CN114924447B - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，包括围绕显示区的非显示区；显示区包括阵列排布的多个像素单元；每个像素单元包括多个透光区和围绕各透光区的非透光区；阵列基板还包括位于衬底基板一侧的像素功能层；以及与各像素单元一一对应设置的多个反射结构；在垂直于衬底基板所在平面的方向上，反射结构与非透光区交叠且与透光区互不交叠；其中，显示区包括第一显示区和第二显示区，第二显示区位于第一显示区与非显示区之间；第二显示区中至少部分反射结构在衬底基板上的正投影的面积大于第一显示区中各反射结构在衬底基板上的正投影的面积。本发明提供的技术方案，能够提高显示均一性。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

液晶显示装置通常为背光型液晶显示，包括液晶显示面板和背光模组，随着液晶显示装置的不断发展，对液晶显示的亮度要求也越来越高，现有的液晶显示装置由于制备工艺等各种因素的影响，通常表现为边缘或四角区域的显示亮度比中间区域的显示亮度低，导致显示亮度不均一，影响显示效果。

发明内容

本发明提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，以提高显示均一性，进而提高显示效果。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；所述显示区包括阵列排布的多个像素单元；每个所述像素单元包括多个透光区和围绕各所述透光区的非透光区；

所述阵列基板还包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的像素功能层；

以及，位于所述衬底基板一侧且与各所述像素单元一一对应设置的多个反射结构；在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述反射结构与所述非透光区交叠且与所述透光区互不交叠；

其中，所述显示区包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区与所述非显示区之间；所述第二显示区中至少部分所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积大于所述第一显示区中各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括：

第一方面所述的阵列基板；

以及，位于所述阵列基板中所述像素功能层远离所述衬底基板一侧的对置基板。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：

第二方方面所述的显示面板；

以及，位于所述显示面板中所述阵列基板远离所述对置基板一侧的背光模组；所述背光模组用于为所述显示面板提供光源。

本发明实施例的技术方案，通过在阵列基板中的非透光区设置反射结构，可以使得光线经过反射结构的反射后被重复利用，更多的由透光区出射，提高光线的利用率，同时，将阵列基板对应的显示区分为第一显示区和第二显示区，第二显示区位于第一显示区和非显示区之间，且第二显示区中设置反射结构在衬底基板上的正投影的面积设置为大于第一显示区中各反射结构在衬底基板上的正投影的面积，使得第二显示区相比于第一显示区具有更高的光线利用率，提高第二显示区的透光亮度，减少第一显示区和第二显示区的亮度差异，保证第一显示区和第二显示区的亮度均一性。应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的局部俯视结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的俯视结构示意图；

图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图14为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；

图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的局部俯视结构示意图，图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图，结合图1和图2所示，阵列基板包括：显示区10和围绕显示区10的非显示区20；显示区10包括阵列排布的多个像素单元11；每个像素单元11包括多个透光区111和围绕各透光区111的非透光区112；阵列基板还包括：衬底基板12；位于衬底基板12一侧的像素功能层13；以及，位于衬底基板12一侧且与各像素单元11一一对应设置的多个反射结构14；在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，反射结构14与非透光区112交叠且与透光区111互不交叠；其中，显示区10包括第一显示区101和第二显示区102，第二显示区102位于第一显示区101与非显示区20之间；第二显示区102中至少部分反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积大于第一显示区101中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积。

具体的，当将阵列基板应用于显示面板中时，该显示面板可以为需要采用背光模组提供光源的非自发光的显示面板，例如液晶显示面板。此时，从背光模组提供的光源从阵列基板中衬底基板12背离像素功能层13的一侧进入阵列基板，并透过阵列基板中各像素单元11的透光区111后到达显示面板的显示面。其中，像素功能层13至少可以包括像素电极层和公共电极层，像素电极层可以包括与各透光区111一一对应的像素电极134，即各像素电极134的至少部分位于透光区111，公共电极层可以包括公共电极132，公共电极132可以为整层结构，也可以为独立的块状结构，本发明实施例对此不做具体限定。此时，公共电极132的材料和像素电极134的材料均包括透明导电材料，例如氧化铟锡等；此外，像素电极层与公共电极层之间还设置有绝缘层133，该绝缘层133可以为有机和/或无机绝缘层，本发明实施例对此不做具体限定。当显示面板为液晶显示面板时，通过像素电极134与公共电极132产生电场可以驱动液晶显示面板中液晶分子扭转，而使得背光模组提供的光透过透光区111到达显示面板的显示面。

