CN114005855A - 阵列基板、显示面板及面板坏点修复方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提出一种阵列基板、显示面板及面板坏点修复方法,所述阵列基板包括衬底基板和设于所述衬底基板上的多个数据线以及多个扫描线,多个所述数据线和多个所述扫描线绝缘交叉设置以限定出若干阵列设置的子像素区域,每一所述子像素区域中设有一子像素,所述子像素包括多个像素电极和像素驱动电路,多个所述像素电极同层且间隔设置以形成多个发光区,相邻的两所述像素电极之间通过连接电极电连接;所述像素驱动电路分别与所述数据线、扫描线以及每一所述像素电极电连接。本发明的技术方案提供了一种可修复的阵列基板,在子像素存在坏点时可进行修复,避免该子像素永远只显示一种颜色;具有提高面板生产良率、降低面板生产成本等优点。

Description

阵列基板、显示面板及面板坏点修复方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种阵列基板、显示面板以及面板坏点修复方法。
背景技术
坏点是显示面板常见的不良现象,当显示面板中的某一子像素存在坏点时,即整个子像素区域完全变暗不发光或只能发出一种颜色的光,使得该子像素区域永远是显示同一种颜色,影响显示面板的显示效果,降低用户体验。现有技术中,当子像素存在坏点时,对于完全变暗的情况无法进行处理修复,对于只发出一种颜色的光的情况,是采用将整个子像素暗化处理的方式将子像素变成暗点,以弱化坏点子像素的影响,但实际上暗点同样影响显示效果。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种阵列基板、显示面板及面板坏点修复方法,旨在解决现有阵列基板暗点修复效果较差的问题。
为实现上述目的,本发明提出的一种阵列基板,包括衬底基板和设于所述衬底基板上的多个数据线以及多个扫描线,多个所述数据线和多个所述扫描线绝缘交叉设置以限定出若干阵列设置的子像素区域,每一所述子像素区域中设有一子像素,所述子像素包括:
多个像素电极,多个所述像素电极同层且间隔设置以形成多个发光区,相邻的两所述像素电极之间通过连接电极电连接;和
像素驱动电路,所述像素驱动电路分别与所述数据线、扫描线以及每一所述像素电极电连接。
在本申请的一实施例中,所述连接电极的厚度小于所述像素电极的厚度。
在本申请的一实施例中,所述阵列基板还包括设于所述像素驱动电路与所述像素电极之间的平坦层,所述连接电极与所述像素电极均设于所述平坦层的背离所述像素驱动电路的一侧,所述平坦层设有多个过孔,每一所述像素电极穿过一所述过孔与对应的所述像素驱动电路接触。
在本申请的一实施例中,所述连接电极于所述平坦层的表面呈多次弯折结构。
在本申请的一实施例中,所述阵列基板还包括依次层叠于所述平坦层的背离所述像素驱动电路的一侧的像素界定层、发光层以及阴极,所述像素界定层设于所述平坦层,并覆盖所述连接电极和所述像素电极,所述像素界定层开设有多个开口,每一所述开口朝向一所述像素电极设置,所述发光层分别凹设于多个所述开口与对应的所述像素电极接触,所述阴极凹设于多个所述开口与所述发光层接触,以形成多个所述发光区;
所述像素驱动电路于所述像素界定层的正投影位于多个所述发光区外。
在本申请的一实施例中,所述阵列基板还包括设于所述衬底基板上的电源线,所述像素驱动电路包括:
驱动晶体管,所述驱动晶体管的源极分别与多个所述像素电极连接,所述驱动晶体管的漏极与所述电源线连接;
开关晶体管,所述开关晶体管的漏极与所述数据线连接,所述开关晶体管的栅极与所述扫描线连接;以及
存储电容,所述存储电容包括相对设置的第一电极和第二电极,所述驱动晶体管的栅极和所述开关晶体管的源极均与所述第一电极连接,所述第二电极和所述驱动晶体管的漏极均与所述电源线连接。
在本申请的一实施例中,所述阵列基板包括自下而上层叠设置于所述衬底基板的有源层、栅绝缘层、第一金属层、层间介电层以及第二金属层;
所述有源层形成有所述驱动晶体管的有源层图案以及所述开关晶体管的有源层图案,所述第一金属层形成有所述驱动晶体管的栅极、所述开关晶体管的栅极以及所述第一电极,所述第二金属层形成有所述驱动晶体管的源极和漏极、所述开关晶体管的源极和漏极、所述电源线以及所述第二电极,所述驱动晶体管的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层与所述驱动晶体管的有源层图案接触,所述开关晶体管的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层与所述开关晶体管的有源层图案接触。
