CN114000093A - 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置 - Google Patents

一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114000093A
CN114000093A CN202111337327.4A CN202111337327A CN114000093A CN 114000093 A CN114000093 A CN 114000093A CN 202111337327 A CN202111337327 A CN 202111337327A CN 114000093 A CN114000093 A CN 114000093A
Authority
CN
China
Prior art keywords
assembly
acne
gear
pox
pushing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202111337327.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114000093B (zh
Inventor
胡习光
张志祥
刘勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangyin Entret Coating Technology Co ltd
Original Assignee
Jiangyin Entret Coating Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangyin Entret Coating Technology Co ltd filed Critical Jiangyin Entret Coating Technology Co ltd
Priority to CN202111337327.4A priority Critical patent/CN114000093B/zh
Publication of CN114000093A publication Critical patent/CN114000093A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114000093B publication Critical patent/CN114000093B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134—Plasma spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/14—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying for coating elongate material
    • C23C4/16—Wires; Tubes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Abstract

本发明涉及靶材生产技术领域，尤其涉及一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置。包括固定在拖板上的母板，母板上滑动连接有除痘组件，所述母板在除痘组件两侧的位置滑动连接有推动组件，除痘组件一端的两侧设置有第二齿条，推动组件一端的一侧设置有第一齿条；母板上在除痘组件两侧的位置设置有安装板，所述安装板上转动连接有齿轮组件，所述齿轮组件上下两端分别设置有第一齿轮和第二齿轮，两个第一齿轮分别与两个第二齿条部相啮合，两个第二齿轮分别与两个第一齿条部相啮合，所述推动组件设置有推动轮的一端与母板之间设置有第一弹簧。本发明能在等离子喷涂的过程中去除沉积在靶材涂层上的痘，以免痘被埋没在后续的喷涂过程形成的涂层中。