需要说明的是，透过同一所述像素单元11中各透光区111到达显示面板的显示面处的光的颜色可以相同或不同，本发明实施例对此不做限定。同时，在本发明实施例中每个像素单元11可以包括多个透光区111，即像素单元11可以包括两个或两个以上的透光区111，且各像素单元11中所包括的透光区111的数量可以相同或不同，可根据实际需要进行设计，本发明实施例对此不做具体限定。在本发明实施例中，均以每个像素单元11包括三个透光区111为例对本发明实施例的技术方案进行示例性的说明。

可以理解的是，像素单元11中的透光区111能够透过由衬底基板12背离像素功能层13的一侧入射的光到达显示面板的显示面，而由衬底基板12背离像素功能层13的一侧入射的光无法透过围绕各透光区111的非透光区112到达显示面板的显示面。同时，在本发明实施例中，第二显示区102位于第一显示区102与非显示区20之间，此时第二显示区102可以围绕第一显示区102，也可以位于第一显示区102的一侧或相对的两侧，本发明实施例对此不做具体限定。此外，图1中仅示例性的示出了显示区20中像素单元11及其透光区111的排布方式，而在本发明实施例中像素单元11及其透光区111的排布方式不限于此，可根据实际需要进行设计。

继续结合参考图1和图2，通过在阵列基板中的非透光区112中设置反射结构14，使得反射结构14能够对有衬底基板12背离像素功能层13一侧入射的光进行反射，使得该部分光被反射后改变出射方向，由透光区111出射，而不会被损失于非透光区112中，从而有利于提高光的利用率。同时，由于受提供光源的背光模组、阵列基板本身以及显示面板的其它部件的结构的影响，致使显示区10的中靠近非显示区20的部分区域出射的光的亮度小于显示区10中远离非显示区20的区域出射的光的亮度，这使得显示区10的边缘区域的显示发光亮度与其中心区域的显示发光亮度无法保持一致。此时，通过将更靠近非显示区20的第二显示区102中的部分反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积设置为大于较远离非显示区20的第一显示区101中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积，使得第二显示区102中的反射结构14能够具有更大的反射面积，即由衬底基板12背离像素功能层13一侧入射的光到达第二显示区102的非透光区后，能够全部或较多地被反射结构14反射后重新利用，使得第二显示区102具有更高的光的利用率，可相对提高第二显示区102的显示发光亮度，从而弥补因阵列基板本身以及提供光源的背光模组的结构影响显示发光亮度不足的情况，进而使得第一显示区101中的透光亮度与第二显示区102中的透光亮度保持一致，有利于提高显示面板的显示均一性。

此外，因将反射结构14设置于与非透光区112交叠，而与透光区111互不交叠，使得反射结构14不会影响透光区111的正常透光，能够保证阵列基板具有较高的开口率。其中，反射结构14的材料包括但不限于具有较高反射能力的金属等，例如反射结构14的材料包括但不限于银或者铝等。

需要说明的是，图2中示出的阵列基板的膜层结构并非为阵列基板的全部膜层结构，仅为阵列基板的部分膜层结构，除图2中所示出的主要膜层结构外，显示面板中还可以包括其它膜层，本发明实施例对此不做具体限定。同时，图2中所示出的各膜层之间的相对位置关系仅为本发明实施例示例性的位置关系，在能够实现本发明实施例的核心发明点的前提下，本领域人员可基于此膜层关系进行随意变换，本发明实施例对此不做具体限定。

此外，可以理解的是，衬底基板12用于支撑和保护位于其上的膜层，衬底基板12可以为刚性基板，例如衬底基板12的材料为玻璃，衬底基板10还可以为柔性基板，例如，衬底基板12的材料可以包括聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯和乙酸丙酸纤维素的聚合物树脂中的一种或多种组合。本发明实施例对衬底基板12的材料不做具体限定。

