发明的一实施例，三个或更多个致动器臂连接在一起，使得形成组合致动器臂机构，所述组合致动器臂机构具有共用的主致动器臂。三个或更多个致动器臂中的至少一者包括第一调节机构，该第一调节机构布置在三个或更多个致动器臂中的所述至少一者的远端处，使得三个或更多个致动器臂中的所述至少一者的远端通过第一调节机构连接至室板。马达连接至主致动器臂并且被布置成使主致动器臂沿第一方向移动。
根据本发明的一实施例，马达是伺服马达；或马达是具有定位特征的伺服马达。
根据本发明的一实施例，设备进一步包括：真空室，该真空室在真空室内形成真空空间，使得反应室设置在真空室内部；以及分隔元件，该分隔元件设置于真空室，用于将三个或更多个致动器臂与真空室分隔，使得三个或更多个致动器臂可操作地连接至室板，用于通过三个或更多个致动器臂从真空室外部使真空室内部的室板移动。
根据本发明的一实施例，分隔元件从真空室延伸通过真空空间至室板，用于将三个或更多个致动器臂与真空空间分隔；或可替代地，分隔元件从真空室延伸通过真空空间至三个或更多个致动器臂中的每一者的远端，用于将三个或更多个致动器臂与真空空间分隔；或可替代地，分隔元件从真空室的壁延伸通过真空空间至三个或更多个致动器臂中的每一者的远端和室板之间，用于将三个或更多个致动器臂与真空空间分隔。
根据本发明的一实施例，分隔元件是可膨胀元件，该可膨胀元件允许三个或更多个致动器臂移动，同时将三个或更多个致动器臂与真空空间分隔。可膨胀元件例如是波纹管。
根据本发明的一实施例，用于分隔三个或更多个致动器臂的分隔元件设置成与致动器臂连接，使得三个或更多个致动器臂在同一分隔元件内，使得分隔元件在真空空间内围绕三个或更多个致动器臂。
根据本发明的另一实施例，用于分隔三个或更多个致动器臂的分隔元件设置成与致动器臂连接，使得三个或更多个致动器臂分开设置，使得分隔元件在真空空间内单独地围绕三个或更多个致动器臂中的每一者。
根据本发明的另一实施例，三个或更多个致动器臂在真空室内操作，使得分隔元件将真空空间与三个或更多个致动器臂分隔。三个或更多个致动器臂通过真空室中的至少一个开口设置在真空室内。至少一个开口包括边缘密封件，用于密封开口和致动器臂之间的空间，使得致动器臂滑动通过包括边缘密封件的开口。
根据本发明，设备优选地包括与室板连接的基材保持器或与室板连接的基材架，用于保持包括一个或多个基材的基材批量。
根据本发明的用于在反应室中通过根据原子层沉积(ALD)原理使基材的表面的至少一部分经受至少第一原始材料和第二原始材料的交替表面反应、以批处理方式处理一个或多个基材的方法，所述反应室在反应室内形成反应空间，反应室包括室板，用于通过室板关闭反应室，在该方法中，室板通过马达在打开位置、关闭位置和在打开位置和关闭位置之间的至少一个装载位置之间移动，在所述打开位置中反应室是打开的，在所述关闭位置中反应室通过室板关闭，当通过使室板移动至关闭位置而关闭反应室时，基材在所述装载位置被装载，用于在反应室中处理基材。方法包括使室板沿第一方向移动，提供具有三个或更多个致动器臂的致动器臂机构，并且将三个或更多个致动器臂中的每一者的远端连接至室板，使得限定在室板上的平面；并且通过马达使室板移动至至少一个预定装载位置，所述马达设置成与致动器臂机构连接。
换句话说，打开位置是反应室打开时室板的位置，或基材架、如果有一个的话、设置成使得基材架完全位于反应室外部时室板的位置。关闭位置是室板设置成抵靠反应室以在反应室内形成具有反应空间的封闭的反应室时室板的位置。打开位置可以同时是至少一个装载位置，尤其是在将基材装载到室板或装载到与室板连接的基材保持器的情况下。然而优选地，在打开位置和关闭位置之间存在至少一个装载位置，并且更优选地，在打开位置和关闭位置之间存在多个装载位置。在室板承载基材架的实施例中，室板从打开位置移动至关闭位置，使得在打开位置和关闭位置之间存在两个或更多个装载位置。
在本发明的优选实施例中，室板由连接至三个或更多个致动器臂的三个马达移动，使得室板相对于反应室的取向或相对于装载机构的取向可以被调节，所述装载机构被布置成将基材装载至设置成与室板连接的基材保持器或基材架。换句话说，方法包括调节室板相对于反应室的取向和/或相对于装载机构的取向的步骤。调节室板的取向的步骤包括通过联接至致动器臂的马达使致动器臂中的至少一者相对于其他致动器臂移动的步骤。
根据本发明的一实施例，方法包括通过将调节机构布置成与三个或更多个致动器臂中的至少一者连接来向致动器臂机构提供调节机构；并且通过调节机构调节室板相对于反应室的取向。
根据本发明的一实施例，方法包括使室板移动至关闭位置，用于通过室板关闭反应室；并且通过调节机构调节室板在关闭位置的取向，用于紧固室板和反应室之间的连接。