Description

一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置
技术领域
本发明涉及靶材生产技术领域，尤其涉及一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置。
背景技术
旋转硅靶材和旋转硅铝靶材等陶瓷靶材一般用等离子喷涂工艺生产。如图1所示，不锈钢背管5两端安装有用于与转床1连接的夹具51，夹具51的外径大于不锈钢背管5的外径，转床1上设置有能左右移动的拖板2，拖板2的一侧设置有支架3，支架3上设置有喷枪4。在喷涂时，转床1驱动不锈钢背管5和夹具51转动，喷枪4左右往复移动并喷出熔融或半熔融的粉末，粉末一层一层(每层的厚度0.008毫米左右)的沉积在不锈钢背管5上形成靶材涂层，当涂层达到一定的厚度时(10毫米左右)，即可达到要求，之后再对涂层的外表进行打磨，使其具有要求的光洁度，即成为成品靶材。在喷涂时，喷枪4要移动到夹具51处(此时不送粉，所以不会有粉末沉积)才向回移动，以使得喷枪4在整个涂层长度内移动速度比较均匀。
在喷涂的过程中，喷枪4的喷嘴处容易沉积粉末，该粉末沉积在喷嘴处被等离子火焰长时间的灼烧，变得成为团状并随着粉末不断沉积逐渐长大。由于团状沉积物在一定程度上阻碍喷嘴火焰的喷出，当其大到一定程度后，受到的火焰吹力达到临界值，此时，其会从喷嘴处脱落并落在涂层上，并逐渐被埋没在后续的喷涂过程形成的涂层中，形成夹杂物，俗称为痘。由于其成份和物理性质均不同于涂层，在用靶材进行等离子溅射镀膜过程中，夹杂物难以溅射，造成此处薄膜的质量不合格。而痘被埋没在靶材的涂层中，当靶材喷涂完成后，痘难以发现和去除，因此含痘靶材往往被当做合格品发给客户，客户使用时导致薄膜质量不合格会向靶材生产厂家索赔，造成的损失更加严重。
发明内容
本发明所要解决的技术问题，是针对上述存在的技术不足，提供了一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，能在等离子喷涂的过程中去除沉积在靶材涂层上的痘，以免痘被埋没在后续的喷涂过程形成的涂层中。
按照本发明所采用的技术方案，一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，包括固定在拖板上的母板，所述母板上滑动连接有除痘组件，所述母板在除痘组件两侧的位置滑动连接有推动组件；所述除痘组件包括第二条体，所述第二条体一端的两侧设置有第二齿条部，所述第二条体的另一端转动连接有定位轮，所述第二条体在定位轮的一侧设置有除痘条刀；所述推动组件包括第一条体，所述第一条体一端的一侧设置有第一齿条部，所述第一条体的另一端转动连接有推动轮，所述推动轮远离除痘组件的一侧设置有倾斜部；所述母板上在除痘组件两侧的位置设置有安装板，所述安装板上转动连接有齿轮组件，所述齿轮组件上下两端分别设置有第一齿轮和第二齿轮，两个第一齿轮分别与两个第二齿条部相啮合，两个第二齿轮分别与两个第一齿条部相啮合，所述推动组件设置有推动轮的一端与母板之间设置有第一弹簧。
优选的，所述除痘组件设置有定位轮的一端与母板之间设置有第二弹簧。
优选的，所述除痘组件设置有第二齿条部的一端设置有阻挡条，所述阻挡条的投影位于至少一个安装板的端面内。
优选的，所述定位轮圆周位置的两侧都设置有刃口。
与现有技术相比，本发明具有以下优点：1、当痘落在不锈钢背管上后，除痘组件能在拖板一个往复移动的过程之内，将痘去掉，以免痘被夹杂在靶材涂层中，从而避免了靶材涂层中含痘的情况，经济效益显著；2、推动组件能推动除痘组件远离夹具，以免其撞在夹具上。
附图说明
图1为靶材喷涂生产的原理示意图。
图2为一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置的前轴侧视图。
图3为一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置的后轴侧视图。
图4为一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置的推动组件结构示意图。
图5为一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置的除痘组件结构示意图。
图6为一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置的定位轮的剖视图。
图中：1、转床；2、拖板；3、支架；4、喷枪；5、不锈钢背管；51、夹具；6、装置；61、母板；62、推动组件；621、第一条体；622、第一齿条部；623、推动轮；624、倾斜部；63、除痘组件；631、第二条体；632、第二齿条部；633、定位轮；6331、刃口；634、除痘条刀；64、第一弹簧；65、第二弹簧；66、安装板；67、齿轮组件；671、第一齿轮；672、第二齿轮；68、阻挡条。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本发明进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本发明的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本发明的概念。
具体实施方式：
结合图1-6所示，一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，包括固定在拖板2上的母板61，母板61位于不锈钢背管5的与喷枪4相对的一侧。所述母板61上滑动连接有除痘组件63，所述母板61在除痘组件63两侧的位置滑动连接有推动组件62。所述除痘组件63包括第二条体631，第二条体631与母板61滑动连接，所述第二条体631一端的两侧设置有第二齿条部632，所述第二条体631的另一端转动连接有定位轮633，定位轮633的材质优选高强度耐热材料。所述第二条体631在定位轮633的一侧设置有除痘条刀634，除痘条刀634的顶端设置有与不锈钢背管5的轴线平行且朝上的刀刃。所述推动组件62包括第一条体621，所述第一条体621一端的一侧设置有第一齿条部622，所述第一条体621的另一端转动连接有推动轮623，所述推动轮623远离除痘组件63的一侧设置有倾斜部624。在使用时，定位轮633与不锈钢背管5外面的涂层接触，而除痘条刀634的刀刃距离该涂层微小的距离(0.2-0.3毫米)，推动轮623距离该涂层0.5毫米左右甚至更大。所述母板61上在除痘组件63两侧的位置设置有安装板66，所述安装板66上转动连接有齿轮组件67，所述齿轮组件67上下两端分别设置有第一齿轮671和第二齿轮672，第一齿轮671的直径大于第二齿轮672的直径，两个第一齿轮671分别与两个第二齿条部632相啮合，两个第二齿轮672分别与两个第一齿条部622相啮合，所述推动组件62设置有推动轮623的一端与母板61之间设置有第一弹簧64。第一弹簧64能推动推动组件62向不锈钢背管5的方向伸出，并且通过齿条和齿轮的啮合推动除痘组件63向不锈钢背管5的方向伸出。定位轮633、推动轮623与不锈钢背管5的轴线在同一水平面上，除痘条刀634的刀刃的上边缘也位于该水平面上。不锈钢背管5的轴向方向上，两个推动轮623分别位于喷枪4的两侧且距离喷枪4一定的距离，定位轮633优选与喷枪4的位置重合。
所述除痘组件63设置有定位轮633的一端与母板61之间设置有第二弹簧65，能直接推动除痘组件63向不锈钢背管5的方向伸出。
所述除痘组件63设置有第二齿条部632的一端设置有阻挡条68，所述阻挡条68的投影位于至少一个安装板66的端面内。阻挡条68能防止除痘组件63向喷枪4的方向掉落。
所述定位轮633圆周位置的两侧都设置有刃口6331，也具有一定的除痘的作用。
工作原理：结合图1-6所示，在喷涂时，定位轮633与不锈钢背管5外部的涂层接触，当有喷枪4喷嘴处的团状沉积物落在涂层上形成痘时，由于此时痘高于涂层表面且未被后续涂层覆盖，在不锈钢背管转动的带动下，除痘条刀634会将痘铲掉，由于痘的硬度和密度较高，其会整体掉落。由于在喷涂时，喷枪4要移动到夹具51处(此时不送粉，所以不会有粉末沉积)才向回移动，以使得喷枪4在整个涂层长度内移动速度比较均匀，因此推动组件62是必要的，当喷枪4位于涂层的边缘时，推动轮623的倾斜部624刚好与夹具51接触，驱动推动组件62远离不锈钢背管5，由于第一齿轮671的直径大于第二齿轮672的直径，所以除痘组件63远离不锈钢背管5的速度更快、距离更远，当定位轮633和除痘条刀634运行到夹具51的位置时，其不会撞到夹具51(此时推动轮623的圆周面与夹具51接触，而定位轮633和除痘条刀634后退较多)。

