CN113985636A - 显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种显示装置及其制作方法。该显示装置包括显示面板和摄像组件，显示面板包括与摄像组件对应的摄像区域，显示面板分为透光区和反射区，显示面板包括层叠设置的阵列基板和彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；阵列基板包括第一衬底和位于第一衬底靠近彩膜基板一侧的反射层，反射层位于反射区；彩膜基板包括第二衬底和位于第二衬底靠近阵列基板一侧的色阻层和偏光层，其中，色阻层和偏光层位于反射区；其中，摄像组件位于阵列基板远离彩膜基板的一侧，摄像区域内的透光区的面积占比为20％～40％。本申请实施例提供的显示装置的摄像区域既能够满足显示需求用能够满足摄像的透光需求，实现液晶产品的屏下显示。

Description

显示装置及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示领域，具体而言，本申请涉及一种显示装置及其制作方法。

背景技术

现阶段全面屏基本是通过OLED显示屏搭载屏下摄像头来实现，而缺乏液晶屏下摄像产品。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示装置及其制作方法，能够实现液晶屏下摄像。

第一个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括显示面板和摄像组件，所述显示面板包括与所述摄像组件对应的摄像区域；

所述显示面板分为透光区和反射区，所述显示面板包括层叠设置的阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；

所述阵列基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述彩膜基板一侧的反射层，所述反射层位于所述反射区；

所述彩膜基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的色阻层和偏光层，其中，所述色阻层和所述偏光层位于所述反射区；

其中，所述摄像组件位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧，所述摄像区域内的所述透光区的面积占比为20％～40％。

可选地，所述反射层包括多个凸起部。

可选地，所述反射层为粗糙化反射层。

可选地，所述偏光层在所述第一衬底上的正投影与所述反射层在所述第一衬底上的正投影重合。

可选地，所述偏光层包括在所述第一衬底靠近所述阵列基板的方向上依次层叠的第一偏光层、第二偏光层和第三偏光层，所述第一偏光层为线偏光层，所述第二偏光层为1/2波片，所述第三偏光层为1/4波片。

可选地，所述色阻层在所述第一衬底上的正投影与所述反射层在所述第一衬底上的正投影重合。

可选地，所述显示装置还包括常规显示区，所述常规显示区内的所述透光区的面积占比等于所述摄像区域内的所述透光区的面积占比。

可选地，所述显示面板还包括常规显示区，所述常规显示区内的所述透光区的面积占比小于所述摄像区域内的所述透光区的面积占比，所述常规显示区内的所述透光区的面积为10％～20％。

可选地，所述常规显示区包括多个第一像素单元，所述摄像区域包括多个第二像素单元和多个像素空位区，相邻所述第一像素区之间的距离等于相邻所述第二像素区的距离，所述像素空位区为透光区。

可选地，所述常规显示区包括有多个第一像素单元，所述摄像区域包括多个第二像素，相邻所述第一像素单元之间的距离小于相邻所述第二像素单元的距离。

可选地，所述显示装置还包括：辅助光源，位于所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧。

第二个方面，本申请实施例提供了一种显示装置的制作方法，所述显示装置包括显示面板和摄像组件，所述显示面板包括与所述摄像组件对应的摄像区域，所述显示面板分为透光区和反射区，所述制作方法包括：

提供第一衬底且在所述第一衬底上形成反射层以作为阵列基板，所述反射层位于所述反射区，所述摄像区域内的所述透光区的面积占比为20％～40％；

提供第二衬底且在所述第二衬底上依次形成色阻层和偏光层以作为彩膜基板，所述色阻层和所述偏光层位于所述反射区；

将所述彩膜基板和所述阵列基板进行对盒并在所述彩膜基板和所述阵列基板之间注入液晶层；

在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧设置所述摄像组件。

可选地，提供第一衬底且在所述第二衬底上依次形成色阻层和偏光层，包括：

提供第二衬底并在所述第二衬底上以沉积或喷墨打印法形成色阻层，所述色阻层位于所述反射区；

在所述色阻层远离所述第二衬底的一侧以喷墨法形成偏光层，所述偏光层位于所述反射区。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果是：