根据本发明的一实施例，方法包括调节室板相对于反应室的取向或调节室板相对于装载机构的取向，该装载机构被布置成将基材装载至与室板连接的基材保持器或基材架。
本发明的优点是可以调节可以承载基材保持器或基材架的室板相对于反应室和/或相对于装载机构的位置和/或取向。室板的位置和/或取向可以在室板移动至关闭位置时或在基材装载期间或在室板的至少一部分已经接触反应室的位置中进行调节。当基材架在反应室内部移动时或当基材架已经至少部分地在反应室内部时，可以调节室板的位置和/或取向。因此，反应室可以形成为不需要额外空间，因为可以调节基材架的取向，使得基材架理想地放置在反应室内。本发明的另一个优点是当真空改变反应室或热运动影响反应室时，室板相对于反应室的位置和/或取向可以被调节。
附图说明
参照随附附图通过具体实施例对本发明进行详细描述，其中
图1示出了根据本发明的设备的一实施例；
图2a示出了从下方观看的根据本发明的设备的室板的一实施例；
图2b示出了根据本发明的设备的一实施例；
图3a和图3b示出了根据本发明的设备中的第一调节机构的实施例；
图4a和图4b示出了根据本发明的设备中的第二调节机构的实施例；
图5示出了根据本发明的设备的一实施例；
图6示出了根据本发明的设备的一个实施例；
图7示出了根据本发明的设备的另一实施例；
图8示出了根据本发明的设备的又一实施例；和
图9示出了根据本发明的设备的再一实施例。
具体实施方式
图1示出了根据本发明的设备1的一实施例，其中，具有反应空间21的反应室2处于打开位置，使得其上设置有基材架4的室板3被布置成使得基材10可以通过被布置成水平移动的装载臂11装载到基材架3的最上层上。室板3被布置成在打开位置和关闭位置之间沿竖直方向移动，在所述打开位置中反应室2是打开的并且室板3从反应室2移开，在所述关闭位置中反应室2被室板3关闭，使得形成关闭的反应空间21。换句话说，当反应室处于关闭位置时，室板3形成反应室2的一部分，所述反应室2形成关闭的反应空间21。室板3通过马达9在打开位置和关闭位置之间沿第一方向A移动，并且在关闭位置和打开位置之间沿与第一方向相反的第二方向B移动。换句话说，第一方向A是当室板3移动以关闭反应室2时的方向，第二方向B是当室板3移动以打开反应室2时的方向。马达9连接至致动器臂机构5，该致动器臂机构5在图1的实施例中包括三个致动器臂5a、5b、5c，但是该致动器臂机构5可以包括三个或更多个致动器臂。三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的每一者具有连接至室板3的远端，并且致动器臂5a、5b、5c设置在室板3上，使得三个或更多个致动器臂5a、5b、5c的远端限定在室板3上的平面。换句话说，尽管在图1中致动器臂5a、5b、5c看上去被布置成一排，但是它们实际上被布置成使得它们在室板3上形成平面。这在图2a中示出。在图1示出的实施例中，马达9连接至致动器臂5a、5b、5c，用于使室板3随着致动器臂5a、5b、5c沿第一方向A和第二方向B，即大体上竖直地，移动，用于用室板3关闭反应室2以及用于打开反应室2。在图1的实施例中，反应室设置在真空室7内。
图2a示出了从下方观看的室板3的一实施例。在本发明的这个实施例中，设备1包括三个致动器臂5a、5b、5c，该三个致动器臂5a、5b、5c设置在室板3上，使得三个致动器臂5a、5b、5c限定平面D(在图2a中用虚线示出)。换句话说，致动器臂5a、5b、5c限定形成三角形的平面D的角，或特别是致动器臂5a、5b、5c的轴线限定形成三角形的平面D的角。在本发明的这个实施例中，室板3是圆形的，但是本发明不限于室板3的任何特定形式。然而，圆形室板3是室板3的最有利的形式。反应室2优选地包括凸缘部分，室板3压靠该凸缘部分，并且反应室2的凸缘部分也在图2a中示出。
图2b示出了设备1的一实施例，其中反应室2处于关闭位置，使得室板3压靠反应室2。当室板3压靠反应室2时，形成关闭的反应空间21。连接至至少一个马达(图2b中未示出)的三个致动器臂5a、5b、5c设置成与室板3连接。图2b示出致动器臂5a、5b、5c在致动器臂的纵向方向上具有轴线Y。轴线Y在图2a中示出为点状，限定在致动器臂之间形成的平面D的角。
图3a和图3b示出了根据本发明的设备1中的调节机构6、特别是第一调节机构61、的实施例。在图3a中，第一调节机构61是布置在致动器臂5a、5b、5c中的每一者的远端处的弹簧。致动器臂和室板3之间的连接通过第一调节机构61、即通过弹簧、提供。图3b示出了第一调节机构61的另一实施例，所述第一调节机构61是布置在致动器臂5a、5b、5c中的每一者的远端处的弹性构件。致动器臂5a、5b、5c和室板3之间的连接通过第一调节机构61、即通过弹性构件、提供。弹簧和弹性构件仅是第一调节机构的示例，具有柔性或弹性以接收压缩力的任何其他构件都适合作为第一调节机构61。