本发明实施例中，通过在阵列基板中的非透光区设置反射结构，可以使得光线经过反射结构的反射后被重复利用，更多的由透光区出射，提高光线的利用率，同时，将阵列基板对应的显示区分为第一显示区和第二显示区，第二显示区位于第一显示区和非显示区之间，且第二显示区中设置反射结构在衬底基板上的正投影的面积设置为大于第一显示区中各反射结构在衬底基板上的正投影的面积，使得第二显示区相比于第一显示区具有更高的光线利用率，提高第二显示区的透光亮度，减少第一显示区和第二显示区的亮度差异，保证第一显示区和第二显示区的亮度均一性。

需要说明的，结合参考图1和图2，每个像素单元11一一对应设置有反射结构14，即与各像素单元11对应的反射结构14位于该像素单元11所在的区域内，不同像素单元11对应的反射结构14可以相互独立，或者，不同像素单元11对应的反射结构14也可互联，本发明实施例对此不做具体限定。其中，每个反射结构14的形状及尺寸可根据需要进行设置，本发明实施例对此也不做具体限定。此外，位于同一第一显示区101和/或第二显示区102中的各个反射结构的形状及其在衬底基板12上的正投影的面积可以相同或不同，可根据实际需要进行设计，本发明实施例对此也不做限定。

在一可选的实施例中，图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的俯视结构示意图，如图3所示，沿第一显示区101指向非显示区20的方向，位于第二显示区102的各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积逐渐增大。

具体的，位于第二显示区102的各反射结构14可以是不同的，沿第一显示区101指向非显示区20的方向，即从远离非显示区的一侧到靠近非显示区的一侧所在的方向，第二显示区102的各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积逐渐增大，可以理解的，越靠近非显示区20的位置，反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积就越大，反射结构14对光的反射量就逐渐增大，进而在对光的利用率就越大，使得沿第一显示区101指向非显示区20的方向，透光区112的出光亮度就会增大，以保证显示区各个位置处的显示发光亮度的均一性。此外，因显示区10边缘位置处光的利用率提高后，该区域处的出光亮度可能大于第一显示区101的出光亮度，通过设置第二显示区102中反射结构14在衬底基板12上的投影面积逐渐增大，使得第二显示区102光的利用率逐渐增大，各个位置处的显示发光亮度能够平缓过渡，避免因亮度突变而产生的明显的明暗边界，从而有利于提高整体显示均一性。

需要注意的是，本实施例中第一显示区101中的各个反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积可以是相同或不同，本发明实施例对此不做限定。

可选的，图4为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图，如图4所示，沿第一显示区101指向非显示区20的方向，位于第一显示区101的各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积逐渐增大。

具体的，位于第一显示区101的各反射结构14可以是不同的，沿第一显示区101指向非显示区20的方向，第一显示区101的各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积逐渐增大，可以理解的，越靠近第二显示区102的位置，反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积就越大，使得第一显示区101中靠近第二显示区102的反射结构14能够将更多的光线进行反射，并由透光区111出射，来提高光的利用率，进而提高透光亮度，保证整体的出光均一性，从而提高显示质量。

需要注意的是，第一显示区101和第二显示区102的反射结构14可以均具有渐变的趋势，或者，第一显示区101和第二显示区102的其中之一的反射结构14具有渐变的趋势，本发明实施例对此不做限定。

可选的，图5为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图，如图5所示，显示区10可以为矩形结构；第二显示区102包括多个第一子显示区1021和多个第二子显示区1022；第一子显示区1021位于矩形结构相邻的两条边的夹角位置；第二子显示区1022位于相邻两个第一子显示区1021之间；第一子显示区1021中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积大于第二子显示区1022中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积。

其中，图5中仅示例性地示出了第一子显示区1021和第二子显示区1022中像素单元11的排布方式和数量，而在本发明实施例中第一子显示区1021和第二子显示区1022中像素单元11的排布方式和数量可以根据实际需要进行设计，本发明实施例对此不做限定。