本申请实施例提供的显示装置及其制作方法，显示面板的摄像区域内的透光区的面积占比为20％～40％，摄像区域既能够满足显示需求用能够满足摄像的透光需求，实现液晶产品的屏下显示。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种显示装置的摄像区的局部结构示意图；

图3为本申请实施例提供的显示装置在开启状态下的偏光示意图；

图4为本申请实施例提供的显示装置在关闭状态下的偏光示意图；

图5为本申请实施例提供的另一种显示装置的摄像区的局部结构示意图；

图6为本申请实施例提供的一种显示装置中的阵列基板的局部俯视结构示意图；

图7为本申请实施例提供的一种显示装置中的阵列基板的局部膜层结构示意图；

图8为本申请实施例提供的一种显示装置的显示区的俯视结构示意图；

图9为本申请实施例提供的显示装置的一种像素排布示意图；

图10为本申请实施例提供的显示装置的另一种像素排布示意图；

图11为本申请实施例提供的显示装置的又一种像素排布示意图；

图12为本申请实施例提供的又一种显示装置的结构示意图；

图13为本申请实施例提供的一种显示装置的制作方法的流程示意图；

图14为本申请实施例提供的显示装置制作方法中步骤S2的流程示意图；

图15为本申请实施例提供的显示装置的制作方法中所使用的喷墨版的局部结构示意图。

附图标记：

1-显示面板；11-阵列基板；111-第一衬底；112-反射层；113-栅极线；G-栅极；114a-栅极绝缘层；115-有源层；116-数据线；S-源极；G-漏极；114b-层间绝缘层；117-像素电极；114c-平坦化层；118-公共电极；114d-有机层；12-彩膜基板；121-第二衬底；122-色阻层；123-偏光层；1231-第一偏光层；1232-第二偏光层；1233-第三偏光层；13-液晶层；

2-摄像组件；

3-辅助光源；

4-喷墨版；40-小孔；40a-第一区域；40b-第二区域；

10-摄像区域；10a-透光区；10b-反射区；20-常规显示区；

100-第一像素单元；200-第二像素单元；R-红色子像素；G-绿色子像素；B-蓝色子像素。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。

现阶段全面屏基本是通过OLED显示屏搭载屏下摄像头来实现，而缺乏液晶屏下摄像产品。

本申请提供的显示装置及其制作方法，旨在解决现有技术的如上技术问题。

本申请实施例提供了一种显示装置，如图1所示，该显示装置包括显示面板1和摄像组件2，显示面板1包括与摄像组件2对应的摄像区域10。

如图1和图2所示，本实施例提供的显示装置中，显示面板1分为透光区10a和反射区10b，显示面板1包括层叠设置的阵列基板11和彩膜基板12以及位于阵列基板11和彩膜基板12之间的液晶层13。

阵列基板11包括第一衬底111和位于第一衬底111靠近彩膜基板12一侧的反射层112，反射层112位于反射区10b；彩膜基板12包括第二衬底121和位于第二衬底121靠近阵列基板11一侧的色阻层122和偏光层123，其中，色阻层122和偏光层123位于反射区10b；其中，摄像组件2位于阵列基板11远离彩膜基板12的一侧，摄像区域10内的透光区10a的面积占比为20％～40％。

具体地，第一衬底111和第二衬底121均玻璃基板，透光区10a不设置反射层112、偏光层123以及色阻层122，使得显示面板1具有高透光性。

需要说明的是，本申请中所说的“摄像区域10内的透光区10a的面积占比”是指摄像区域内透光区10a的面积与摄像区域10的总面积之比；同理，后续实施例中“常规显示区内的透光区的面积占比”是指常规显示区内透光区的面积与常规显示区的总面积之比。