图4a和图4b示出了根据本发明的设备1中的调节机构6、特别是第二调节机构62、的实施例。在本发明的这些实施例中，调节机构6设置在致动器臂5a、5b、5c的近端处，该近端与连接至室板3的远端相反。图4a示出了一实施例，其中第二调节机构62是布置在致动器臂5a、5b、5c中的每一者的近端处的弹簧。图4b示出了一实施例，其中第二调节机构62是布置在致动器臂5a、5b、5c中的每一者的近端处的弹性构件。第二调节构件62可以布置在致动器臂5a、5b、5c和共用的致动器臂机构之间，或致动器臂5a、5b、5c可以包括通过第二调节机构62连接的部分。弹簧和弹性构件仅是第二调节机构的示例，具有柔性或弹性以接收压缩力的任何其他构件都适合作为第二调节机构62。
图5示出了根据本发明的设备的一实施例，其中三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的每一者包括马达9，该马达9被布置成单独地移动致动器臂5a、5b、5c。尽管在图5中未示出，但是三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的至少一者也可以包括第一调节机构61或第二调节机构62。在本发明的另一实施例中，设备包括两个马达9，该两个马达9连接至致动器臂机构5，使得两个马达9中的一者连接至三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的一者，用于移动三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的所述一者，并且两个马达9中的另一者连接至致动器机构5，使得两个马达9中的另一者被布置成移动其他致动器臂5a、5b、5c。这允许调节室板3相对于反应室2的取向。
图6示出了根据本发明的设备的一个实施例，其中三个致动器臂5a、5b、5c连接在一起，使得形成组合致动器臂机构5。组合致动器臂机构5具有共用的主致动器臂51。在图6示出的实施例中，三个致动器臂5a、5b、5c中的每一者包括第一调节机构61，该第一调节机构61布置在三个致动器臂5a、5b、5c的远端处，使得三个致动器臂5a、5b、5c的远端通过第一调节机构61连接至室板3。尽管图6示出了三个致动器臂5a、5b、5c，但是设备可以包括三个以上的致动器臂。马达9连接至主致动器臂51并且被布置成通过主致动器臂51使室板3沿第一方向A移动以及使室板3沿第二方向B返回。
图7示出了根据本发明的设备的另一实施例，其中设备1进一步包括分隔元件8，该分隔元件8布置于真空室7，用于将三个或更多个致动器臂5a、5b、5c与真空室7分隔。分隔元件8是真空室7的一部分，用于保持真空室7内的真空。分隔元件8允许设置在真空室7内的室板3通过连接至至少一个马达9(图7中未示出)的三个或更多个致动器臂5a、5b、5c移动。
换句话说，布置在真空室7外部的三个或更多个致动器臂5a、5b、5c可操作地连接至室板3，用于使真空室7内部的室板3在打开位置和关闭位置之间移动。三个或更多个致动器臂5a、5b、5c从真空室7外部操作，用于使真空室7内的室板3移动，使得分隔元件8在室板3和三个或更多个致动器臂5a、5b、5c之间形成真空室7的一部分。分隔元件8优选地是可膨胀元件，例如金属或钢制元件，所述可膨胀元件包括可膨胀部分或例如通过折叠可膨胀。布置在室板3和致动器臂5a之间的分隔元件8的部分可以是平面部分。换句话说，分隔元件8是可膨胀元件，该可膨胀元件允许三个或更多个致动器臂5a、5b、5c移动同时，将三个或更多个致动器臂5a、5b、5c与真空空间71分隔。
在本发明的一实施例中，分隔元件8被布置成从真空室7延伸通过真空空间71至室板3，用于将三个或更多个致动器臂5a、5b、5c与真空空间71分隔。三个或更多个致动器臂5a、5b、5c可以单独地或一起与真空室7分隔。
在本发明的一实施例中，分隔元件8被布置成从真空室7延伸通过真空空间至三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的每一者的远端，用于将三个或更多个致动器臂5a、5b、5与真空空间71分隔。
在本发明的一实施例中，分隔元件8被布置成从真空室7的壁延伸通过真空空间71至三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的每一者的远端和室板3之间，用于将三个或更多个致动器臂5a、5b、5c与真空空间71分隔。