可以理解的是，第一子显示区1021分别位于显示区10的四个角落位置，由于第一子显示区1021受背光模组、阵列基板本身及显示面板中其它部件的结构的影响，而具有更低的透光亮度，使得第一子显示区1021需要更多的亮度补偿。其中，本发明实施例对第一子显示区1021的形状和大小不做具体限定，可根据需要划定第一子显示区1021的形状和大小；第二子显示区1022位于相邻两个第一子显示区1021之间，第一子显示区1021和第二子显示区1022组成围绕第一显示区101的第二显示区102。

具体的，由于相较于第二子显示区1022，第一子显示区1021具有较低透光亮度，通过将第一子显示区1021中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积设置为大于第二子显示区1022中各反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积，可以使得第一子显示区1021中的反射结构能够对非透光区112处的更多的光进行反射，使得到达第一子显示区1021的光具有更高的利用率，在光的利用率提高后能够相对提高透过第一子显示区1021中光的亮度，以达到亮度补偿的目的。本实施例根据各像素单元11所在的位置，对各像素单元11对应的反射结构14的大小进行细分，能够进一步提高的显示均一性。

可选的，图6为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图，如图6所示，第一显示区101中反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积为0。

可以理解的是，由于第一显示区101位于显示区10的中心区域，该第一显示区101的透光程度及背光模组中对应第一显示区101的区域提供的光源的亮度均能够满足显示发光需求，因此第一显示区101内可不设置反射结构14，即第一显示区101中反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积为0。此时，仅在第二显示区102中设置反射结构14，以使反射结构14对到达第二显示区102的光进行反射，以平衡第一显示区101与第二显示区102的显示发光亮度，如此，同样可以提高第二显示区102的显示亮度，保证显示发光亮度的均一性。

需要说明的是，本实施例仅示例性的对第一显示区101中未设置反射结构14的情况进行了说明；而在本发明实施例中，即使第一显示区101的透光亮度以及背光模组中对应第一显示区101的区域提供的光源的亮度均能够满足正常的显示发光需求，为进一步提高显示发光亮度，同样可以在第一显示区101中设置反射结构14，以使得到达第一显示区101中的光也能够具有较高的利用率，从而有利于包括该阵列基板的显示面板的低功耗。

可选的，图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图，如图7所示，位于第二显示区102的反射结构14包括第一反射部141；第二显示区102中，第一反射部141位于同一列且相邻两个像素单元11之间。

其中，第一反射部141可以是一个或多个，当第一反射部141为多个时，可以分别设置在同一列相邻两个像素单元11之间，图7仅为示例性的给出像素单元11包括两个第一反射部141，在Y方向上，多个第一反射部141分别位于像素单元11的两侧。如此，背光模组提供的光源到达第一反射部141时，能够使光在第一反射部141上发生反射，改变光的传播方向，最终到达透光区11，并透过透光区11后出射，提高到达第二显示区102的光的利用率，从而有利于提高第二显示区102的显示发光亮度，保证显示发光的均一性。

需要注意的是，第一显示区101中反射结构14也可以与第二显示区102的反射结构14的设置方式相同，但不限此，只需满足第二显示区102中至少部分反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积大于第一显示区101中各个反射结构14在衬底基板12上的正投影的面积即可，以确保第二显示区102比第一显示区101具有更高的光的利用率，来提高显示发光的均一性。

可选的，继续参考图7，任意两个第一反射部141互不连接；第一反射部141在第一方向X上的尺寸L2小于或等于像素单元11在第一方向X上的尺寸L1，以及第一反射部141在第二方向Y上的尺寸W2小于或等于位于同一列的相邻两个像素单元11之间的非透光区112在第二方向Y上的尺寸W1；其中，第二方向Y为像素单元11的列方向，第一方向X为像素单元11的行方向。