Claims (4)

1.一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，其特征在于：包括固定在拖板(2)上的母板(61)，所述母板(61)上滑动连接有除痘组件(63)，所述母板(61)在除痘组件(63)两侧的位置滑动连接有推动组件(62)；所述除痘组件(63)一端的两侧设置有第二齿条部(632)，所述除痘组件(63)的另一端转动连接有定位轮(633)，所述除痘组件(63)在定位轮(633)一侧的位置设置有除痘条刀(634)；所述推动组件(62)一端的一侧设置有第一齿条部(622)，所述推动组件(62)的另一端转动连接有推动轮(623)，所述推动轮(623)远离除痘组件(63)的一侧设置有倾斜部(624)；所述母板(61)上在除痘组件(63)两侧的位置设置有安装板(66)，所述安装板(66)上转动连接有齿轮组件(67)，所述齿轮组件(67)上下两端分别设置有第一齿轮(671)和第二齿轮(672)，两个第一齿轮(671)分别与两个第二齿条部(632)相啮合，两个第二齿轮(672)分别与两个第一齿条部(622)相啮合，所述推动组件(62)设置有推动轮(623)的一端与母板(61)之间设置有第一弹簧(64)。
2.如权利要求1所述的一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，其特征在于：所述除痘组件(63)设置有定位轮(633)的一端与母板(61)之间设置有第二弹簧(65)。
3.如权利要求1所述的一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，其特征在于：所述除痘组件(63)设置有第二齿条部(632)的一端设置有阻挡条(68)，所述阻挡条(68)的投影位于至少一个安装板(66)的端面内。
4.如权利要求1-3任意一项所述的一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置，其特征在于：所述定位轮(633)圆周位置的两侧都设置有刃口(6331)。
CN202111337327.4A 2021-11-12 2021-11-12 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置 Active CN114000093B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111337327.4A CN114000093B (zh) 2021-11-12 2021-11-12 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111337327.4A CN114000093B (zh) 2021-11-12 2021-11-12 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114000093A true CN114000093A (zh) 2022-02-01
CN114000093B CN114000093B (zh) 2023-08-18