本申请还提出一种显示面板,所述显示面板包括前述任意一项中所述的阵列基板,所述阵列基板的子像素为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素或白色子像素。
本申请还提出一种面板坏点修复方法,应用于前述任意一项中所述的阵列基板,所述面板坏点修复方法包括如下步骤:
确定坏点发光区的位置;
切断坏点发光区对应的像素电极与像素驱动电路之间的连接;
以及,切断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极。
在本申请的一实施例中,所述切断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极的步骤包括:
采用激光切断坏点发光区对应的像素电极与像素电极之间的连接电极;
或,在坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间施加预设电流,以熔断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极。
本申请提出的阵列基板中,每一子像素均分隔出多个发光区,每个发光区对应的像素电极均连接于该子像素的像素驱动电路,且同一子像素中相邻的像素电极之间通过连接电极电连接。正常状态下,像素驱动电路接收数据线和扫描线的控制信号向每一像素电极输入电流驱使各个发光区发光,连接电极得以平衡各个像素电极之间的电流以使各个发光区亮度均衡。当某一发光区存在坏点时,仅需熔断像素驱动电路与该发光区之间的连接以及熔断该发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极,阻断像素驱动电路持续向该发光区输入电流,使该发光区暗化,而此时同一子像素内的其他发光区仍能在像素驱动电路的控制下发出不同颜色的光,避免该子像素区域永远显示同一种颜色,以此减弱暗化的发光区对显示效果的影响,实现对阵列基板的修复。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明阵列基板一实施例的结构图;
图2为图1中a-a’处的剖视图;
图3为本发明阵列基板另一实施例的结构图;
图4为本发明阵列基板又一实施例的结构图;
图5为本发明阵列基板再一实施例的结构图;
图6为本发明面板坏点修复方法一实施例的流程图;
图7为本发明面板坏点修复方法另一实施例的流程图;
图8为本发明面板坏点修复方法又一实施例的流程图。
附图标号说明:
标号 名称 标号 名称
100 阵列基板 471 驱动晶体管
10 衬底基板 472 开关晶体管
20 数据线 473 存储电容
30 扫描线 4731 第一电极
40 子像素 4732 第二电极
41 像素电极 474 有源层
42 连接电极 475 栅绝缘层
43 像素界定层 476 第一金属层
44 发光层 477 第二金属层
45 阴极 478 层间介电层
46 发光区 50 平坦层
47 像素驱动电路 60 电源线
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。
基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。需要说明,本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后......)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外,在本申请中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,全文中出现的“且/或”的含义为,包括三个并列的方案,以“A且/或B为例”,包括A方案,或B方案,或A和B同时满足的方案。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本申请要求的保护范围之内。
本申请提出一种阵列基板100,参阅图1,该阵列基板100包括衬底基板10和设于所述衬底基板10上的多个数据线20以及多个扫描线30,多个所述数据线20和多个所述扫描线30绝缘交叉设置以限定出若干阵列设置的子像素40区域,每一所述子像素40区域中设有一子像素40,所述子像素40包括多个像素电极41和像素驱动电路47,多个所述像素电极41同层且间隔设置以形成多个发光区46,相邻的两所述像素电极41之间通过连接电极42电连接;所述像素驱动电路47分别与对应的所述数据线20、所述扫描线30以及每一所述像素电极41电连接。