具体的，由于阵列基板上通常设置有呈网格状的信号走线，该信号走线用于传输数据信号或者扫描信号，如此，将第一反射部141在第一方向X上的尺寸L2小于或等于像素单元11在第一方向X上的尺寸L1，且第一反射部141在第二方向Y上的尺寸W2小于或等于位于同一列的相邻两个像素单元11之间的非透光区112在第二方向Y上的尺寸W1，可以有效避免反射结构14对像素单元11以外的信号线路的布线以及正常工作造成影响，并且不会影响像素单元11透光区111的透光率，保证显示发光的均一性。

此外，第二显示区102中任意两个第一反射部141均是互不连接的，通过将各第一反射部141设置为相互独立的结构，如此，相较于整层设置的情况，能够有效降低第一反射部141上的静电积累量，从而能够改善因制程、搬运等过程中产生的静电在第一反射部141上累积而影响器件的性能的问题，提高阵列基板的生产良率和使用寿命。

可选的，图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视结构示意图，如图8所示，像素单元11中的各透光区111沿第一方向X依次排列；位于第二显示区102的至少部分反射结构14还包括第二反射部142；第一方向X为像素单元11的行方向；第二反射部142位于沿第一方向X排列的任意相邻两个透光区111之间。

其中，第二反射部142可以是一个或多个，可根据实际需要进行设计，本发明实施例对此不做具体限定。图8仅为示例性的给出像素单元11包括两个第二反射部142，分别位于在第一方向X上排列且相邻两个透光区111之间，以使背光模组提供的光源到达该相邻两个透光区111之间的非透光区112时，设置于该相邻两个透光区111之间的第二反射部142能够对光线进行反射，以改变光的传播方向，并最终由透光区111出射，提高到达第二显示区102的光线的利用率，保证显示发光亮度的均一性。

可选的，继续参考图8，任意两个第二反射部142互不连接；第二反射部142在第二方向Y上的尺寸W3小于或等于透光区111在第二方向Y上的尺寸W4，以及第二反射部142在第一方向X上的尺寸L3小于或等于沿第一方向X排列的相邻两个透光区111之间的非透光区112在第一方向X上的尺寸L4；第二方向Y为像素单元11的列方向。

具体的，通过设置第二反射部142在第二方向Y上的尺寸W3小于或等于透光区111在第二方向Y上的尺寸W4，可以有效避免反射结构14对像素单元11以外的信号线路的布线以及正常工作造成影响，。与此同时，设置第二反射部142在第一方向X上的尺寸L3小于或等于沿第一方向X排列的相邻两个透光区111之间的非透光区112在第一方向X上的尺寸L4，可以避免第二反射部142对透光区111的光线发生阻挡而影响透光区111的光线透过率。

在另一实施例中，参考图9所示，第二显示区102中的反射结构14还可以同时包括第一反射部141和第二反射部142，同样的，相邻的反射部之间不存在任何连接，以避免产生静电影响阵列基板中的器件的性能。可以理解的，图9仅示例性的示出了第二显示区102的各反射结构均包括第一反射部141和第二反射部142。而在本发明实施例中，可根据实际需要仅第二显示区102中部分区域，例如位于显示区10边角位置处的像素单元11对应的反射结构14包括第一反射部141和第二反射部142，而其它像素单元11可仅包括第一反射部141或第二反射部142；或者，在本发明实施例中还可以为，第二显示区102中部分像素单元11对应的反射结构14包括第一反射部141，另一部分像素单元11对应的反射结构14包括第二反射部142，可根据实际需要进行设置，本发明实施例对此不做具体限定。

可选的，图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，如图10所示，像素单元11包括薄膜晶体管15；薄膜晶体管15位于非透光区112；像素功能层13包括绝缘间隔设置的半导体层135、第一金属层136和第二金属层137；半导体层135包括薄膜晶体管15的有源层151，第一金属层136包括薄膜晶体管15的栅极152，第二金属层137包括薄膜晶体管15的源极153和漏极154；阵列基板12还包括：位于半导体层135靠近衬底基板12一侧的光阻挡层16；光阻挡层16包括光阻挡结构161；在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，光阻挡结构161与有源层151交叠且与透光区111互不交叠。