图8示出了根据本发明的设备1，其中反应室2和室板3一起设置在真空室7内并且三个致动器臂5a、5b、5c设置在真空室7外部，使得三个致动器臂5a、5b、5c操作布置在真空室7内的室板3。分隔元件8形成真空室7的一部分，使得在包括分隔元件8的真空室7中保持真空条件。图8示出了一实施例，其中三个致动器臂5a、5b、5c单独地与真空室7分隔，然而三个或更多个致动器臂5a、5b、5c也可以一起与真空室7分隔。
图9示出了根据本发明的设备的再一实施例，其中室板3被布置成在真空室7内部从真空室7的顶部部分向下移动。基材架4设置成与室板3连接，使得室板3布置在基材架4的顶部上。换句话说，基材架4悬挂在室板3上。在图9示出的实施例中，通过使室板3与基材架4一起朝向反应室2移动使得基材架设置在反应室2内并且室板3压靠反应室2而从反应室2的顶部关闭反应室2。室板3通过三个(或更多个)致动器臂5a、5b、5c移动，该三个(或更多个)致动器臂5a、5b、5c与一个或多个马达9(图中未示出)连接，该一个或多个马达9致动致动器臂5a、5b、5c。致动器臂5a、5b、5c布置在真空室7外部，而室板设置在真空室7内。分隔元件8在真空室7的本体与室板7和/或致动器臂5a、5b、5c的远端之间延伸。尽管图中未详细示出，但是致动器臂的远端可以包括调节机构，当室板3压靠反应室2时，该调节机构接收压力以密封室板3和反应室2之间的连接。
以上呈现的附图还示出了根据本发明的方法，该方法包括：提供具有三个或更多个致动器臂5a、5b、5c的致动器臂机构5，并且将三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的每一者的远端连接至室板3，使得限定在室板3上的平面；通过连接至致动器臂机构5的马达9使室板3在反应室2的打开位置和反应室2的关闭位置之间沿第一方向A移动，并且使室板3移动至至少一个预定装载位置。
马达9优选地是伺服马达，并且致动器臂5a、5b、5c中的每一者可以包括自己的马达9或优选地致动器臂5a、5b、5c中的至少一者设置有自己的马达9并且其他致动器臂5a、5b、5c具有共用马达9。
方法还包括：通过将调节机构6布置成与三个或更多个致动器臂5a、5b、5c中的至少一者连接来向致动器臂机构5提供调节机构6；以及通过调节机构6调节室板3相对于反应室2的取向。
方法进一步包括使室板3移动至关闭位置，用于通过室板3关闭反应室2；以及通过调节机构6调节室板3在关闭位置相对于反应室2的取向，用于紧固和/或密封室板3和反应室2之间的连接。使室板3移动至关闭位置包括使用一个或多个马达9通过三个或更多个致动器臂5a、5b、5c使室板3移动的步骤以及在室板3和反应室2之间提供连接的步骤。调节室板3相对于反应室2的取向包括致动一个或多个马达9以使室板3压靠在反应室2上，使得调节机构6接收来自一个或多个马达9的压缩力并且在致动器臂5a、5b、5c和室板3之间被压缩成压缩形式的步骤。调节机构6被布置成与一个或多个致动器臂5a、5b、5c连接。
上面已经参考附图中示出的示例描述了本发明。然而，本发明决不限于上述示例，而是可以在权利要求的范围内变化。

Claims (18)

1.一种用于通过根据原子层沉积(ALD)原理使基材(10)的表面的至少一部分经受至少第一原始材料和第二原始材料的交替表面反应、以批处理方式处理一个或多个基材的设备(1)，所述设备(1)包括：
-反应室(2)，所述反应室(2)在所述反应室(2)内形成反应空间(21)；
-室板(3)，所述室板(3)用于关闭所述反应室(2)，使得形成关闭的反应空间(21)，
-马达(9)，所述马达(9)被布置成使所述室板(3)在打开位置和关闭位置之间沿第一方向(A)移动，在所述打开位置中所述反应室(2)是打开的，在所述关闭位置中所述反应室(2)用所述室板(3)关闭，
其特征在于，所述设备(1)进一步包括
-致动器臂机构(5)，所述致动器臂机构(5)连接至所述马达(9)，所述致动器臂机构(5)具有三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)，所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者具有远端，所述远端连接至所述室板(3)，所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)的所述远端限定在所述室板(3)上的平面。
2.根据权利要求1所述的设备(1)，其特征在于，所述设备包括两个马达(9)，所述两个马达(9)连接至所述致动器臂机构(5)，使得所述两个马达(9)中的一者连接至所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的一者，用于移动所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的所述一者，并且所述两个马达(9)中的另一者连接至所述致动器臂机构(5)，用于移动所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的其余的致动器臂。