在本申请阵列基板100的一实施例中,所述连接电极42的厚度小于所述像素电极41的厚度。
本实施例中,使得连接电极42的厚度小于像素电极41的厚度;可以理解的,连接电极42的电阻与其横截面积成反比,连接电极42的厚度越小,其电阻越大,而向子像素40通电时,像素电极41和连接电极42均产生一定的热量,当连接电极42的温度达到预设温度时,便会将连接电极42熔断,而由于像素电极41的厚度大于连接电极42的厚度,像素电极41的单位区域内的电阻小于连接电极42的电阻,其产生的热量小于像素电极41的热量,在施加一定的电流时便只会熔断连接电极42而不会损坏像素电极41。
请参阅图2,在本申请阵列基板100的一实施例中,所述阵列基板100还包括设于所述像素驱动电路47与所述像素电极41之间的平坦层50,所述连接电极42与所述像素电极41均设于所述平坦层50的背离所述像素驱动电路47的一侧,所述平坦层50设有多个过孔,每一所述像素电极41穿过一所述过孔与对应的所述像素驱动电路47接触。
具体地,本实施例中,阵列基板100还包括平坦层50,平坦层50设于发光器件和像素驱动电路47之间,连接电极42和多个像素电极41均处于平坦层50的背离像素驱动电路47的一侧。由于平坦层50自身具有较高的平整性,通过设置所述平坦层50,能够使得子像素40的多个像素电极41平整排布,同时使得发光器件平整,优化器件表面的平坦度,以便于在采用激光熔断连接电极42的方式时聚焦连接电极42。同时,平坦层50多为绝缘层,在平坦层50开设有过孔,每一发光区46对应的像素电极41穿过一过孔与像素驱动电路47连接,以使像素驱动电路47向像素电极41输入电流驱使发光器件发光,且不同发光区46对应的像素电极41通过不同过孔与像素驱动电路47连接,相邻的像素电极41之间互不接触,得以避免在切断某一像素电极41时误切相邻的像素电极41。
请参阅图3和图4,在本申请阵列基板100的一实施例中,所述连接电极42于所述平坦层50的表面呈多次弯折结构。
本实施例中,连接电极42于平坦层50的表面呈多次弯折结构,可以理解的,连接电极42的电阻与连接电极42的长度成正比,如此设置,得以使得延长连接电极42在相邻两像素电极41之间的长度,增大连接电极42的电阻。当采用前述面板坏点修复方法中步骤S的方式熔断连接电极42时,使得连接电极42产生的热量增多,以迅速达到熔点熔断连接电极42。需要说明的是,本实施例中,连接电极42为多次弯折结构,可以是弧形、矩形或锯齿形等,仅需增长连接电极42的长度和单位区域内的连接电极42面积,其具体形状在此不做限定。
请参阅图2,在本申请阵列基板100的一实施例中,所述阵列基板100还包括依次层叠于所述平坦层50的背离所述像素驱动电路47的一侧的像素界定层43、发光层44以及阴极45,所述像素界定层43覆盖所述连接电极42和所述像素电极41,所述像素界定层43开设有多个开口,每一所述开口朝向一所述像素电极41设置,所述发光层44分别凹设于多个所述开口与对应的所述像素电极41接触,所述阴极45凹设于多个所述开口与所述发光层44接触,以形成多个所述发光区46;
所述像素驱动电路47于所述像素界定层43的正投影位于多个所述发光区46外。
具体地,本实施例中,发光器件包括依次层叠于平坦层50的背离像素驱动电路47的一侧的像素界定层43、发光层44和阴极45,可以理解的,连接电极42和像素电极41均设于平坦层50的背离像素驱动电路47的一侧表面,此时像素界定层43覆盖连接电极42和像素电极41,像素界定层43开设有多个开口,每一开口朝向一像素电极41设置,发光层44和阴极45均部分凹设于开口接触,并使得开口中的发光层44夹设于像素电极41和阴极45之间,开口处便形成子像素40的发光区46。当像素驱动电路47为像素电极41供电至像素电极41和阴极45之间的电压达到特定电压时,像素电极41的空穴和阴极45的电子移动到发光层44,空穴和电子在发光层44中复合而使发光层44发光。
再进一步地,本申请的阵列基板100为底发射型阵列基板100,且像素驱动电路47于像素界定层43的正投影位于开口外,可以理解的,由于阵列基板100是从像素电极41和像素驱动电路47一侧透光,且是在像素界定层43的开口处形成发光区46,本实施例中像素驱动电路47于像素界定层43的投影位于开口外,得以避免像素驱动电路47遮挡发光区46,增大子像素40的开口率;且在进行修复切断对应的像素电极41和像素驱动电路47的连接位置时,得以降低损坏其他相邻结构的风险。