其中，像素功能层13可通过沉积、蒸镀、涂覆或喷墨打印等方法制备，各结构的形成方式可根据显示面板的制作方法的实际需求设置，此处不作限定。薄膜晶体管15的栅极152、源极153、漏极154和有源层151的具体材料本领域技术人员也可根据实际情况设置，此处不作限定。示例性的，栅极152的材料可以采用钼、钛铝钛等，源极153和漏极154的材料可以采用钼铝钼、钛铝钛等，有源层151的材料可以采用低温多晶硅或氧化物半导体等。薄膜晶体管15的栅极152可接受相应的扫描信号，以使该薄膜晶体管15能够在扫描信号的控制下导通或关闭，像素单元11中还可以包括位于各透光区111的像素电极134，薄膜晶体管15的源极153和漏极154中的一个与像素电极134电连接，另一个接收数据电压信号，以在该薄膜晶体管15处于导通状态时，能够将数据电压信号传输至像素电极134，以使像素电极134与公共电极132之间产生相应强度的电场，驱动液晶分子发生相应程度的扭转，控制该像素电极所处的透光区11的透光亮度。

可以理解的，光阻挡层16与半导体层135之间至少包括一层绝缘层，该绝缘层可以复用阵列基板中已有的膜层，例如缓冲层131，缓冲层131可以帮助减少或阻止来自衬底基板12下方的异物、湿气或外部空气的渗透，并在衬底基板12上提供平坦的表面。缓冲层131可以包括无机材料，例如氧化物或氮化物，或有机材料，或有机/无机复合材料，并且具有包括无机材料和有机材料的单层或多层结构。

具体的，在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，光阻挡结构161与有源层151交叠，此时，光阻挡结构161在衬底基板12上的投影面积可以大于或等于有源层151在衬底基板12上的投影面积，如此，光阻挡结构161可以阻挡背光模组提供的光源照射到有源层151，避免因背光模组提供的光源照射到有源层151上，影响有源层151中载流子的迁移率而引起不必要漏电流，从而能够提高各个透光区111的透光亮度的准确性。同时，光阻挡结构161与透光区111互不交叠，以避免影响透光区111光线透过率，保证包括该阵列基板的显示面板具有较高的开口率。

可选的，继续参考图10，光阻挡层16的反射率大于第一金属层136和/或第二金属层137的反射率；光阻挡层16还包括反射结构14的至少部分。

具体的，反射结构14可以与光阻挡结构161同层设置，可以理解的是，反射结构14可以设置在光阻挡结构161之间，也可以将光阻挡结构161直接复用为至少部分反射结构14，此处不做限定，图10仅示例性的示出反射结构14设置在光阻挡结构161之间，如此可以减少阵列基板膜层设置的数量，利于显示装置的轻薄化设计。需要注意的是，若光阻挡结构161复用为反射结构14，光阻挡结构161在衬底基板12上的投影面积可以大于有源层151在衬底基板12上的投影面积，以在阻挡光线到达有源层151的前提下，保证光阻挡结构161对光线具有足够的反射能力。

此外，当反射结构14与光阻挡结构161同层设置时，光阻挡层16的反射率大于第一金属层136和/或第二金属层137的反射率，以保证反射结构14对光线具有较强的反射能力以及较小的吸收能力，提高设置有反射结构14的区域处光线的利用率，进而有利于提高整体的显示发光亮度，同时，有利于提高显示发光亮度的均一性。

在另可选的一实施例中，图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，如图11所示，第一金属层136还包括反射结构14的至少部分；和/或，第二金属层137还包括反射结构14的至少部分。

可以理解的，反射结构14可以仅设置在第一金属层136，或者仅设置在第二金属层137，或者同时设置在第一金属层136和第二金属层137，本发明实施例对此不做限定。此时，薄膜晶体管15的栅极152、或者源极153、或者漏极154可以复用为反射结构14，或者是相互绝缘，本实施例对此不做限定。需要说明的是，相邻两个薄膜晶体管15的栅极、以及相邻两个薄膜晶体管15的源漏极之间需要相互绝缘，以避免影响薄膜晶体管15的正常工作。