本实施例提供的显示装置，摄像区域10内的透光区10a的面积占比为20％～40％，摄像区域10既能够满足显示需求用能够满足摄像的透光需求，实现液晶产品的屏下显示。

可选地，如图2所示，本实施例提供的显示装置中，偏光层123在第一衬底111上的正投影与反射层112在第一衬底111上的正投影重合。

可选地，如图2所示，本实施例提供的显示装置中，色阻层122在第一衬底111上的正投影与反射层112在第一衬底111上的正投影重合。

通过将偏光层123、色阻层122和反射层112进行层叠设置，有利于在保证显示效果的同时尽可能提升透光区10a的面积，从而提升显示面板1的透光性。

可选地，本实施例提供的显示装置为反射式液晶显示装置，如图3和图4所示，本实施例提供的显示装置中，偏光层123包括在第一衬底111靠近阵列基板11的方向上依次层叠的第一偏光层1231、第二偏光层1232和第三偏光层1233，第一偏光层1231为线偏光层，第二偏光层1232为1/2波片，第三偏光层1233为1/4波片。

具体地，外界环境光入射后，经过线偏光层变为线性偏振光，线性偏振光经过1/2波片和1/4波片后，偏振态变为左旋圆偏光。如图3所示，不加电时显示屏处于“on”状态，即透光状态，液晶层13通过调整各向异性和盒厚，达到1/4波长的位相延迟，所以光线通过液晶层13后偏振态又变为线偏光。线性偏振光被反射层112反射不影响偏振状态，再经过液晶层13、1/4波片、1/2波片，变回线偏振光与线偏光片的透光轴一致，光线通过实现白态。

如图4所示，加电后显示屏处于“off”状态，液晶层13因为垂直电场立起来，位相差为0，光线经过液晶层13后偏振态不变。反射层112反射后位相突变为右旋圆偏光，再次透过1/4波片、1/2波片变为线偏振光，其透过轴与偏光片的透过轴垂直，光线无法从偏光片射出，形成暗态。反射区10b可以实现正常显示。

具体地，偏光层123的材料为具有偏光特性的有机染料分子制备的各向异性薄膜偏光层123，例如三偶氮染料，也可以是具有各向异性的反应型液晶添加二色性染料所形成的涂布型薄膜液晶偏光膜，或者为纳米线栅偏光层123。

可选地，如图5所示，本实施例提供的显示装置中，反射层112包括多个凸起部。也就是反射层112表面凹凸不平，如此能够使得入射光线照射到发射层上形成漫反射，从而提升显示效果。

进一步地，如图5所示，本实施例提供的显示装置中，反射层112为粗糙化反射层，粗糙化反射层是指将反射层112的表面进行粗糙化处理以进一步加强漫反射，从而进一步提升显示效果。

具体地，如图6和图7所示，本实施例提供的显示装置中，阵列基板11还包括位于第一衬底111与反射层112之间且在第一衬底111指向反射层112的方向上依次层叠的栅极层、栅极绝缘层114a、有源层115、源漏电极层、层间绝缘层114b、像素电极117层、平坦化层114c、公共电极118层、有机层114d，其中，通过在有机层114d表面形成凸起以使反射层112包括多个凸起。

如图6和图7所示，栅极层包括多条栅极线113和与栅极线113连接的栅极G。源漏电极层包括数据线116、源极S和漏极D，其中源极S与数据线116连接，漏极D与像素电极117通过过孔连接。

需要说明的是，图6和图7所示的阵列基板11中主要由栅极G、有源层115以及源极S和漏极D等构成的薄膜晶体管为底栅结构，但根据具体实施需求，也可以形成顶栅结构的薄膜晶体管。

本实施例晶体管的显示装置中，数据线116、栅极线113、像素电极117以及公共电极118等均位于反射层112下方，且被发射层完全遮挡，并不会影响透光区10a的面积，并且发射层的不透光性使得彩膜基板12无需设置黑矩阵，有利于简化工艺。

可选地，如图8和图9所示，本实施例提供的显示装置中，显示面板1还包括常规显示区20，常规显示区20内的透光区10a的面积占比等于摄像区域10内的透光区10a的面积占比。

如图8和图9所示，第一像素单元100之间的距离为第一距离d1，第二像素单元200之间的距离为第二距离d2，d1＝d2。也就是常规显示区20和摄像区域10内的像素排布相同。

在一个具体的实施例中，透光区10a的面积占比为30％，透光区10a的透过率＝97％(阵列基板11透过率)*95％(彩膜基板12透过率)*98％(液晶层13透过率)＝90.3％。在上述透光区10a面积占比以及透光区10a的透光率能够满足拍照效果。