在本申请阵列基板100的一实施例中,所述像素电极41为透明电极,所述阴极45为反射电极。
本实施例中,阵列基板100为底发射型阵列基板100,衬底基板10为透光材质制成,可以为透明的玻璃基板或透明的塑料基板,以使子像素40发出的光得以从衬底基板10一侧透出,像素电极41为透明的导电材质制成,以避免遮挡发光层44发出的光,提高阵列基板100的开口率,此时,像素电极41形成透明导电薄膜,透明导电薄膜可以是但不限于ITO(锡掺杂三氧化铟)、AZO(铝掺杂氧化锌)或IZO(氧化铟锌,Indium Zinc Oxide)等材质。
请参阅图1、图3、图4或图5,在本申请阵列基板100的一实施例中,所述阵列基板100还包括设于所述衬底基板10上的电源线60,所述像素驱动电路47包括:
驱动晶体管471,所述驱动晶体管471的源极分别与多个所述像素电极41连接,所述驱动晶体管471的漏极与所述电源线60连接;
开关晶体管472,所述开关晶体管472的漏极与所述数据线20连接,所述开关晶体管472的栅极与所述扫描线30连接;以及
存储电容473,所述存储电容473包括相对设置的第一电极4731和第二电极4732,所述驱动晶体管471的栅极和所述开关晶体管472的源极均与所述第一电极4731连接,所述第二电极4732和所述驱动晶体管471的漏极均与所述电源线60连接。
本实施例中,阵列基板100还包括电源线60、数据线20以及扫描线30,像素驱动电路47包括驱动晶体管471、开关晶体管472以及存储电容473。此时,开关晶体管472根据扫描线30的扫描信号导通,进而接收数据线20施加的数据信号存储于存储电容473中,驱动晶体管471可允许与存储电容473中存储的数据信号对应的驱动电流流入像素电极41,以控制发光器件的发光状态。实际应用开启电源时驱动晶体管471内存在瞬时电压变化,存储电容473的设置,得以在控制电路中电压不稳时,对驱动晶体管471进行电压补偿,减少对流过驱动晶体管471的电流的影响,保证显示面板的显示质量。
请参阅图2,在本申请阵列基板100的一实施例中,所述阵列基板100包括自下而上层叠设置于所述衬底基板10的有源层474、栅绝缘层475、第一金属层476、层间介电层478以及第二金属层477;
所述有源层474形成有所述驱动晶体管471的有源层图案以及所述开关晶体管472的有源层图案,所述第一金属层476设有所述驱动晶体管471的栅极、所述开关晶体管472的栅极以及所述第一电极4731,所述第二金属层477设有所述驱动晶体管471的源极和漏极、所述开关晶体管472的源极和漏极、所述电源线60以及所述第二电极4732,所述驱动晶体管471的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层478与所述驱动晶体管471的有源层图案接触,所述开关晶体管472的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层478与所述开关晶体管472的有源层图案接触。
本实施例中,阵列基板100包括自下而上层叠设置的有源层474、栅绝缘层475、第一金属层476、层间介电层478以及第二金属层477。也即,在制作本申请的阵列基板100时,在衬底基板10上铺设有源层474,并分别蚀刻出驱动晶体管471的有源层图案以及开关晶体管472的有源层图案,并在驱动晶体管471的有源层图案和开关晶体管472的有源层图案上分别覆盖栅绝缘层475,继而在栅绝缘层475上铺设第一金属层476,并蚀刻出驱动晶体管471的栅极、开关晶体管472的栅极、扫描线30以及第一电极4731,第一电极4731和驱动晶体管471的栅极一体化设置,再将层间介电层478层叠设置于第一金属层476上方,并蚀刻出分别连通至驱动晶体管471的有源层图案以及开关晶体管472的有源层图案的过孔,继而铺设第二金属层477,部分第二金属层477设于过孔中与驱动晶体管471的有源层图案以及开关晶体管472的有源层图案接触,在第二金属层477上蚀刻出驱动晶体管471的源极和漏极、开关晶体管472的源极和漏极、电源线60以及第二电极4732,第二电极4732与电源线60一体设置,并与位于第一金属层476的第一电极4731层叠设置;以此便完成了像素驱动电路47的设置,继而在像素驱动电路47上铺设平坦层50,以平坦层50为基础构建像素电极41、连接电极42、像素界定层43、发光层44以及阴极45,完成阵列基板100的制作。