示例性的，图11示出了反射结构14分别与栅极152、和源极153与漏极154同层设置，在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，位于第一金属层136和第二金属层137中的反射结构14可以不存在交叠，或者存在部分交叠，如此可以使反射结构14在衬底基板12上的垂直投影具有较大的面积，同时，能够使光线既能在第一金属层136中的反射结构14上发生反射，也能够在第二金属层137中的反射结构14上发生反射，从而能够使得设置有反射结构14的区域具有较高的光的利用率，提高该区域的显示发光亮度，从而有利于提高显示发光亮度的均一性。

可选的，图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，如图12所示，阵列基板还包括位于衬底基板12一侧的反射层17；反射层17包括反射结构14的至少部分；反射层17的反射率大于第一金属层136和/或第二金属层137的反射率。

其中，反射层17的材料包括但不限于银或者铝等金属材料。

可以理解的，通过额外设置一层膜层作为反射层17，可以根据需求任意设置反射结构14的位置以及大小，无需受限于其他结构的影响，保证足够多的光线通过反射结构14反射后，由透光区114出射，利于提高显示装置的出光均一性，进而提高显示效果。

可选的，继续参考图12，反射层17位于光阻挡层16与像素功能层13之间；在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，反射层17中的反射结构14的至少部分与光阻挡结构161互不交叠。

其中，图12示例性的给出了反射层17位于半导体层135与光阻挡层16之间，可以理解的，在反射层17、半导体层135与光阻挡层16之间还设置有其他无机绝缘层，其材料包括但不限于氧化硅或者氮化硅。

具体的，由于背光模组位于光阻挡结构161远离反射层17的一侧，设置反射层17中的反射结构14与光阻挡结构161互不交叠，可以保证背光模组提供的部分光源能够不受光阻挡结构161的阻挡而到达反射结构14，并在反射结构14上发生反射后，能够被重新利用，最终由透光区111出射，以提高显示发光亮度的均一性。

或者，在另一个实施例中，图13为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，如图13所示，反射层17也可以位于光阻挡层16靠近衬底基板12的一侧。

可以理解的是，将反射层17设置在光阻挡层16靠近衬底基板12的一侧，此时，反射结构14的大小和位置可以根据设计需求任意设置，换言之，在垂直于衬底基板12所在平面的方向Z上，反射结构14可以与光阻挡结构161存在部分交叠，将原本照射到光阻挡结构161上的光线进行反射，同样利于提高由透光区111出射的光线的光通量，从而提高显示亮度，同时，提高显示发光亮度的均一性。

此外，在其他实施例中，反射层17还可以是位于半导体层135与第一金属层136之间，或者位于第一金属层136与第二金属层137之间，或者位于第二金属层137远离第一金属层136一侧，本发明实施例对此不做任何限定，本领域技术人员可根据实际需求选择性设置。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，图14为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图，如图14所示，该显示面板包括上述任一实施例中的阵列基板；以及，位于阵列基板中像素功能层13远离衬底基板12一侧的对置基板19。因此，该显示面板具有与阵列基板相同的有益效果，可参考上文理解，此处不再赘述。

可以理解的，显示面板还包括位于阵列基板与对置基板19之间的液晶层18，液晶层18中的液晶分子在像素电极和公共电极产生的电场的作用下发生扭转，使得背光模组提供的光透过透光区到达显示面板的显示面。其中，位于阵列基板中像素功能层13远离衬底基板12一侧的对置基板19包括黑色遮光结构191和色阻192，黑色遮光结构191用于遮挡色阻192之间的间隙，减少彼此干扰所产生的光害，色阻192用于透过与其颜色相同的光。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图15所示，该显示装置1包括上述显示面板100；以及，位于显示面板100中阵列基板远离对置基板一侧的背光模组；背光模组用于为显示面板100提供光源。因此，该显示装置也具有上述实施方式中的显示面板和阵列基板所具有的有益效果，相同之处可参照上文对显示面板和阵列基板的解释说明进行理解，下文不再赘述。

需要说明的是，背光模组可以是直下式背光模组，也可以是侧入式背光模组，本发明实施例对此不做限定。

本发明实施例提供的显示装置1可以为图15所示的手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、工控设备、医用显示屏、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。