如图8和图9所示，本实施例提供的显示装置中，常规显示区20和摄像区域10的像素排布相同，像素排布方式相同，显示效果相同，即，正常显示区域的反射区10b面积占比70％，经过验证，显示屏反射率能达到30％，能够满足显示效果。

如图8、图10和图11所示，本实施例提供的显示装置中，显示面板1还包括常规显示区20，常规显示区20内的透光区10a的面积占比小于摄像区域10内的透光区10a的面积占比，常规显示区20内的透光区10a的面积为10％～20％。也就是使得摄像区域10的透光区10a的面积占比较大，有利于提升摄像区域10的光透过率。

可选地，如图8和图10所示，常规显示区20包括有多个第一像素单元100，摄像区域10包括多个第二像素，相邻第一像素单元100之间的距离小于相邻第二像素单元200的距离。

如图10所示，第一像素单元100之间的距离为第一距离d1′，第二像素单元200之间的距离为第二距离d2′，d1′<d2′。也就是常规显示区20的像素密度大于摄像区域10的像素密度。

可选地，如图8和图11所示，常规显示区20包括多个第一像素单元100，摄像区域10包括多个第二像素单元200和多个像素空位区300，相邻第一像素区之间的距离等于相邻第二像素区的距离，像素空位区300为透光区10a。

具体地，像素空位区即一个第二像素单元200所在的区域，也就是将原本需要设置第二像素单元200的位置作为透光区10a来提升透光区10a的面积。

如图11所示，在一个具体的实施例中，常规显示区20的反射区10b的面积占比82％，透光区10a的面积占比18％；摄像区域10中每6个第二像素单元200保留5个做显示，另外1个第二像素单元200通过不设置金属反射层112、色阻层122、偏光片以作为透光区10a，能够满足摄像需求。本实施例提供的显示装置其显示区反射率更高，具有更好的显示效果。

如图9至图11所示，本实施例提供的显示装置中，第一像素单元100和第二像素单元200均包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B。

可选地，如图12所示，本实施例提供的显示装置还包括辅助光源3，该辅助光源3位于彩膜基板12远离阵列基板11的一侧。

具体地，辅助光源3可以为位于显示屏周围的LED灯，也可以为前置背光。前置背光主要由导光板和灯条。

本实施例提供的显示装置，通过设置辅助光源3能够在反射式液晶显示装置在户外光线较弱的时候，开启辅助光源3来提升显示效果和摄像效果。

基于同一发明构思，本实施例提供了一种显示装置的制作方法，如图1和图2所示，显示装置包括显示面板1和摄像组件2，显示面板1包括与摄像组件2对应的摄像区域10，显示面板1分为透光区10a和反射区10b。

如图1、图2和图13所示，本实施例提供的显示装置的制作方法包括：

S1：提供第一衬底111且在第一衬底111上形成反射层112以作为阵列基板11，反射层112位于反射区10b，摄像区域10内的透光区10a的面积占比为20％～40％；

S2：提供第二衬底121且在第二衬底121上依次形成色阻层122和偏光层123以作为彩膜基板12，色阻层122和偏光层123位于反射区10b；

S3：将彩膜基板12和阵列基板11进行对盒并在彩膜基板12和阵列基板11之间注入液晶层13；

S4：在阵列基板11远离彩膜基板12的一侧设置摄像组件2。

具体地，第一衬底111和第二衬底121均玻璃基板，透光区10a不设置反射层112、偏光层123以及色阻层122，使得显示面板1具有高透光性。

本实施例提供的显示装置的制作方法，获取的显示装置的摄像区域10内的透光区10a的面积占比为20％～40％，摄像区域10既能够满足显示需求用能够满足摄像的透光需求，实现液晶产品的屏下显示。