本实施例中,开关晶体管472、驱动晶体管471以及存储电容473均位于同一层级,得以使得阵列基板100轻薄化。
参阅图6,基于上述硬件构架,本发明还提出一种面板坏点修复方法,该面板坏点修复方法包括如下步骤:
步骤S10,确定坏点发光区的位置;
步骤S20,切断坏点发光区对应的像素电极41与像素驱动电路47之间的连接;
步骤S30,切断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42。
本实施例中,阵列基板100包括多个数据线20以及多个扫描线30,数据线20和扫描线30都是设置在基板上的导电线。扫描线30沿衬底基板10的第一方向排列,数据线20沿衬底基板10的第二方向排列。若干条数据线20和若干条扫描线30相互交叠,将基板的表面分隔成若干个像子素区域,即任意相邻的两条数据线20和任意相邻的两条扫描线30相互交叉,在基板的表面围成一个像素区域。阵列基板100还包括多个阵列排布于衬底基板10上的子像素40,每一子像素40设于一子像素40区域,每一子像素40均包括像素驱动电路47和多个像素电极41,且每一像素电极41均与像素驱动电路47中驱动晶体管471的源极连接,如图示实施例中,驱动晶体管471的源极设有多个支路以分别与不同的像素电极41连接,以在子像素40区域中对应形成多个发光区46,本实施例中每一子像素40包括多个发光区46所指每一子像素40均包括两个或两个以上的发光区46,同时,相邻的两像素电极41之间通过连接电极42电连接。正常情况下,像素驱动电路47接收数据线20和扫描线30的控制信号向每一像素电极41输入电流以使多个发光区46发光,连接电极42的设置,得以均衡各个像素电极41之间的电流以使每一发光区46的发光亮度一致。
当子像素40的其中某个发光区46存在坏点时,依据上述面板坏点修复方法熔断像素驱动电路47与该坏点发光区之间的连接,同时熔断该坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,阻断向该发光区46对应的像素电极41输入电流,使得该发光区46变暗,此时同一子像素40中其他发光区46仍能在像素驱动电路47的控制下发出不同颜色的光,从而避免该子像素40只显示一种颜色而影响整体显示效果,从而减弱暗点对显示效果的影响,以此便得以实现对显示面板的修复。
因此,可以理解的,本申请提出的阵列基板100中,每一子像素40均分隔出多个发光区46,每个发光区46对应的像素电极41均连接于该子像素40的像素驱动电路47,且同一子像素40中相邻的像素电极41之间通过连接电极42电连接。正常状态下,像素驱动电路47接收数据线20和扫描线30的控制信号向每一像素电极41输入电流驱使各个发光区46发光,连接电极42得以平衡各个像素电极41之间的电流以使各个发光区46亮度均衡。当某一发光区46存在坏点时,仅需熔断像素驱动电路47与该发光区46之间的连接以及熔断该发光区46对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,阻断像素驱动电路47持续向该发光区46输入电流,使该发光区46暗化,而此时同一子像素40内的其他发光区46仍能在像素驱动电路47的控制下发出不同颜色的光,避免该子像素40区域永远显示同一种颜色,以此减弱暗化的发光区46对显示效果的影响,实现对阵列基板100的修复。
需要说明的是,本申请提出的面板坏点修复方法中,步骤S20、步骤S30不构成顺序上的实质性限制,本领域技术人员在具体实施时,可能会先执行S30后执行S20等,仅需在存在坏点发光区时,切断向该发光区46对应的像素电极41供能的通路即可,无论是先执行步骤S20还是先执行步骤S30均应在本申请的保护范围之内。
请参照图7,在一些实施例中,本发明提出的面板坏点修复方法中,所述切断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42的步骤包括:
步骤S31,采用激光切断坏点发光区对应的像素电极41与像素电极41之间的连接电极42。
可以理解的,当子像素40的其中某个发光区46存在暗点常亮时,依据上述面板坏点修复方法采用激光熔断该坏点发光区对应的像素电极41与像素驱动电路47之间的连接以及该坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,仅需设定激光的聚焦位置,准确对准熔断点即可,操作较为便捷。