3.根据权利要求1或2所述的设备(1)，其特征在于，所述设备包括三个或更多个马达(9)，所述三个或更多个马达(9)连接至所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)，使得所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者包括所述马达(9)，所述马达(9)被布置成单独地移动所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备进一步包括调节机构(6)，所述调节机构(6)与所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者连接，所述调节机构(6)被布置成调节所述室板(3)相对于所述反应室(2)的取向。
5.根据权利要求4所述的设备(1)，其特征在于，所述调节机构(6)包括第一调节机构(61)，所述第一调节机构(61)布置在所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者的所述远端处，使得所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的所述至少一者的所述远端通过所述第一调节机构(61)连接至所述室板(3)。
6.根据权利要求4或5所述的设备(1)，其特征在于，所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者具有近端，所述近端与所述远端相反；并且
所述调节机构(6)包括第二调节机构(62)，所述第二调节机构(62)布置在所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者的所述近端处。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于，所述第一调节机构(61)是弹簧或弹性构件或气动构件；或
所述第二调节机构(62)是弹簧或弹性构件或气动构件；或
所述第一调节机构(61)和所述第二调节机构(62)是弹簧或弹性构件或气动构件。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于，所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)连接在一起，使得形成组合致动器臂机构(5)，所述组合致动器臂机构(5)具有共用的主致动器臂(51)，
所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者包括第一调节机构(61)，所述第一调节机构(61)布置在所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的所述至少一者的所述远端处，使得所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的所述至少一者的所述远端通过所述第一调节机构(61)连接至所述室板(3)，并且
所述马达(9)连接至所述主致动器臂(51)并且被布置成使所述主致动器臂(51)沿所述第一方向(A)移动。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于：
所述马达(9)是伺服马达；或
所述马达(9)是具有定位特征的伺服马达。
10.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备(1)进一步包括
真空室(7)，所述真空室(7)在所述真空室(7)内形成真空空间(71)，使得所述反应室(2)设置在所述真空室(7)内部；以及
分隔元件(8)，所述分隔元件(8)设置于所述真空室(7)，用于将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)与所述真空室(7)分隔，使得所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)可操作地连接至所述室板(3)，用于通过所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)从所述真空室(7)外部使所述真空室(7)内部的所述室板在所述打开位置和所述关闭位置之间移动。
11.根据权利要求10所述的设备(1)，其特征在于：