可选地，如图14所示，本实施例提供的显示装置的制作方法中，步骤S2包括：

S201：提供第二衬底121并在第二衬底121上以沉积或喷墨打印法形成色阻层122，色阻层122位于反射区10b；

S202：在色阻层122远离第二衬底121的一侧以喷墨法形成偏光层123，偏光层123位于反射区10b。

具体地，如图15所示，在喷墨设备的喷墨版4上有若干个小孔40，小孔40紧密排布，每个小孔40可以喷出固定的液体。喷墨版4的小孔40仅分别在与反射区10b对应的区域第二区域40b，而与透光区对应的第一区域40a则不设置小孔40。这样对应于彩膜基板12的透光区10a不设置有偏光层123，而对应彩膜基板12的反射区10b域设置有偏光层123。

具体地，步骤S202具体包括：在色阻层122远离第二衬底121的一侧以喷墨法一次形成第一偏光层1231、第二偏光层1232和第三偏光层1233，第一偏光层1231为线偏光层，第二偏光层1232为1/2波片，第三偏光层1233为1/4波片。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

本申请实施例提供的显示装置及其制作方法，显示面板的摄像区域内的透光区的面积占比为20％～40％，摄像区域既能够满足显示需求用能够满足摄像的透光需求，实现液晶产品的屏下显示。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (13)

1.一种显示装置，包括显示面板和摄像组件，所述显示面板包括与所述摄像组件对应的摄像区域，其特征在于，

所述显示面板分为透光区和反射区，所述显示面板包括层叠设置的阵列基板和彩膜基板以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层；

所述阵列基板包括第一衬底和位于所述第一衬底靠近所述彩膜基板一侧的反射层，所述反射层位于所述反射区；

所述彩膜基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的色阻层和偏光层，其中，所述色阻层和所述偏光层位于所述反射区；

其中，所述摄像组件位于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧，所述摄像区域内的所述透光区的面积占比为20％～40％。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述反射层包括多个凸起部。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述反射层为粗糙化反射层。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述偏光层在所述第一衬底上的正投影与所述反射层在所述第一衬底上的正投影重合。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，所述偏光层包括在所述第一衬底靠近所述阵列基板的方向上依次层叠的第一偏光层、第二偏光层和第三偏光层，所述第一偏光层为线偏光层，所述第二偏光层为1/2波片，所述第三偏光层为1/4波片。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述色阻层在所述第一衬底上的正投影与所述反射层在所述第一衬底上的正投影重合。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括常规显示区，所述常规显示区内的所述透光区的面积占比等于所述摄像区域内的所述透光区的面积占比。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板还包括常规显示区，所述常规显示区内的所述透光区的面积占比小于所述摄像区域内的所述透光区的面积占比，所述常规显示区内的所述透光区的面积为10％～20％。

9.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述常规显示区包括多个第一像素单元，所述摄像区域包括多个第二像素单元和多个像素空位区，相邻所述第一像素区之间的距离等于相邻所述第二像素区的距离，所述像素空位区为透光区。

10.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述常规显示区包括有多个第一像素单元，所述摄像区域包括多个第二像素，相邻所述第一像素单元之间的距离小于相邻所述第二像素单元的距离。

11.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，还包括：

辅助光源，位于所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧。

12.一种显示装置的制作方法，所述显示装置包括显示面板和摄像组件，所述显示面板包括与所述摄像组件对应的摄像区域，所述显示面板分为透光区和反射区，其特征在于，所述制作方法包括：

提供第一衬底且在所述第一衬底上形成反射层以作为阵列基板，所述反射层位于所述反射区，所述摄像区域内的所述透光区的面积占比为20％～40％；

提供第二衬底且在所述第二衬底上依次形成色阻层和偏光层以作为彩膜基板，所述色阻层和所述偏光层位于所述反射区；

将所述彩膜基板和所述阵列基板进行对盒并在所述彩膜基板和所述阵列基板之间注入液晶层；

在所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧设置所述摄像组件。

13.根据权利要求12所述的显示装置的制作方法，其特征在于，提供第一衬底且在所述第二衬底上依次形成色阻层和偏光层，包括：

提供第二衬底并在所述第二衬底上以沉积或喷墨打印法形成色阻层，所述色阻层位于所述反射区；

在所述色阻层远离所述第二衬底的一侧以喷墨法形成偏光层，所述偏光层位于所述反射区。

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