请参照图7,基于上述硬件构架,本发明提出的面板坏点修复方法中,所述熔断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42的步骤包括:
步骤S32,在坏点发光区的像素电极41与相邻的像素电极41之间施加预设电流,以熔断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42。
此时,当子像素40的其中某个发光区46存在暗点常亮时,依据上述面板坏点修复方法熔断像素驱动电路47与该坏点发光区之间的连接,同时在坏点发光区的像素电极41与相邻的像素电极41之间施加预设电流,熔断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,便得以阻断阵列基板100向该发光区46对应的像素电极41输入电流,使得该发光区46变暗,从而避免该发光区46只发出一种颜色的光而影响整体显示效果。本实施例采用外加预设电流的方式熔断坏点发光区的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,得以降低损坏相邻像素电极41或阵列基板100中的其他层级的风险。
请参照图8,本发明提出的面板坏点修复方法中,所述切断坏点发光区对应的像素电极41与像素驱动电路47之间的连接处的步骤包括:
步骤S21,切断驱动晶体管471与坏点发光区对应的像素电极41连接的源极支路。
本实施例中,在发光区46存在坏点时,通过切断驱动晶体管471与该发光区46对应的像素电极41连接的源极支路以阻断像素驱动电路47向该发光区46对应的像素电极41直接输入电流,继而再切断该发光区46对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42以完全阻断向该发光区46的像素电极41输入电流使发光区46暗化。可以理解的,像素电极41穿设于平坦层50与驱动晶体管471的源极连接,采用切断处于同一层的源极支路的方式相较于切断跨层设置的像素电极41,操作更为简单。
本申请还提出一种显示面板,包括如前所述的阵列基板100,该阵列基板100的具体结构详见前述实施例。具体地,显示面板包括基板和前述实施例中所述的阵列基板100。由于本申请提出的显示面板采用了前述阵列基板100中所有实施例的全部技术方案,因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
需要说明的是,在本申请实施例中,显示面板可以应用至显示器、电视、数码相框、手机或平板电脑等任何具有显示功能的产品中。
当显示面板存在坏点时,可以应用前述阵列基板100的面板坏点修复方法对显示面板进行修复,熔断像素驱动电路47与该坏点发光区之间的连接,同时熔断坏点发光区的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,可以是激光直接熔断,也可以在坏点发光区的像素电极41与相邻的像素电极41之间施加预设电流,熔断坏点发光区对应的像素电极41与相邻的像素电极41之间的连接电极42,便得以阻断阵列基板100向该发光区46对应的像素电极41输入电流,使得该发光区46变暗,从而避免该发光区46只发出一种颜色的光而影响整体显示效果。
在本申请显示面板的一实施例中,所述子像素40为红色子像素40、绿色子像素40、蓝色子像素40或白色子像素40。
具体地,本申请技术方案的显示面板包括阵列排布的多个子像素40,每一子像素40均包括前述实施例中的阵列基板100。在一些实施例中,将相邻的三个子像素40定义为一像素单元,每一像素单元中,每个子像素40处理一个色彩通道,分别对应红、绿、蓝三基色形成红色子像素40、绿色子像素40以及蓝色子像素40,具体应用时,根据每一子像素40中的控制电压不同,每个颜色的子像素40均具有明度深浅,三种颜色的明度深浅组合得以提高显示面板的分辨率。再进一步地,在一些实施例中,显示面板中将相邻的四个子像素40定义为一像素单元,每一像素单元中,每个子像素40处理一个色彩通道,分别对应红、绿、蓝、白四种颜色形成红色子像素40、绿色子像素40、蓝色子像素40以及白色子像素40,在提高显示面板的分辨率的同时提高了显示面板的亮度。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种阵列基板,包括衬底基板和设于所述衬底基板上的多个数据线以及多个扫描线,多个所述数据线和多个所述扫描线绝缘交叉设置以限定出若干阵列设置的子像素区域,每一所述子像素区域中设有一子像素,其特征在于,所述子像素包括:
多个像素电极,多个所述像素电极同层且间隔设置以形成多个发光区,相邻的两所述像素电极之间通过连接电极电连接;和
像素驱动电路,所述像素驱动电路分别与所述数据线、扫描线以及每一所述像素电极电连接。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述连接电极的厚度小于所述像素电极的厚度。
3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设于所述像素驱动电路与所述像素电极之间的平坦层,所述连接电极与所述像素电极均设于所述平坦层的背离所述像素驱动电路的一侧,所述平坦层设有多个过孔,每一所述像素电极穿过一所述过孔与对应的所述像素驱动电路接触。
4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述连接电极于所述平坦层的表面呈多次弯折结构。
5.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括依次层叠于所述平坦层的背离所述像素驱动电路的一侧的像素界定层、发光层以及阴极,所述像素界定层设于所述平坦层,并覆盖所述连接电极和所述像素电极,所述像素界定层开设有多个开口,每一所述开口朝向一所述像素电极设置,所述发光层分别凹设于多个所述开口与对应的所述像素电极接触,所述阴极凹设于多个所述开口与所述发光层接触,以形成多个所述发光区;
所述像素驱动电路于所述像素界定层的正投影位于多个所述发光区外。
6.如权利要求1至5任意一项中所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设于所述衬底基板上的电源线,所述像素驱动电路包括:
驱动晶体管,所述驱动晶体管的源极分别与多个所述像素电极连接,所述驱动晶体管的漏极与所述电源线连接;
开关晶体管,所述开关晶体管的漏极与所述数据线连接,所述开关晶体管的栅极与所述扫描线连接;以及
存储电容,所述存储电容包括相对设置的第一电极和第二电极,所述驱动晶体管的栅极和所述开关晶体管的源极均与所述第一电极连接,所述第二电极和所述驱动晶体管的漏极均与所述电源线连接。
7.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括自下而上层叠设置于所述衬底基板的有源层、栅绝缘层、第一金属层、层间介电层以及第二金属层;
所述有源层形成有所述驱动晶体管的有源层图案以及所述开关晶体管的有源层图案,所述第一金属层形成有所述驱动晶体管的栅极、所述开关晶体管的栅极以及所述第一电极,所述第二金属层形成有所述驱动晶体管的源极和漏极、所述开关晶体管的源极和漏极、所述电源线以及所述第二电极,所述驱动晶体管的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层与所述驱动晶体管的有源层图案接触,所述开关晶体管的源极和漏极分别穿设于所述层间介电层与所述开关晶体管的有源层图案接触。
8.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求1至7任意一项所述的阵列基板,所述阵列基板的子像素为红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素或白色子像素。
9.一种面板坏点修复方法,应用于如权利要求1至7任意一项中所述的阵列基板或权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述面板坏点修复方法包括如下步骤:
确定坏点发光区的位置;
切断坏点发光区对应的像素电极与像素驱动电路之间的连接;
以及,切断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极。
10.如权利要求9所述的面板坏点修复方法,其特征在于,所述切断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极的步骤包括:
采用激光切断坏点发光区对应的像素电极与像素电极之间的连接电极;
或,在坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间施加预设电流,以熔断坏点发光区对应的像素电极与相邻的像素电极之间的连接电极。
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