所述分隔元件(8)从所述真空室(7)延伸通过所述真空空间(71)至所述室板(3)，用于将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)与所述真空空间(71)分隔；或
所述分隔元件(8)从所述真空室(7)延伸通过所述真空空间至所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者的所述远端，用于将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)与所述真空空间(71)分隔；或
所述分隔元件(8)从所述真空室(7)的壁延伸通过所述真空空间(71)至所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者的所述远端和所述室板(3)之间，用于将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)与所述真空空间(71)分隔。
12.根据权利要求10或11所述的设备(1)，其特征在于，所述分隔元件(8)是可膨胀元件，所述可膨胀元件允许所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)移动，同时将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)与所述真空空间(71)分隔。
13.根据前述权利要求中的任一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备进一步包括
-基材架(4)，所述基材架(4)用于保持包括一个或多个基材(10)的基材批量，所述基材架(4)设置成与所述室板(3)连接。
14.一种用于在反应室(2)中通过根据原子层沉积(ALD)原理使基材(10)的表面的至少一部分经受至少第一原始材料和第二原始材料的交替表面反应、以批处理方式处理一个或多个基材的方法，所述反应室(2)在所述反应室(2)内形成反应空间(21)，所述反应室(2)包括室板(3)，用于通过所述室板(3)关闭所述反应室(2)，在所述方法中，所述室板(3)通过马达(9)在打开位置、关闭位置和在所述打开位置和所述关闭位置之间的至少一个装载位置之间移动，在所述打开位置中所述反应室(2)是打开的，在所述关闭位置中所述反应室(2)通过所述室板(3)关闭，在所述装载位置中所述基材被装载，所述方法包括：
-使所述室板(3)沿第一方向(A)移动，
其特征在于，所述方法进一步包括：
-提供具有三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)的致动器臂机构(5)，并且将所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的每一者的远端连接至所述室板(3)，使得限定在所述室板(3)上的平面；以及
-通过所述马达(9)使所述室板(3)移动至至少一个预定装载位置，所述马达(9)连接至所述致动器臂机构(5)。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括：
-通过将调节机构(6)布置成与所述三个或更多个致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者连接来向所述致动器臂机构(5)提供所述调节机构(6)；
-通过所述调节机构(6)调节所述室板(3)相对于所述反应室(2)的取向。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
-使所述室板(3)移动至所述关闭位置，用于通过所述室板(3)关闭所述反应室(2)；以及
-通过所述调节机构(6)调节所述室板(3)在所述关闭位置的取向，用于紧固所述室板(3)和所述反应室(2)之间的连接。
17.根据权利要求14至16中的任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
-调节所述室板(3)相对于所述反应室(2)的取向；或
-调节所述室板(3)相对于装载机构的取向，所述装载机构被布置成将基材装载至与所述室板(3)连接的基材保持器或基材架(4)。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，调节所述室板的取向包括：
-通过联接至所述致动器臂(5a、5b、5c)的所述马达(9)使所述致动器臂(5a、5b、5c)中的至少一者相对于其他致动器臂(5a、5b、5c)移动。
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