上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。

Claims (16)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；所述显示区包括阵列排布的多个像素单元；每个所述像素单元包括多个透光区和围绕各所述透光区的非透光区；

所述阵列基板还包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的像素功能层；

以及，位于所述衬底基板一侧且与各所述像素单元一一对应设置的多个反射结构；在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述反射结构与所述非透光区交叠且与所述透光区互不交叠；所述反射结构用于对由所述衬底基板背离所述像素功能层一侧入射的光进行反射后改变光的出射方向，使被反射后的光由所述透光区出射；

其中，所述显示区包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区与所述非显示区之间；所述第二显示区中至少部分所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积大于所述第一显示区中各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述第一显示区指向所述非显示区的方向，位于所述第二显示区的各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述第一显示区指向所述非显示区的方向，位于所述第一显示区的各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区为矩形结构；所述第二显示区包括多个第一子显示区和多个第二子显示区；所述第一子显示区位于所述矩形结构相邻的两条边的夹角位置；所述第二子显示区位于相邻两个所述第一子显示区之间；

所述第一子显示区中各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积大于所述第二子显示区中各所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一显示区中所述反射结构在所述衬底基板上的正投影的面积为0。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，包括：位于所述第二显示区的所述反射结构包括第一反射部；

所述第二显示区中，所述第一反射部位于同一列且相邻两个所述像素单元之间。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，任意两个所述第一反射部互不连接；

所述第一反射部在第一方向上的尺寸小于或等于所述像素单元在所述第一方向上的尺寸，以及所述第一反射部在第二方向上的尺寸小于或等于位于同一列的相邻两个所述像素单元之间的所述非透光区在所述第二方向上的尺寸；

其中，所述第二方向为所述像素单元的列方向，所述第一方向为所述像素单元的行方向。

8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元中的各所述透光区沿第一方向依次排列；位于所述第二显示区的至少部分所述反射结构还包括第二反射部；所述第一方向为所述像素单元的行方向；

所述第二反射部位于沿所述第一方向排列的任意相邻两个所述透光区之间。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，任意两个所述第二反射部互不连接；

所述第二反射部在第二方向上的尺寸小于或等于所述透光区在所述第二方向上的尺寸，以及所述第二反射部在所述第一方向上的尺寸小于或等于沿第一方向排列的相邻两个所述透光区之间的所述非透光区在所述第一方向上的尺寸；所述第二方向为所述像素单元的列方向。

10.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括薄膜晶体管；所述薄膜晶体管位于所述非透光区；

所述像素功能层包括绝缘间隔设置的半导体层、第一金属层和第二金属层；所述半导体层包括所述薄膜晶体管的有源层，所述第一金属层包括所述薄膜晶体管的栅极，所述第二金属层包括所述薄膜晶体管的源极和漏极；

所述阵列基板还包括：

位于所述半导体层靠近所述衬底基板一侧的光阻挡层；所述光阻挡层包括光阻挡结构；在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述光阻挡结构与所述有源层交叠且与所述透光区互不交叠。

11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述光阻挡层的反射率大于所述第一金属层和/或所述第二金属层的反射率；

所述光阻挡层还包括所述反射结构的至少部分。

12.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层还包括所述反射结构的至少部分；

和/或，所述第二金属层还包括所述反射结构的至少部分。

13.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，还包括：

位于所述衬底基板一侧的反射层；所述反射层包括所述反射结构的至少部分；所述反射层的反射率大于所述第一金属层和/或所述第二金属层的反射率。

14.根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层位于所述光阻挡层与所述像素功能层之间；在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上，所述反射层中的所述反射结构的至少部分与所述光阻挡结构互不交叠；

或者，所述反射层位于所述光阻挡层靠近所述衬底基板的一侧。

15.一种显示面板，其特征在于，包括：

权利要求1-14任一项所述的阵列基板；

以及，位于所述阵列基板中所述像素功能层远离所述衬底基板一侧的对置基板。

16.一种显示装置，其特征在于，包括：

权利要求15所述的显示面板；

以及，位于所述显示面板中所述阵列基板远离所述对置基板一侧的背光模组；所述背光模组用于为所述显示面板提供光源。