Family

ID=79928717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111337327.4A Active CN114000093B (zh) 2021-11-12 2021-11-12 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114000093B (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030047200A1 (en) * 2001-09-13 2003-03-13 Hammelmann Corporation Coatings removal head assembly and method of use
CN103436837A (zh) * 2013-08-28 2013-12-11 庄志杰 改进旋转靶材喷涂系统
CN203834001U (zh) * 2014-05-14 2014-09-17 厦门映日新材料科技有限公司 一种靶材等离子喷涂自吹积瘤装置
CN209879051U (zh) * 2019-03-07 2019-12-31 南京拓疆科技有限公司 一种自动剥除光纤中段涂覆层的设备
CN210081900U (zh) * 2019-03-29 2020-02-18 大连中盈科技股份有限公司 一种可裁纸的切刀结构
JP2021169145A (ja) * 2020-04-15 2021-10-28 南通金昌机械制造有限公司 機械的切削による除錆機
CN113580018A (zh) * 2021-08-16 2021-11-02 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 一种靶材喷砂电弧装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030047200A1 (en) * 2001-09-13 2003-03-13 Hammelmann Corporation Coatings removal head assembly and method of use
CN103436837A (zh) * 2013-08-28 2013-12-11 庄志杰 改进旋转靶材喷涂系统
CN203834001U (zh) * 2014-05-14 2014-09-17 厦门映日新材料科技有限公司 一种靶材等离子喷涂自吹积瘤装置
CN209879051U (zh) * 2019-03-07 2019-12-31 南京拓疆科技有限公司 一种自动剥除光纤中段涂覆层的设备
CN210081900U (zh) * 2019-03-29 2020-02-18 大连中盈科技股份有限公司 一种可裁纸的切刀结构
JP2021169145A (ja) * 2020-04-15 2021-10-28 南通金昌机械制造有限公司 機械的切削による除錆機
CN113580018A (zh) * 2021-08-16 2021-11-02 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 一种靶材喷砂电弧装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN114000093B (zh) 2023-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100387754C (zh) 一种含铬类金刚石薄膜的制备方法
CN112981386A (zh) 一种增强基体与激光冷喷涂涂层结合强度的矩形框预热轨迹的工艺方法和冷喷涂设备
JPWO2008081585A1 (ja) スパッタリングターゲットとその製造方法
US11619766B2 (en) Micro- and nano-hot embossing method for optical glass lens arrays
CN102719796A (zh) 具有硬质涂层的被覆件及其制备方法
CN201596974U (zh) 靶材表面喷砂系统
CN111451190A (zh) 靶材的清洗方法
CN102586744B (zh) 靶材及其形成方法
CN114000093A (zh) 一种用于靶材等离子喷涂生产的除痘装置
CN109437582A (zh) 一种具有抗眩光的3d玻璃的制作方法
JP2003183820A (ja) スパッタリングターゲット
CN111455371B (zh) 一种铜旋转靶材的制备方法
JP2005002364A (ja) スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP2003320552A (ja) 光ディスク成形用金型装置
CN112935839B (zh) 一种g5一体铝靶材的加工方法
CN213538090U (zh) 一种固定牢靠的真空溅射镀膜用治具
CN108330433A (zh) 一种塑料电镀工件的环保焊接方法
CN107686972A (zh) 一种共掺杂类金刚石薄膜的制备方法
JP2953287B2 (ja) 表面に凹凸形状を有する磁気記録媒体の製造方法
CN202097171U (zh) 一种玻璃碎屑的清除装置
TW201532739A (zh) 經最佳化之紋理化表面及最佳化的方法
CN114714257B (zh) 一种靶材的喷砂方法
CN211303544U (zh) 一种轧辊生产用表面喷涂装置
WO2012044904A2 (en) Method to reduce adhered glass from lcd substrate
EP4163416A1 (en) A vacuum unit for producing multilayer interference coatings on an optical element

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant